等离子体加速器法离子镀膜装置.pdf

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本发明的名称是等离子体加速器法离子镀膜装置，属于物理汽相沉积技术。同类技术存在液滴微团多、加速和镀膜效果较低。本发明注重霍耳加速效应的使用，加速器中带有圆柱状永久磁铁，永久磁铁与屏蔽相匹配，因此产生的电离蒸汽质量高、加速合理、镀膜效果好。可用于仿金装饰、工模具硬化等领域。 。

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内容关键字: 等离子体 加速器 离子 镀膜 装置
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