镀膜设备真空密封旋转机构.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201922284110.6 (22)申请日 2019.12.18 (73)专利权人 芜湖长信科技股份有限公司 地址 241009 安徽省芜湖市经济技术开发 区汽经二路六号 (72)发明人 邵家满王伟王寅盛长鹰 (74)专利代理机构 芜湖安汇知识产权代理有限 公司 34107 代理人 曹政 (51)Int.Cl. C23C 14/56(2006.01) F16J 15/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种镀膜设备真空密封旋转机构 (57)摘要 本实用新型公开了一种镀。

2、膜设备真空密封 旋转机构， 具有： 马达； 箱体底板， 马达与箱体底 板连接； 磁流体， 转动安装在箱体底板上； 旋转 架， 其底部与磁流体的顶部连接； 旋转架上设有 基片架； 过渡法兰， 其顶部与磁流体的底部连接， 过渡法兰的底部与马达的转动部连接， 将磁流体 电机一体结构拆分成磁流体+马达两个部分， 成 本低， 并且有利于后期维护。 权利要求书1页 说明书2页 附图3页 CN 211256082 U 2020.08.14 CN 211256082 U 1.一种镀膜设备真空密封旋转机构， 其特征在于， 具有： 马达； 箱体底板， 所述马达与所述箱体底板连接； 磁流体， 转动安装在所述箱体底板。

3、上； 旋转架， 其底部与所述磁流体的顶部连接； 所述旋转架上设有基片架； 过渡法兰， 其顶部与所述磁流体的底部连接， 所述过渡法兰的底部与所述马达的转动 部连接。 2.如权利要求1所述的镀膜设备真空密封旋转机构， 其特征在于， 所述马达的顶部与所 述箱体底板连接； 所述马达的底部固定安装在底座上。 3.如权利要求2所述的镀膜设备真空密封旋转机构， 其特征在于， 所述磁流体固定所述 旋转架的真空腔体密封连接。 4.如权利要求3所述的镀膜设备真空密封旋转机构， 其特征在于， 所述马达为直接驱动 马达， 所述磁流体和过渡法兰为空心结构； 控制信号线及冷却水管穿过所述直接驱动马达、 过渡法兰和磁流体进。

4、入所述旋转架的真空腔体内。 权利要求书 1/1 页 2 CN 211256082 U 2 一种镀膜设备真空密封旋转机构 技术领域 0001 本实用新型属于真空镀膜机设备技术领域， 尤其涉及一种镀膜设备真空密封旋转 机构。 背景技术 0002 现有镀膜设备回转箱体旋转机构为磁流体电机一体机构， 发生故障时维修难度 高， 同时该磁流体电机造价高并已停产， 无备件进行更换。 0003 在实现本实用新型的过程中， 发明人发现现有技术至少存在以下问题： 因镀膜设 备为进口设备， 设备发生故障时， 故障处零配件若不能及时维护处理或更换， 会造成设备停 线不能生产及时交付产品， 造成经济损失。 同时相关的设。

5、备维修配件成本也很高。 实用新型内容 0004 本实用新型所要解决的技术问题是提供一种将磁流体电机一体结构拆分成磁流 体+马达两个部分， 成本低， 并且有利于后期维护的镀膜设备真空密封旋转机构。 0005 为了解决上述技术问题， 本实用新型所采用的技术方案是： 一种镀膜设备真空密 封旋转机构， 具有： 0006 马达； 0007 箱体底板， 所述马达与所述箱体底板连接； 0008 磁流体， 转动安装在所述箱体底板上； 0009 旋转架， 其底部与所述磁流体的顶部连接； 所述旋转架上设有基片架； 0010 过渡法兰， 其顶部与所述磁流体的底部连接， 所述过渡法兰的底部与所述马达的 转动部连接。 。

6、0011 所述马达的顶部与所述箱体底板连接； 所述马达的底部固定安装在底座上。 0012 所述磁流体固定所述旋转架的真空腔体密封连接。 0013 所述马达为直接驱动马达， 所述磁流体和过渡法兰为空心结构； 控制信号线及冷 却水管穿过所述直接驱动马达、 过渡法兰和磁流体进入所述旋转架的真空腔体内。 0014 上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果， 将磁流体电机一体结 构拆分成磁流体+马达两个部分， 因镀膜设备为进口设备， 对原有的磁流体电机一体机构替 换， 真空旋转机构可实现国产化。 相比进口同机构设备， 国产化后造价成本低， 并且有利于 后期维护。 附图说明 0015 图1为本实。

7、用新型实施例中提供的镀膜设备真空密封旋转机构的结构示意图； 0016 图2为图1的B-B剖视图； 0017 图3为图1的镀膜设备真空密封旋转机构的结构示意图； 0018 上述图中的标记均为： 1、 马达， 2、 过渡法兰， 3、 磁流体， 4、 旋转架， 5、 箱体底板。 说明书 1/2 页 3 CN 211256082 U 3 具体实施方式 0019 为使本实用新型的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合附图对本实用新 型实施方式作进一步地详细描述。 0020 参见图1-3， 一种镀膜设备真空密封旋转机构， 具有： 0021 马达； 0022 箱体底板， 马达与箱体底板连接； 0023。

8、 磁流体， 转动安装在箱体底板上； 0024 旋转架， 其底部与磁流体的顶部连接； 旋转架上设有基片架； 0025 过渡法兰， 其顶部与磁流体的底部连接， 过渡法兰的底部与马达的转动部连接。 0026 马达的顶部与箱体底板连接； 马达的底部固定安装在底座上。 0027 磁流体固定旋转架的真空腔体密封连接。 马达为直接驱动马达， 磁流体和过渡法 兰为空心结构； 控制信号线及冷却水管穿过直接驱动马达、 过渡法兰和磁流体进入旋转架 的真空腔体内。 可实现真空密封传动； 传动定位精度高， 可将控制信号线及冷却水管从空心 轴穿过。 0028 DD马达固定在马达固定座上； 过渡法兰与DD马达固定， 同时与。

9、磁流体固定； 磁流体 固定到真空腔体上， 实现真空腔体的密封； DD马达通过驱动过渡法兰及磁流体传动， 驱动负 载(基片架旋转架传动座)。 0029 将磁流体按空心轴设计并配套安装空心DD马达实现原有的磁流体电机一体结构 的功能。 0030 采用上述的结构后， 将磁流体电机一体结构拆分成磁流体+马达两个部分， 因镀膜 设备为进口设备， 对原有的磁流体电机一体机构替换， 真空旋转机构可实现国产化。 相比进 口同机构设备， 国产化后造价成本低， 并且有利于后期维护。 0031 上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述， 显然本实用新型具体实现并不受 上述方式的限制， 只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改 进， 或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的， 均在本实用新型 的保护范围之内。 说明书 2/2 页 4 CN 211256082 U 4 图1 说明书附图 1/3 页 5 CN 211256082 U 5 图2 说明书附图 2/3 页 6 CN 211256082 U 6 图3 说明书附图 3/3 页 7 CN 211256082 U 7 。