高真空分子束源炉.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 202020215848.7 (22)申请日 2020.02.26 (73)专利权人 苏州泓沵达仪器科技有限公司 地址 215000 江苏省苏州市相城区太平街 道金澄路88-1号8209室 (72)发明人 王宁 (74)专利代理机构 无锡市汇诚永信专利代理事 务所(普通合伙) 32260 代理人 汪建华 (51)Int.Cl. C23C 14/28(2006.01) (54)实用新型名称 一种高真空分子束源炉 (57)摘要 本实用新型公开一种高真空分子束源炉， 包 括蒸发坩埚和设。

2、置在蒸发坩埚下方的蒸发源， 蒸 发源通过圆筒与蒸发坩埚底部连接， 位于圆筒内 部具有升降平台， 蒸发源固定在升降平台上， 升 降平台上固定有丝杠， 丝杠另一端与圆筒底部螺 纹连接， 延伸至圆筒外。 蒸发源为现有束源炉的 蒸发源， 提供能量使得蒸发坩埚内的物质蒸发。 本实用新型的优点在于： 升降平台在丝杠的作用 下能够上下移动， 控制升降平台和蒸发坩埚之间 的距离； 由电机带动齿轮转动， 从而带动丝杠转 动， 随后带动升降平台上下运动， 限位环的设置 能够防止丝杠脱出， 保温棉的设置能够防止内部 热量散出。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 211689216 U 2020.10.16。

3、 CN 211689216 U 1.一种高真空分子束源炉， 包括蒸发坩埚(1)和设置在蒸发坩埚(1)下方的蒸发源(2)， 蒸发源(2)通过圆筒(5)与蒸发坩埚(1)底部连接， 其特征在于： 位于所述圆筒(5)内部具有 升降平台(3)， 蒸发源(2)固定在升降平台(3)上， 升降平台(3)上固定有丝杠(4)， 丝杠(4)另 一端与圆筒(5)底部螺纹连接， 延伸至圆筒(5)外。 2.根据权利要求1所述的高真空分子束源炉， 其特征在于： 位于圆筒(5)外的丝杠(4)啮 合有齿轮(6)， 齿轮(6)中心固定连接有电机(7)的输出轴。 3.根据权利要求2所述的高真空分子束源炉， 其特征在于： 位于所述圆。

4、筒(5)外的丝杠 (4)端部一体成型有限位环(9)。 4.根据权利要求1所述的高真空分子束源炉， 其特征在于： 所述升降平台(3)为圆形， 且 丝杠(4)固定在圆筒(5)底部中心位置。 5.根据权利要求1所述的高真空分子束源炉， 其特征在于： 所述圆筒(5)外包裹有保温 棉(8)。 权利要求书 1/1 页 2 CN 211689216 U 2 一种高真空分子束源炉 技术领域 0001 本实用新型涉及真空镀膜领域， 具体涉及一种高真空分子束源炉。 背景技术 0002 束源炉是一种蒸发镀膜装置的内部结构， 它是在真空条件下通过加热材料使坩埚 中的被蒸发物在衬底上沉积各种化合物、 混合物单层膜或多层。

5、膜， 可用于镀半导体、 金属、 氧化物、 纳米级单层及多层功能膜。 在蒸发镀膜的过程中， 蒸发源的位置与被蒸物基片的距 离有一定要求， 两者的距离太远或者太近， 镀膜的效果都不佳， 目前大多数有机物蒸发束源 炉无法调节高度， 或者调节高度的方法很麻烦， 或者无法显示目前升降距离， 因此获得一种 可控制蒸发源和蒸发坩埚之间的距离的束源炉十分重要。 实用新型内容 0003 本实用新型的目的是针对上述问题， 提供一种高真空分子束源炉， 包括蒸发坩埚 和设置在蒸发坩埚下方的蒸发源， 蒸发源通过圆筒与蒸发坩埚底部连接， 位于圆筒内部具 有升降平台， 蒸发源固定在升降平台上， 升降平台上固定有丝杠， 丝杠。

6、另一端与圆筒底部螺 纹连接， 延伸至圆筒外。 蒸发源为现有束源炉的蒸发源， 提供能量使得蒸发坩埚内的物质蒸 发。 0004 通过上述技术方案， 升降平台在丝杠的作用下能够上下移动， 控制升降平台和蒸 发坩埚之间的距离。 0005 作为上述一种优选方式， 位于圆筒外的丝杠啮合有齿轮， 齿轮中心固定连接有电 机的输出轴。 位于圆筒外的丝杠端部一体成型有限位环。 升降平台为圆形， 且丝杠固定在圆 筒底部中心位置。 圆筒外包裹有保温棉。 0006 通过上述技术方案， 由电机带动齿轮转动， 从而带动丝杠转动， 随后带动升降平台 上下运动， 限位环的设置能够防止丝杠脱出， 保温棉的设置能够防止内部热量散出。

7、。 0007 与现有技术相比， 本实用新型的优点在于： 升降平台在丝杠的作用下能够上下移 动， 控制升降平台和蒸发坩埚之间的距离； 由电机带动齿轮转动， 从而带动丝杠转动， 随后 带动升降平台上下运动， 限位环的设置能够防止丝杠脱出， 保温棉的设置能够防止内部热 量散出。 附图说明 0008 图1为本实用新型主视截面图。 0009 附图标记： 1-蒸发坩埚； 2-蒸发源； 3-升降平台； 4-丝杠； 5-圆筒； 6-齿轮； 7-电机； 8-保温棉； 9-限位环。 具体实施方式 0010 为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型， 从而对本实用新型要求保护的范 说明书 1/2 页 3 CN 21。

8、1689216 U 3 围作出更清楚地限定， 下面就本实用新型的某些具体实施例对本实用新型进行详细描述。 需要说明的是， 以下仅是本实用新型构思的某些具体实施方式仅是本实用新型的一部分实 施例， 其中对于相关结构的具体的直接的描述仅是为方便理解本实用新型， 各具体特征并 不当然、 直接地限定本实用新型的实施范围。 0011 参阅附图所示， 本实用新型采用以下技术方案， 一种高真空分子束源炉， 包括蒸发 坩埚和设置在蒸发坩埚下方的蒸发源， 蒸发源通过圆筒与蒸发坩埚底部连接， 位于圆筒内 部具有升降平台， 蒸发源固定在升降平台上， 升降平台上固定有丝杠， 丝杠另一端与圆筒底 部螺纹连接， 延伸至圆。

9、筒外。 蒸发源为现有束源炉的蒸发源， 提供能量使得蒸发坩埚内的物 质蒸发。 升降平台在丝杠的作用下能够上下移动， 控制升降平台和蒸发坩埚之间的距离。 圆 筒与蒸发源坩埚底部固定连接。 0012 位于圆筒外的丝杠啮合有齿轮， 齿轮中心固定连接有电机的输出轴。 位于圆筒外 的丝杠端部一体成型有限位环。 升降平台为圆形， 且丝杠固定在圆筒底部中心位置。 圆筒外 包裹有保温棉。 由电机带动齿轮转动， 从而带动丝杠转动， 随后带动升降平台上下运动， 限 位环的设置能够防止丝杠脱出， 保温棉的设置能够防止内部热量散出。 0013 本领域技术人员在本实用新型构思的指导下所作的常规选择和替换， 均应视为在 本实用新型要求保护的范围内。 说明书 2/2 页 4 CN 211689216 U 4 图1 说明书附图 1/1 页 5 CN 211689216 U 5 。