四圆柱台式上吸附板.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201921661250.4 (22)申请日 2019.10.07 (73)专利权人 武汉吉事达科技股份有限公司 地址 430070 湖北省武汉市东湖新技术开 发区高新四路光谷电子产业园三期6 号厂房1-2楼 (72)发明人 陈刚袁聪林少辉田凯华 (74)专利代理机构 江苏殊成律师事务所 32265 代理人 杨桂平 (51)Int.Cl. B23K 26/70(2014.01) B23K 37/04(2006.01) B23K 26/362(2014.01) (54)实用新型名称。

2、 一种四圆柱台式上吸附板 (57)摘要 本实用新型公开了一种四圆柱台式上吸附 板， 包括上吸附板基体， 吸附凸台、 阶梯围栏、 平 面围栏； 上吸附板基体上设有阶梯围栏、 平面围 栏； 中部均匀排列有四组吸附凸台， 为圆柱台式 的吸附凸台； 设有环形沟槽及相互垂直的直线沟 槽， 交叉口设有吸附小孔； 阶梯面一高于阶梯面 二， 阶梯面二与平面围栏的上表面、 四组吸附凸 台的吸附平面都位于同一水平面上； 空隙自然形 成落料凹槽； 各设有吸附凸台内腔孔； 吸附小孔 与吸附凸台内腔孔、 吸附内腔大孔相贯通， 共同 形成吸附腔体系统。 本实用新型结构合理： 形成 较大的二层吸附腔体系统， 使得气道更通畅。

3、， 吸 附力保持均衡， 圆柱台式的吸附凸台结构， 满足 支撑吸附及高精度的加工需要； 具有综合良好的 技术效果。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 211539961 U 2020.09.22 CN 211539961 U 1.一种四圆柱台式上吸附板， 其特征在于： 包括上吸附板基体 （1） ， 吸附凸台 （2） 、 阶梯 围栏 （3） 、 平面围栏 （4） ； 在所述上吸附板基体 （1） 上的左侧和后侧， 设有阶梯围栏 （3） ； 在所述上吸附板基体 （1） 上的右侧和前侧设有平面围栏 （4） ； 在所述上吸附板基体 （1） 上的中部均匀排列有四组吸附 凸台 （2） ， 四角处设有。

4、安装螺栓孔 （9） ； 所述吸附凸台 （2） 为圆柱台式的吸附凸台， 在吸附凸台 （2） 上设有： 环形沟槽 （201） 二 条、 直线沟槽 （202） 二条； 直线沟槽 （202） 相互垂直， 与环形沟槽 （201） 形成交叉， 分割成扇 形、 弧形带及圆环带， 共同组合成多形状块的吸附平面； 在所述环形沟槽 （201） 与直线沟槽 （202） 的交叉口， 设有吸附小孔 （8） ； 所述阶梯围栏 （3） 包括阶梯面一 （301） 、 阶梯面二 （302） ， 阶梯面一 （301） 、 高于阶梯面二 （302） ， 在内侧的阶梯面二 （302） 与平面围栏 （4） 的上表面、 四组吸附凸台 （。

5、2） 的吸附平面都 位于同一水平面上； 所述阶梯围栏 （3） 、 平面围栏 （4） 与四组吸附凸台 （2） 之间的空隙自然形成落料凹槽 （5） ； 在所述上吸附板基体 （1） 下， 对应于四组吸附凸台 （2） 的下部， 各设有吸附凸台内腔孔 （6） ； 所述吸附小孔 （8） 与吸附凸台内腔孔 （6） 相贯通； 吸附内腔大孔 （7） 的内孔壁包切住四 组吸附凸台内腔孔 （6） ， 相互贯通， 共同形成吸附腔体系统。 2.根据权利要求1所述的四圆柱台式上吸附板， 其特征在于： 所述的二条直线沟槽 （202） 可以水平或纵向设置在吸附凸台 （2） 上， 或以一条直线沟槽 （202） 以任意角度设置，。

6、 另 一条直线沟槽 （202） 与之保持相互垂直。 3.根据权利要求1所述的四圆柱台式上吸附板， 其特征在于： 所述直线沟槽(202)与环 形沟槽(201)深度相一致， 为3-5mm。 权利要求书 1/1 页 2 CN 211539961 U 2 一种四圆柱台式上吸附板 技术领域 0001 本实用新型涉及一种用于吸附工件用的吸附平台构件， 特别是涉及一种加工玻璃 制品用的吸附平台构件， 组成吸附平台， 用于激光刻蚀设备上。 背景技术 0002 目前， 激光刻蚀设备现有的加工工件中， 常常涉及有玻璃制品类的高精度产品。 这 类玻璃制品类的被加工件， 硬度高强度大， 被加工后成型的产品尺寸有一定规。

7、格要求， 而且 加工精度要求特别高； 由于材质硬度高， 在刻蚀过程中， 要确保吸附平台对其吸附安装要牢 固； 同时刻蚀轨迹的下端常常会遗留有较微小的粉尘残留， 要避免污染玻璃成品。 针对其特 定的加工要求， 常规的全平面式的吸附平台无法满足高精度的加工需要， 所以需要提供一 种特殊结构的吸附平台， 满足其在加工过程的吸附安装牢固可靠， 又有可保护加工后的工 件制品免收粉尘残留的影响。 实用新型内容 0003 发明目的： 针对上述现有技术存在的问题和不足， 本实用新型的目的是提供一种 结构合理、 吸附安装牢固的四圆柱台式上吸附板。 0004 技术方案： 为实现上述实用新型目的， 本实用新型采用的。

8、技术方案为： 0005 一种四圆柱台式上吸附板， 包括： 上吸附板基体， 吸附凸台、 阶梯围栏、 平面围栏； 0006 在所述上吸附板基体上的左侧和后侧， 设有阶梯围栏； 在所述上吸附板基体上的 右侧和前侧设有平面围栏； 在所述上吸附板基体上的中部均匀排列有四组吸附凸台， 四角 处设有安装螺栓孔； 安装螺栓从安装螺栓孔将上吸附板固定在相应的下吸附板上； 0007 所述吸附凸台为圆柱台式的吸附凸台， 在吸附凸台上设有： 环形沟槽二条、 直线沟 槽二条； 直线沟槽相互垂直， 与环形沟槽形成交叉， 分割成扇形、 弧形带及圆环带， 共同组合 成多形状块的吸附平面； 在所述环形沟槽与直线沟槽的交叉口， 。

9、设有吸附小孔； 0008 所述阶梯围栏包括阶梯面一、 阶梯面二， 阶梯面一高于阶梯面二， 在内侧的阶梯面 二与平面围栏的上表面、 四组吸附凸台的吸附平面都位于同一水平面上； 可以很好的支撑 工件， 并可以使得工件定位在左侧及后侧的阶梯面一与阶梯面二形成的垂直面上； 0009 所述阶梯围栏、 平面围栏与四组吸附凸台之间的空隙自然形成落料凹槽； 设置成 圆柱台式结构形式的吸附凸台， 可以满足圆形玻璃制品的吸附安装需求， 刻蚀的轨迹在圆 形凸台的四周； 同时落料凹槽的面积较大， 便于后续除尘装置的除尘， 除尘效果会较好； 较 大的空间可以很好的存放加工后落下的废料， 并便于清理； 0010 在所述上。

10、吸附板基体下， 对应于四组吸附凸台的下部， 各设有吸附凸台内腔孔； 所 述吸附小孔与吸附凸台内腔孔相贯通； 吸附内腔大孔的内孔壁包切住四组吸附凸台内腔 孔， 相互贯通， 共同形成吸附腔体系统； 吸附腔体系统贯通顺畅， 空间较大， 可以有效的提升 吸附效能。 0011 优化的， 二条直线沟槽可以水平或纵向设置在吸附凸台上， 或以一条直线沟槽以 说明书 1/3 页 3 CN 211539961 U 3 任意角度设置， 另一条直线沟槽与之保持相互垂直。 0012 优化的， 所述直线沟槽与环形沟槽深度相一致， 为3-5mm。 0013 有益效果： 与现有技术相比， 本实用新型的四圆柱台式上吸附板， 结。

11、构合理： 一个 大的圆柱吸附内腔大孔组合四组吸附凸台内腔孔， 形成较大的二层吸附腔体系统， 使得气 道腔体的布局设计更通畅， 可以确保吸附平台上中心与四周的吸附力保持均衡， 对加工件 吸附更牢固稳定； 设置的圆柱台式的吸附凸台结构， 极大地满足了玻璃加工件在加工前的 支撑吸附， 又确保了加工后成品的支撑及后续下料， 满足了高精度的加工需要； 落料凹槽可 保护加工后的工件制品免收粉尘残留的影响； 具有综合良好的技术效果。 附图说明 0014 图1是本实用新型的立体图1； 0015 图2是本实用新型的立体图2； 0016 图3是本实用新型的俯视图； 0017 图4是本实用新型的仰视图； 0018 。

12、图5是本实用新型的A_A剖面图； 0019 图6是本实用新型的吸附凸台的立体放大示意图。 0020 其中： 1上吸附板基体， 2吸附凸台、 3阶梯围栏、 4平面围栏、 5落料凹槽、 6吸附凸台 内腔孔、 7吸附内腔大孔、 8吸附小孔、 9安装螺栓孔； 其中2吸附凸台包括： 201环形沟槽、 202 直线沟槽； 3阶梯围栏包括301阶梯面一、 302阶梯面二。 具体实施方式 0021 下面结合附图对本实用新型进一步说明。 应理解这些实施例仅用于说明本实用新 型而不用于限制本实用新型的范围， 在阅读了本实用新型之后， 本领域技术人员对本实用 新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的。

13、范围。 0022 如图1、 2、 3、 4、 5、 6所示， 一种四圆柱台式上吸附板， 包括： 上吸附板基体1， 吸附凸 台2、 阶梯围栏3、 平面围栏4； 0023 在上吸附板基体1上的左侧和后侧， 设有阶梯围栏3； 在上吸附板基体1上的右侧和 前侧设有平面围栏4； 在上吸附板基体1上的中部均匀排列有四组吸附凸台2， 四角处设有安 装螺栓孔9； 安装螺栓从安装螺栓孔9将上吸附板固定在相应的下吸附板上； 0024 吸附凸台2为圆柱台式的吸附凸台， 在吸附凸台2上设有： 环形沟槽201二条、 直线 沟槽202二条； 直线沟槽202相互垂直， 与环形沟槽201形成交叉， 分割成扇形、 弧形带及圆环。

14、 带， 共同组合成多形状块的吸附平面； 在环形沟槽201与直线沟槽202的交叉口， 设有吸附小 孔8； 0025 阶梯围栏3包括阶梯面一301、 阶梯面二302， 阶梯面一301高于阶梯面二302， 在内 侧的阶梯面二302与平面围栏4的上表面、 四组吸附凸台2的吸附平面都位于同一水平面上； 可以很好的支撑工件， 并可以使得工件定位在左侧及后侧的阶梯面一301与阶梯面二302的 形成的垂直面上； 0026 阶梯围栏3、 平面围栏4与四组吸附凸台2之间的空隙自然形成落料凹槽5； 设置成 圆柱台式结构形式的凸台， 可以满足圆形玻璃制品的吸附安装需求， 刻蚀的轨迹在圆形凸 说明书 2/3 页 4 C。

15、N 211539961 U 4 台的四周； 同时落料凹槽的面积较大， 便于后续除尘装置的除尘， 除尘效果会较好； 较大的 空间可以很好的存放加工后落下的废料， 并便于清理； 0027 在上吸附板基体1下， 对应于四组吸附凸台2的下部， 各设有吸附凸台内腔孔6； 吸 附小孔8与吸附凸台内腔孔6相贯通； 吸附内腔大孔7的内孔壁包切住四组吸附凸台内腔孔 6， 相互贯通， 共同形成吸附腔体系统； 吸附腔体系统贯通顺畅， 空间较大， 可以有效的提升 吸附效能。 0028 优化的， 二条直线沟槽202可以水平或纵向设置在吸附凸台2上， 或一条直线沟槽 202以任意角度设置， 另一条直线沟槽202与之保持相。

16、互垂直。 0029 优化的， 直线直线沟槽202与环形沟槽201深度相一致， 为3-5mm。 0030 该实用新型的四组圆柱台式上吸附板， 结构合理： 一个大的圆柱吸附内腔大孔组 合四组吸附凸台内腔孔， 形成较大的二层吸附腔体系统， 使得气道腔体的布局设计更通畅， 可以确保吸附平台上中心与四周的吸附力保持均衡， 对加工件吸附更牢固稳定； 设置的圆 柱台式的吸附凸台结构， 极大地满足了玻璃加工件在加工前的支撑吸附， 又确保了加工后 成品的支撑及后续下料， 满足了高精度的加工需要； 落料凹槽可保护加工后的工件制品免 收粉尘残留的影响； 具有综合良好的技术效果。 说明书 3/3 页 5 CN 211539961 U 5 图1 图2 说明书附图 1/3 页 6 CN 211539961 U 6 图3 图4 说明书附图 2/3 页 7 CN 211539961 U 7 图5 图6 说明书附图 3/3 页 8 CN 211539961 U 8 。