纳米稀土研磨剂制备装置.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201922354173.4 (22)申请日 2019.12.25 (73)专利权人 连云港高品再生资源有限公司 地址 222300 江苏省连云港市东海县石湖 乡中小企业园牛桃路8号 (72)发明人 张宇 (74)专利代理机构 江苏银创律师事务所 32242 代理人 丁圣雨 (51)Int.Cl. C09K 3/14(2006.01) C09G 1/02(2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 (54)实用新型名称 一种纳米稀土研磨剂制备装置 (57)摘要 。

2、本实用新型公开了一种纳米稀土研磨剂制 备装置， 本实用新型用氮气等离子体轰击盛放在 制备容器中的微米级稀土研磨粉末， 并通过被降 至零度以下的冷气流吹走被轰击出来的纳米级 的研磨粉末， 可以有效的制备纳米级稀土研磨 剂。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 211471295 U 2020.09.11 CN 211471295 U 1.一种纳米稀土研磨剂制备装置， 其特征在于， 包括制备容器和等离子体发射装置； 所 述的制备容器的内部设有真空腔体； 所述的制备容器的一侧设有气流入口； 所述的制备容 器的另一侧设有气流出料口； 所述的等离子体发射装置安装在制备容器的内部上端。 2.根据权。

3、利要求1所述的纳米稀土研磨剂制备装置， 其特征在于， 所述的制备容器为铝 制品； 所述的真空腔体内层镀有防护层。 3.根据权利要求1所述的纳米稀土研磨剂制备装置， 其特征在于， 所述的等离子体发射 装置为氮气等离子体发射装置。 4.根据权利要求1所述的纳米稀土研磨剂制备装置， 其特征在于， 所述的制备容器的另 一侧上端设有气流出料口。 权利要求书 1/1 页 2 CN 211471295 U 2 一种纳米稀土研磨剂制备装置 技术领域 0001 本实用新型涉及一种纳米稀土研磨剂制备装置。 背景技术 0002 被用作研磨剂的主要有二氧化硅、 二氧化锆和三氧化二铁等,但其研磨效果都没 有稀土抛光粉的。

4、研磨效果好,所以逐渐被稀土抛光粉所取代。 国外于60年前便开始生产各 类品级稀土抛光粉,至今已形成标准化、 系列化,产品牌号已达30多种,完全可以满足各工 业部门的需要。 我国起步较晚,从60年代中期到70年代末期虽然已经初步完成三大类品级 稀土抛光粉的生产,但尚未形成标准化系列化,还不能完全满足工业的需要。 用稀土抛光粉 取代会显示出如下一些优点:(l)抛光效率高,抛光能力可提高3倍以上； (2)可使被抛光的 工件合格率提高30%以上； (3)可使被抛光制品获得较高的光洁度； (4)使用寿命可提高9倍 且不污染环境； (5)粒度细而均匀,化学活性好,可使抛光模具有较好的吻合。 纳米稀土抛 光。

5、粉目前已被广泛应用于各种平板玻璃、 光学玻璃、 精密金属制品、 显像管、 示波管、 眼镜 片、 半导体晶片等产品的抛光。 0003 如何高效提高纳米稀土研磨剂的产量， 更好地满足国内及出口市场的需要,提高 产品质量,提高生产工艺及装备水平,从而促进我国稀土抛光粉工业的发展是亟待解决的 问题。 实用新型内容 0004 针对上述现有技术的不足之处， 本实用新型解决的问题为： 提供一种可高效生产 纳米稀土研磨剂的装置。 0005 为解决上述问题， 本实用新型采取的技术方案如下： 0006 一种纳米稀土研磨剂制备装置， 包括制备容器和等离子体发射装置； 所述的制备 容器的内部设有真空腔体； 所述的制备。

6、容器的一侧设有气流入口； 所述的制备容器的另一 侧设有气流出料口； 所述的等离子体发射装置安装在制备容器的内部上端。 0007 进一步， 所述的制备容器为铝制品； 所述的真空腔体内层镀有防护层。 0008 进一步， 所述的等离子体发射装置为氮气等离子体发射装置。 0009 进一步， 所述的制备容器的另一侧上端设有气流出料口。 0010 本实用新型的有益效果 0011 本实用新型用氮气等离子体轰击盛放在制备容器中的微米级稀土研磨粉末， 并通 过被降至零度以下的冷气流吹走被轰击出来的纳米级的研磨粉末， 可以有效的制备纳米级 稀土研磨剂， 提高了纳米稀土研磨剂的制备效率和规模。 附图说明 0012 。

7、图1为本实用新型的结构示意图。 说明书 1/2 页 3 CN 211471295 U 3 具体实施方式 0013 下面结合附图对本实用新型内容作进一步详细说明。 0014 如图1所示， 一种纳米稀土研磨剂制备装置， 包括制备容器1和等离子体发射装置 2； 所述的制备容器1的内部设有真空腔体13； 所述的制备容器1的一侧设有气流入口11； 所 述的制备容器1的另一侧设有气流出料口12； 所述的等离子体发射装置2安装在制备容器1 的内部上端。 进一步优选， 所述的制备容器1可呈矩形立体结构， 为铝制品； 所述的真空腔体 13内层镀有防护层。 进一步优选， 所述的等离子体发射装置2为氮气等离子体发射装置。 进 一步， 所述的制备容器1的另一侧上端设有气流出料口12。 0015 本实用新型用氮气等离子体轰击盛放在制备容器中的微米级稀土研磨粉末， 并通 过被降至零度以下的冷气流吹走被轰击出来的纳米级的研磨粉末， 可以有效的制备纳米级 稀土研磨剂。 0016 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已， 并不用以限制本实用新型， 凡在本 实用新型的精神和原则之内， 所作的任何修改、 等同替换、 改进等， 均应包含在本实用新型 的保护范围之内。 说明书 2/2 页 4 CN 211471295 U 4 图1 说明书附图 1/1 页 5 CN 211471295 U 5 。