多等离子体束溅射共沉积装置.pdf

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多等离子体束溅射共沉积装置，主要用于等离子体沉积多成分薄膜。本发明在靶室中设有24个溅射沉积微波等离子体源和一个辅助沉积微波等离子体源。每一个微波等离子体源安装在靶室的通道上。溅射沉积通道中装有圆筒式靶片，靶片通以直流或高频溅射电压，吸引微波等离子体源产生的等离子体中的正离子轰击靶片，产生溅射作用。本发明杂质污染小，易于控制薄膜成分比例，适合制作高性能功能薄膜和纳米超薄膜。。

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内容关键字: 等离子体 溅射 沉积 装置
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