物理汽相淀积靶结构以及处理物理汽相淀积靶的方法.pdf

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本发明包括一种处理物理汽相淀积靶的方法(100)。该靶具有溅射表面(136)和在该溅射表面的周缘处的侧壁边缘(105)。该方法包括将一工具压在该侧壁边缘上，以在该靶的侧壁边缘中形成印迹(140)的分布。接着该工具(120)被从该侧壁边缘移去，留下延伸到该侧壁边缘中的印迹。本发明还包括一种物理汽相淀积靶。该靶包括具有外周缘的溅射表面和沿该溅射表面的外周缘的侧壁边缘。该侧壁边缘具有在其中延伸的重复的印。

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内容关键字: 物理 汽相淀积靶 结构 以及 处理 方法
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