等离子体处理设备的治具回流系统.pdf

《等离子体处理设备的治具回流系统.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《等离子体处理设备的治具回流系统.pdf（6页完成版）》请在专利查询网上搜索。

1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201921943648.7 (22)申请日 2019.11.12 (73)专利权人 扬州国兴技术有限公司 地址 211400 江苏省扬州市江都区大桥镇 白沙中路1号科技大厦 (72)发明人 陈培峰宗泽源刘庆峰程凡雄 汤家云 (51)Int.Cl. B65G 37/02(2006.01) (54)实用新型名称 一种等离子体处理设备的治具回流系统 (57)摘要 本实用新型公开了一种等离子体处理设备 的治具回流系统， 包括等离子体处理系统， 以及 设置在等离子体处理系统两端的前端升降。

2、平台 和后端升降平台， 以及设置在等离子体处理系统 下端用于传输治具的回流传输滚轮组， 所述回流 传输滚轮组由至少2个依次设置的回流传输滚轮 组成， 所述前端升降平台和后端升降平台上下移 动， 在最下端时与回流传输滚轮组水平连接， 所 述每组回流传输滚轮能单独控制滚轮的启停和 传输速度。 本实用新型的等离子体处理设备的治 具回流系统， 在PCB的等离子体处理设备中， 需要 通过治具来承载被处理的PCB， 治具在通过等离 子体处理区域后回流到初始位置达到循环利用 的目； 同时为了在设备出现异常情况下能满足等 离子体区域内的治具完全排除的要求， 还设计了 暂存区域供治具缓存。 权利要求书1页 说明。

3、书3页 附图1页 CN 211003280 U 2020.07.14 CN 211003280 U 1.一种等离子体处理设备的治具回流系统， 其特征在于： 包括等离子体处理系统(1)， 以及设置在等离子体处理系统(1)两端的前端升降平台(2)和后端升降平台(3)， 以及设置 在等离子体处理系统(1)下端用于传输治具的回流传输滚轮组(4)， 所述回流传输滚轮组 (4)由至少2个依次设置的回流传输滚轮组成， 所述前端升降平台(2)和后端升降平台(3)上 下移动， 在最下端时与回流传输滚轮组(4)水平连接， 所述每组回流传输滚轮能单独控制滚 轮的启停和传输速度。 2.根据权利要求1所述的一种等离子体。

4、处理设备的治具回流系统， 其特征在于： 靠近设 备后端升降平台(3)的一段回流传输滚轮为治具暂存区域(5)， 该段回流传输滚轮的运行方 式为： 正常时以高速匀速运行， 需要暂存时减速到一个低速匀速运行或者根据治具的进入 节拍式启停运行。 3.根据权利要求2所述的一种等离子体处理设备的治具回流系统， 其特征在于： 所述治 具缓存区域(5)的回流传输滚轮往设备前端方向紧邻的一段回流传输滚轮作为桥接滚轮 (6)， 正常时与治具缓存区域(5)的回流传输滚轮同速运行， 需要暂存时该段回流传输滚轮 在接收完治具缓存区域(5)的回流传输滚轮上最后一片治具后停止运行。 4.根据权利要求3所述的一种等离子体处理。

5、设备的治具回流系统， 其特征在于： 若回流 传输滚轮组(4)由2个以上依次设置的回流传输滚轮组成时， 在桥接滚轮(6)往前端升降平 台方向的回流传输滚轮作为治具的预备滚轮(7)， 用来给设备前端升降平台(2)快速送板。 5.根据权利要求4所述的一种等离子体处理设备的治具回流系统， 其特征在于： 所述预 备滚轮(7)和桥接滚轮(6)能至少容纳一片治具。 权利要求书 1/1 页 2 CN 211003280 U 2 一种等离子体处理设备的治具回流系统 技术领域 0001 本实用新型涉及PCB处理技术领域， 特别涉及一种等离子体处理设备的治具回流 系统。 背景技术 0002 等离子体处理是PCB制造。

6、过程中重要的工艺。 等离子体的特殊性也使得PCB难以直 接通过等离子体区域进行处理， 一般需要先将PCB固定到治具上， 再将治具传输到等离子体 区域进行处理。 为了高效地利用治具， 需要在治具完成一个处理循环后能回到初始位置重 新转载新的PCB， 因此需要一个传输机构将治具回流到初始位置。 因此整个等离子体处理区 域加治具的回流系统组成了一个闭环的传输结构。 0003 对于连续处理的等离子体设备， 设备内部会同时进行多片PCB的处理， 当因为一些 原因导致初始位置的治具停止进入等离子体处理区域时， 整个传输机构将同时停止。 但是 正在等离子体区域内被处理的PCB不能停止运行。 因为正在处理的P。

7、CB一旦停止运行或停止 等离子体的处理， 将会造成产品的工艺异常， 甚至报废产品。 因此需要在整个闭环传输结构 上增加治具的暂存结构， 能够使得治具完全从等离子体区域排出， 并且不会与已经排出的 治具产生冲突。 发明内容 0004 为了克服上述缺陷， 本实用新型提供了一种等离子体处理设备的治具回流系统， 通过等离子体处理区域后回流到初始位置达到循环利用的目的。 0005 本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是： 一种等离子体处理设备的 治具回流系统， 包括等离子体处理系统， 以及设置在等离子体处理系统两端的前端升降平 台和后端升降平台， 以及设置在等离子体处理系统下端用于传输治具的回流。

8、传输滚轮组， 所述回流传输滚轮组由至少2个依次设置的回流传输滚轮组成， 所述前端升降平台和后端 升降平台上下移动， 在最下端时与回流传输滚轮组水平连接， 所述每组回流传输滚轮能单 独控制滚轮的启停和传输速度。 0006 作为本实用新型的进一步改进， 靠近设备后端升降平台的一段回流传输滚轮为治 具暂存区域， 该段回流传输滚轮的运行方式为： 正常时以高速匀速运行， 需要暂存时减速到 一个低速匀速运行或者根据治具的进入节拍式启停运行。 0007 作为本实用新型的进一步改进， 治具缓存区域的回流传输滚轮往设备前端方向紧 邻的一段回流传输滚轮作为桥接滚轮， 正常时与治具缓存区域的回流传输滚轮同速运行， 。

9、需要暂存时该段回流传输滚轮在接收完治具缓存区域的回流传输滚轮上最后一片治具后 停止运行 0008 作为本实用新型的进一步改进， 若回流传输滚轮组由2个以上依次设置的回流传 输滚轮组成时， 在桥接滚轮往前端升降平台方向的回流传输滚轮作为治具的预备滚轮， 用 来给设备前端升降平台快速送板。 说明书 1/3 页 3 CN 211003280 U 3 0009 作为本实用新型的进一步改进， 所述预备滚轮和桥接滚轮能至少容纳一片治具。 0010 本实用新型的有益效果是： 本实用新型的等离子体处理设备的治具回流系统， 在 PCB的等离子体处理设备中， 需要通过治具来承载被处理的PCB， 治具在通过等离子体。

10、处理 区域后回流到初始位置达到循环利用的目； 同时为了在设备出现异常情况下能满足等离子 体区域内的治具完全排除的要求， 还设计了暂存区域供治具缓存。 附图说明 0011 图1为本实用新型结构示意图； 0012 图中标示： 1-等离子体处理系统； 2-前端升降平台； 3-后端升降平台； 4-回流传输 滚轮组； 5-治具暂存区域； 6-桥接滚轮； 7-预备滚轮。 具体实施方式 0013 为了加深对本实用新型的理解， 下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步 详述， 该实施例仅用于解释本实用新型， 并不构成对本实用新型保护范围的限定。 0014 图1出示了本实用新型一种等离子体处理设备的治具回流系。

11、统的一种实施方式， 包括等离子体处理系统1， 以及设置在等离子体处理系统1两端的前端升降平台2和后端升 降平台3， 以及设置在等离子体处理系统1下端用于传输治具的回流传输滚轮组4， 所述回流 传输滚轮组4由至少2个依次设置的回流传输滚轮组成， 所述前端升降平台2和后端升降平 台3上下移动， 在最下端时与回流传输滚轮组4水平连接， 所述每组回流传输滚轮能单独控 制滚轮的启停和传输速度。 0015 靠近设备后端升降平台3的一段回流传输滚轮为治具暂存区域5， 该段回流传输滚 轮的运行方式为： 正常时以高速匀速运行， 需要暂存时减速到一个低速匀速运行或者根据 治具的进入节拍式启停运行。 0016 所述。

12、治具缓存区域5的回流传输滚轮往设备前端方向紧邻的一段回流传输滚轮作 为桥接滚轮6， 正常时与缓存区的回流传输滚轮同速运行， 需要暂存时该段回流传输滚轮在 接收完暂存区的回流传输滚轮上最后一片治具后停止运行 0017 若回流传输滚轮组4由2个以上依次设置的回流传输滚轮组成时， 在桥接滚轮6往 前端升降平台方向的回流传输滚轮作为治具的预备滚轮7， 用来给设备前端升降平台2快速 送板。 0018 所述预备滚轮7和桥接滚轮6能至少容纳一片治具。 0019 系统初始状态， 前端升降平台2在A位置上， 并且其内有一片待进入等离子体处理 系统1的治具， 等离子体处理系统1内正常运行着多片治具， 后端升降平台。

13、3处在C位置， 等待 治具从等离子体处理系统1内排出。 下端回流系统的回流1号预备滚轮7和回流2号预备滚轮 7上各有一片待命的治具， 桥接滚轮6上空置， 治具缓存区域5上正往桥接滚轮6方向输送着 一片治具。 0020 PCB完成处理后， 从等离子体处理系统1内排出一片治具到后端升降平台3上， 后端 升降平台3从位置C下降到位置D， 然后将治具送入到治具缓存区域5上， 此时原先在治具缓 存区域5上传输的治具刚好传输到桥接滚轮6上。 后端升降平台3在将治具完全传输到治具 缓存区域5后， 重新升起到C位置， 等待下一片治具。 说明书 2/3 页 4 CN 211003280 U 4 0021 在等离。

14、子体处理系统1排出一片治具的同时， 处在前端升降平台2上的治具也进入 到等离子体处理系统1中。 当前端升降平台2上的治具完全进入到等离子体处理系统1内后， 平台从A位置下降到B位置， 处在回流1号预备滚轮7上待命的治具传输到前端升降平台2内， 同时处在回流2号预备滚轮7内的治具同步传输到回流1号预备滚轮7上。 治具在完全进入到 前端升降平台2后， 平台上升到A位置， 用于新的PCB安装并等待进入到等离子体处理系统1 中。 0022 在回流2号预备滚轮7上没有治具后， 从治具缓存区域5传输到桥接滚轮6上的治具 开始被传输到回流2号预备滚轮7上， 与回流1号预备滚轮7上的治具一同待命。 0023 。

15、当系统出现异常， 前端升降平台上的治具不能及时进入到等离子体处理系统1内 时， 为了使已经在等离子体处理系统1内的PCB正常完成处理， 要求治具还是按照正常的节 拍从后端排出。 此时， 后端升降平台3正常接收从等离子体处理系统排出的治具并传输到治 具缓存区域5上， 但此时治具缓存区域5以低于正常运行的速度或者以间隙启动的方式接收 从后端升降平台3传输过来的治具， 直至等离子体处理系统1内的治具全部排出， 并在治具 缓存区域5上以密集排列的方式进行存储。 0024 当系统恢复正常运转后， 暂存在治具缓存区域5内的治具以步进的方式逐步地传 输到前端升降平台2上进行使用。 说明书 3/3 页 5 CN 211003280 U 5 图1 说明书附图 1/1 页 6 CN 211003280 U 6 。