一种煤气在窑炉上的使用方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 104075337 A (43)申请公布日 2014.10.01 C N 1 0 4 0 7 5 3 3 7 A (21)申请号 201410321403.6 (22)申请日 2014.07.08 201410084096.4 2014.03.10 CN F23K 5/00(2006.01) (71)申请人王万利 地址 255311 山东省淄博市周村区王村镇山 东二耐生活区27号楼2单元301号 (72)发明人王万利 (54) 发明名称 一种煤气在窑炉上的使用方法 (57) 摘要 煤气在窑炉上的使用方法，涉及煤气的使用 方法，减少煤气使用量，主管路煤气压力增加，煤 气。

2、炉氧化层下降小于或等于氧化层长度；增加煤 气使用量，主管路煤气压力减少，煤气炉氧化层上 升小于或等于氧化层长度。关小煤气阀，主管路煤 气压力升高值，被氧化层循环位置限制。开大煤气 阀，主管路煤气压力降低值，被氧化层循环位置限 制。氧化层循环的第一个环节，关小煤气阀。氧化 层循环的第二个环节，开大煤气阀。调节各烧嘴之 间流量，或清理烧嘴内灰尘，在氧化层循环的第二 个环节，氧化层上升过程。调节煤气阀，提前于煤 气炉内对应的煤气压力变化。窑炉两侧安装除渣 显示灯。本发明的优点在于，煤气炉气化效率高， 窑炉烧成温度高、稳定。 (66)本国优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书2页 。

3、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书2页 (10)申请公布号 CN 104075337 A CN 104075337 A 1/1页 2 1.一种煤气在窑炉上的使用方法，其特征是，包括： 减少煤气使用量，主管路煤气压力增加，煤气炉氧化层下降小于或等于氧化层长度； 增加煤气使用量，主管路煤气压力减少，煤气炉氧化层上升小于或等于氧化层长度。 2.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：关小煤气阀，主管路煤 气压力增加，小于或等于60-100Pa，氧化层循环位置高，并且氧化层循环位置底线高于温度 显示的氧化层底线，二底线距离大，主管路煤气压力。

4、增量大，二底线距离小，主管路煤气压 力增量小。 3.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：开大煤气阀，主管路煤 气压力减少，小于或等于60-100Pa，氧化层循环位置低，煤气压力减量大，氧化层循环位置 正确，主管路煤气压力减量小。 4.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：关小煤气阀，煤气炉内 煤气压力升高时间，氧化层循环的第一个环节，减少或消除氧化层上升因素的开始。 5.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：开大煤气阀，煤气炉内 煤气压力降低时间，氧化层循环的第二个环节，氧化层上升60s内。 6.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征。

5、在于：调节各烧嘴之间流量， 在氧化层循环第二个环节，氧化层上升过程；调节过程减少煤气炉内煤气压力变化；调节 结束主管路煤气压力不变。 7.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：清理烧嘴内灰尘，在氧 化层循环第二个环节，氧化层上升过程；清理过程减少煤气炉内煤气压力变化；清理结束 主管路煤气压力不变。 8.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：调节煤气阀，主管路煤 气压力变化，提前于煤气炉内对应的煤气压力变化，时间是主管路煤气压力变化由窑炉传 递到煤气炉。 9.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：窑炉两侧安装显示灯 和仪表，显示灯亮显示除渣，仪表显。

6、示单段式煤气炉出口煤气温度。 权 利 要 求 书CN 104075337 A 1/2页 3 一种煤气在窑炉上的使用方法 技术领域 0001 本发明涉及煤气的使用方法。 背景技术 0002 现有技术，窑炉开关煤气阀时间不确定，主管路煤气压力变化上限不确定，降低窑 炉烧成温度，降低煤气炉气化效率。 发明内容 0003 为解决上述问题，本发明的目的是提供一种利用开关煤气阀，对煤气炉的有利因 素，减少对窑炉、煤气炉不利因素的煤气使用方法。 0004 为了实现上述目的，本发明采取下述技术方案，包括： 0005 减少煤气使用量，主管路煤气压力增加，煤气炉氧化层下降小于或等于氧化层长 度，本发明没有特别说明。

7、，氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料层，上下氧化层 位置连接，气化效率高、稳定，窑炉烧成温度稳定； 0006 增加煤气使用量，主管路煤气压力减少，煤气炉氧化层上升小于或等于氧化层长 度，上下氧化层位置连接，气化效率稳定，窑炉烧成温度高、稳定。 0007 关小煤气阀，主管路煤气压力增加，小于或等于60-100Pa，氧化层循环位置高，并 且氧化层循环位置底线高于温度显示的氧化层底线，二底线距离大，主管路煤气压力增量 大，二底线距离小，主管路煤气压力增量小，作用，氧化层下降到原渣层，提高气化效率，减 少氧化层温度波动，窑炉烧成温度稳定。 0008 开大煤气阀，主管路煤气压力降低，小于或等于6。

8、0-100Pa，氧化层循环位置底，主 管路煤气压力减量大，氧化层循环位置正确，主管路煤气压力减量小，气化效率波动小，窑 炉烧成温度高、稳定。 0009 关小煤气阀，煤气炉内煤气压力升高时间，氧化层循环的第一个环节，减少或消除 氧化层上升因素的开始，煤气炉气化效率高、稳定，窑炉烧成温度稳定。 0010 开大煤气阀，煤气炉内煤气压力降低时间，氧化层循环的第二个环节，氧化层上升 60s内，氧化层温度高，煤气炉气化效率波动小，窑炉烧成温度高、稳定。 0011 煤气在需要的范围内，调节各烧嘴之间流量，在氧化层循环第二个环节，氧化层上 升过程，作用，氧化层温度高，气化效率波动小，窑炉烧成温度高、稳定；调节。

9、过程减少煤气 炉内煤气压力变化；调节结束主管路煤气压力不变。 0012 清理烧嘴内灰尘，在氧化层循环第二个环节，氧化层上升过程，作用，氧化层温度 高，气化效率波动小，窑炉烧成温度高、稳定；清理过程减少煤气炉内煤气压力变化；清理 结束主管路煤气压力不变。 0013 调节煤气阀，主管路煤气压力变化，提前于煤气炉内对应的煤气压力变化，时间是 主管路煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉，确定关小煤气阀、开大煤气阀，和停止调节煤气 阀，提前于煤气炉内对应的氧化层循环时间。 说 明 书CN 104075337 A 2/2页 4 0014 窑炉两侧安装显示灯和仪表，显示灯亮显示除渣，仪表显示单段式煤气炉出口煤 气。

10、温度，确定关小煤气阀、开大煤气阀，和停止调节煤气阀，对应的煤气炉出口煤气温度。 0015 发明效果：利用关煤气阀，提高煤气炉气化效率，简单的升降窑炉烧成温度，减少 开关煤气阀，对窑炉、煤气炉的不利因素。 具体实施方式 0016 本发明所述的煤气在窑炉上的使用方法，包括下述步骤： 0017 减少煤气使用量，主管路煤气压力增加，煤气炉氧化层下降小于或等于氧化层长 度，本发明没有特别说明，氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料层，上下氧化层 位置连接，气化效率高、稳定，窑炉烧成温度稳定； 0018 增加煤气使用量，主管路煤气压力减少，煤气炉氧化层上升小于或等于氧化层长 度，煤气炉上下氧化层位置连。

11、接，气化效率稳定，窑炉烧成温度高、稳定。 0019 关小煤气阀，一次主管路煤气压力增加，小于或等于60-100Pa，氧化层循环位置 高，并且氧化层循环位置底线高于温度显示的氧化层底线，二底线距离大，主管路煤气压力 增量大，煤气炉正常、稳定运行，二底线距离小，主管路煤气压力增加10-20Pa，氧化层温度 高，气化效率高，窑炉烧成温度稳定。 0020 开大煤气阀，主管路煤气压力降低，小于或等于60-100Pa，氧化层循环位置底，主 管路煤气压力减量大，快速提高窑炉烧成温度，氧化层循环位置正确，主管路煤气压力减少 10-20Pa，气化效率波动小，窑炉烧成温度高、稳定。 0021 关小煤气阀，煤气炉内。

12、煤气压力升高时间，氧化层循环的第一个环节，减少或消除 氧化层上升因素的开始，煤气炉气化效率高，窑炉烧成温度稳定。 0022 开大煤气阀，煤气炉内煤气压力降低时间，氧化层循环的第二个环节，氧化层开始 上升60s内，氧化层上升的和小于或等于氧化层长度，时间短，氧化层上升的和大于氧化层 长度，时间长，作用，氧化层温度高，煤气炉气化效率波动小，窑炉烧成温度高、稳定。 0023 煤气在需要的范围内，调节各烧嘴之间流量，在氧化层循环第二个环节，氧化层上 升过程，调节时间短，提前于氧化层循环第二个环节结束，气化效率高，窑炉烧成温度高、稳 定；调节过程减少煤气炉内煤气压力变化；调节结束主管路煤气压力不变。 0。

13、024 清理烧嘴内灰尘，在氧化层循环第二个环节，氧化层下降上升过程，清理时间短， 提前于氧化层循环第二个环节结束，气化效率高，窑炉烧成温度高、稳定；清理过程减少煤 气炉内煤气压力变化；清理结束主管路煤气压力不变。 0025 调节煤气阀，主管路煤气压力变化，提前于煤气炉内对应的煤气压力变化，时间是 主管路煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉，确定关小煤气阀、开大煤气阀，和停止调节煤气 阀，提前于煤气炉内对应的氧化层循环时间，如果窑炉到煤气炉煤气管路短，且煤气流速 快，提前时间短，忽略。 0026 窑炉两侧安装显示灯和仪表，显示灯显示除渣，仪表显示单段式煤气炉出口煤气 温度，确定关小煤气阀、开大煤气阀，和停止调节煤气阀，对应的煤气炉出口煤气温度，如果 窑炉到煤气炉煤气管路短，且煤气流速快，提前时间短，忽略，窑炉两侧不安装仪表，显示单 段式煤气炉出口煤气温度。 说 明 书CN 104075337 A 。