半导体衬底表面分析的预处理方法和装置.pdf
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一种半导体衬底表面分析的预处理装置,具有保持分解/回收液的衬底处理部分,所述分解/回收液要与经表面分析的衬底的整个表面接触;保持要进行表面分析的衬底并将要进行表面分析的衬底在衬底托架和衬底处理部分之间移动的衬底传输部分,用于分解/回收液的提供和排出装置,以及在衬底处理部分进行超声波或加热处理的处理操作部分。 。
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- 内容关键字: 半导体 衬底 表面 分析 预处理 方法 装置
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