光刻胶涂布装置.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201921952684.X (22)申请日 2019.11.13 (73)专利权人 甘肃华隆芯材料科技有限公司 地址 730900 甘肃省白银市白银区兰包路 333号(08)5幢1-01(孵化器基地)科研 一号楼306室 (72)发明人 李永斌 (74)专利代理机构 成都弘毅天承知识产权代理 有限公司 51230 代理人 张串串 (51)Int.Cl. G03F 7/16(2006.01) (54)实用新型名称 一种光刻胶涂布装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种光刻胶涂布装。

2、置。 所 述光刻胶涂布装置包括： 转轴、 涂布平台和转筒， 所述涂布平台水平设置并能够绕所述转轴转动， 以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转， 所述转筒包括从内朝外向下倾斜设置的筒底、 设 置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒底 和所述筒壁交汇处的排放管， 所述筒底的内沿与 所述涂布平台的外沿连接， 所述排放管上设置有 阀门。 所述光刻胶涂布装置能有效回收多余的光 刻胶， 大大节约了成本。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 210666332 U 2020.06.02 CN 210666332 U 1.一种光刻胶涂布装置， 其特征在于， 包括： 转轴、 涂布平台和转筒， 所述涂。

3、布平台水平 设置并能够绕所述转轴转动， 以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转， 所述转筒包 括从内朝外向下倾斜设置的筒底、 设置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒底和所述 筒壁交汇处的排放管， 所述筒底的内沿与所述涂布平台的外沿连接， 所述排放管上设置有 阀门。 2.根据权利要求1所述的光刻胶涂布装置， 其特征在于， 所述涂布平台的直径和所述玻 璃基板的直径相同。 3.根据权利要求1或2所述的光刻胶涂布装置， 其特征在于， 所述筒底与水平面的夹角 为5-10 。 4.根据权利要求3所述的光刻胶涂布装置， 其特征在于， 所述筒底与水平面的夹角为5- 6 。 5.根据权利要求1或2所述的光刻。

4、胶涂布装置， 其特征在于， 所述排放管至少有两个且 在所述转筒周向上等距离分布。 6.根据权利要求5所述的光刻胶涂布装置， 其特征在于， 所述排放管为四个， 且两两之 间呈90 夹角设置。 7.根据权利要求1或2所述的光刻胶涂布装置， 其特征在于， 所述光刻胶涂布装置还包 括盖体， 所述盖体与所述转筒的形状匹配并能够从上方覆盖所述转筒， 所述盖体上开设有 能够允许光刻胶注入的开口。 权利要求书 1/1 页 2 CN 210666332 U 2 一种光刻胶涂布装置 技术领域 0001 本实用新型属于半导体技术领域， 具体涉及一种光刻胶涂布装置。 背景技术 0002 在半导体器件和平板显示面板制造。

5、的光刻工艺中， 电路图形需要在基板表面涂布 光刻胶， 然后曝光、 显影。 现有技术中在基板表面涂布光刻胶的方法通常为离心涂布， 具体 方法为： 将基板平放在涂布台面上， 喷嘴利用均速泵产生的均匀压力， 将光刻胶涂布在基板 上， 然后通过旋转单元使得光刻胶在基板上涂布均匀。 然而， 为了使光刻胶可以均匀地涂布 于基板上， 通常会先在基板上涂布大量光刻胶， 然后旋转基板使光刻胶均匀涂布， 这种涂布 方式中大部分的光刻胶都在离心涂布的过程中被排入废液槽中， 造成光刻胶利用率低下。 而光刻胶材料又比较昂贵， 因此生产成本也会大大增加。 由此可见， 需要设计一种方便回收 光刻胶的光刻胶涂布装置。 发明内。

6、容 0003 实用新型要解决的问题 0004 为了解决现有技术中存在的光刻胶涂布过程中光刻胶利用率较低难以回收利用 的问题， 本实用新型提供了一种光刻胶涂布装置。 0005 用于解决问题的方案 0006 本实用新型提供了一种光刻胶涂布装置， 包括： 转轴、 涂布平台和转筒， 所述涂布 平台水平设置并能够绕所述转轴转动， 以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转， 所 述转筒包括从内朝外向下倾斜设置的筒底、 设置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒 底和所述筒壁交汇处的排放管， 所述筒底的内沿与所述涂布平台的外沿连接， 所述排放管 上设置有阀门。 0007 在以上技术方案中， 光刻胶旋转涂布前先。

7、关闭所述排放管上的阀门， 涂布中， 多余 的光刻胶沿着与所述涂布平台连接的且向下倾斜设置的所述筒底流动， 当涂布结束后， 打 开所述排放管回收多余的光刻胶。 所述筒壁能有效防止涂布中光刻胶因离心力飞溅。 0008 根据本实用新型所述的光刻胶涂布装置， 所述涂布平台的直径和所述玻璃基板的 直径相同。 传统的光刻胶涂布装置中旋涂平台的直径小于所述玻璃基板的直径， 涂布中多 余的光刻胶容易沿着玻璃基板流到玻璃基板的背面， 造成光刻胶的浪费， 而本实施方式中 将涂布平台的直径和所述玻璃基板的直径设置为相同， 进一步有效避免了光刻胶的浪费。 0009 根据本实用新型所述的光刻胶涂布装置， 所述筒底与水平。

8、面的夹角为5-10 ， 优选 为5-6 。 该夹角范围的坡度有利于多余光刻胶的流动， 方便回收。 0010 根据本实用新型所述的光刻胶涂布装置， 从光刻胶涂布装置对称性及涂布均匀性 的角度考虑， 所述排放管至少有两个且在所述转筒周向上等距离分布。 进一步， 所述排放管 为四个， 且两两之间呈90 夹角设置。 0011 根据本实用新型所述的光刻胶涂布装置， 为了防止涂布中光刻胶飞溅， 所述光刻 说明书 1/3 页 3 CN 210666332 U 3 胶涂布装置还包括盖体， 所述盖体与所述转筒的形状匹配并能够从上方覆盖所述转筒， 所 述盖体上开设有能够允许光刻胶注入的开口。 0012 实用新型的。

9、效果 0013 (1)本实用新型所提供的光刻胶涂布装置包括所述转筒， 能在光刻胶离心涂布时 有效收集多余的光刻胶， 同时防止光刻胶在高速离心力的作用下飞溅出来； 0014 (2)本实用新型所提供的光刻胶涂布装置中的转筒并非平底结构， 而是由内向外 倾斜的坡度结构， 有利于多余的光刻胶流到所述转筒边缘， 便于从所述排放管中回收。 附图说明 0015 包含在说明书中并且构成说明书的一部分的附图与说明书一起示出了本实用新 型的示例性实施例、 特征和方面， 并且用于解释本实用新型的原理。 0016 图1示出了本实用新型一实施例的光刻胶涂布装置的结构示意图； 0017 图2示出了本实用新型一实施例的光刻。

10、胶涂布装置的俯视图； 0018 图3示出了本实用新型又一实施例的光刻胶涂布装置的结构示意图。 0019 附图标记说明 0020 1： 转轴； 2： 涂布平台； 3： 转筒； 31： 筒底； 32： 筒壁； 33： 排放管； 34： 阀门； 4： 玻璃基 板； 5： 盖体； 51： 开口。 具体实施方式 0021 以下将参考附图详细说明本实用新型的各种示例性实施例、 特征和方面。 附图中 相同的附图标记表示功能相同或相似的元件。 尽管在附图中示出了实施例的各种方面， 但 是除非特别指出， 不必按比例绘制附图。 0022 另外， 为了更好的说明本实用新型， 在下文的具体实施方式中给出了众多的具体 。

11、细节。 本领域技术人员应当理解， 没有某些具体细节， 本实用新型同样可以实施。 在一些实 例中， 对于本领域技术人员熟知的方法、 手段、 元件未作详细描述， 以便于凸显本实用新型 的主旨。 0023 实施例1 0024 图1示出了本实用新型一实施例的光刻胶涂布装置的结构示意图。 图2示出了本实 用新型一实施例的光刻胶涂布装置的俯视图。 如图1和图2所示， 该光刻胶涂布装置包括： 转 轴1、 涂布平台2和转筒3， 涂布平台2水平设置并能够绕转轴1转动， 以带动放置在涂布平台2 上的玻璃基板4旋转， 转筒3包括从内朝外向下倾斜设置的筒底31、 设置在筒底31外沿的筒 壁32以及设置在筒底31和筒壁。

12、32交汇处的排放管33， 筒底31的内沿与涂布平台2的外沿连 接， 排放管33上设置有阀门34。 0025 在本实施例中， 光刻胶旋转涂布前先关闭排放管33上的阀门34， 涂布中， 多余的光 刻胶沿着与涂布平台2连接的且向下倾斜设置的筒底31流动， 当涂布结束后， 打开排放管33 回收多余的光刻胶。 筒壁32能有效防止涂布中光刻胶因离心力飞溅。 0026 实施例2 0027 在实施例1的基础上， 如图1所示， 涂布平台2的直径和玻璃基板4的直径相同。 传统 的光刻胶涂布装置中旋涂平台2的直径小于玻璃基板4的直径， 涂布中多余的光刻胶容易沿 说明书 2/3 页 4 CN 210666332 U 。

13、4 着玻璃基板4流到玻璃基板4的背面， 造成光刻胶的浪费， 而本实施例中将涂布平台2的直径 和玻璃基板4的直径设置为相同， 进一步有效避免了光刻胶的浪费。 0028 实施例3 0029 在实施例1的基础上， 如图1所示， 筒底31与水平面的夹角为5-10 ， 优选为5-6 。 该 夹角范围的坡度有利于多余光刻胶的流动， 方便回收。 0030 实施例4 0031 在实施例1的基础上， 从光刻胶涂布装置对称性及涂布均匀性的角度考虑， 排放管 33至少有两个且在转筒3周向上等距离分布。 本实施例中， 如图2所示， 排放管33为四个， 且 两两之间呈90 夹角设置。 0032 实施例5 0033 图3。

14、示出了本实用新型又一实施例的光刻胶涂布装置的结构示意图。 在实施例1的 基础上， 如图3所示， 为了防止涂布中光刻胶飞溅， 光刻胶涂布装置还包括盖体5， 盖体5与转 筒3的形状匹配并能够从上方覆盖转筒3， 盖体5上开设有能够允许光刻胶注入的开口51。 0034 以上所述， 仅为本实用新型的具体实施方式， 但本实用新型的保护范围并不局限 于此， 任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内， 可轻易想到变化 或替代， 都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。 因此， 本实用新型的保护范围应以权利要 求的保护范围为准。 说明书 3/3 页 5 CN 210666332 U 5 图1 图2 图3 说明书附图 1/1 页 6 CN 210666332 U 6 。