高分子化合物的制造方法.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201980011523.7 (22)申请日 2019.01.31 (30)优先权数据 2018-022547 2018.02.09 JP (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2020.08.03 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2019/003280 2019.01.31 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2019/155972 JA 2019.08.15 (71)申请人 住友化学株式会社 地址 日本国东京都 (72)发明人 寺井宏树 (74)专利代理机构 。

2、中科专利商标代理有限责任 公司 11021 代理人 朱丹 (51)Int.Cl. C08J 3/14(2006.01) C08G 61/12(2006.01) C08G 85/00(2006.01) (54)发明名称 高分子化合物的制造方法 (57)摘要 本发明的目的在于， 提供多分散度充分小的 高分子化合物的制造方法。 本发明涉及一种高分 子化合物的制造方法， 其含有使包含高分子化合 物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接 触从而使高分子化合物沉淀的工序， 该2种以上 有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有 机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以 上， 该第2有机溶剂为选自溶。

3、剂A和溶剂B中的1种 以上。 溶剂A汉森溶解度参数的极性项P1 (MPa0.5)为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键 项H1(MPa0.5)为0H110的溶剂， 溶剂B汉森 溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 和/或 汉森溶解度参数的氢键项H2(MPa0.5)为10H2的 溶剂。 权利要求书2页 说明书21页 CN 111683993 A 2020.09.18 CN 111683993 A 1.一种制造方法， 其是高分子化合物的制造方法， 所述制造方法含有使包含高分子化 合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序， 该2种以上有机溶剂包含相互不。

4、同的第1有机溶剂和第2有机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1 种以上， 溶剂A： 汉森溶解度参数的极性项P1为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1为0H110 的溶剂， 所述P1和H1的单位为MPa0.5， 溶剂B： 汉森溶解度参数的极性项P2为10P2、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H2为10H2的 溶剂， 所述P2和H2的单位为MPa0.5。 2.根据权利要求1所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述第2有机溶剂为选自溶剂B中的1种以上。 3.根据权利要求2所述的制造方法， 其中， 所述第1有机。

5、溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述第2有机溶剂为选自溶剂B1中的1种以上， 溶剂B1： 汉森溶解度参数的极性项P2为10P2、 且汉森溶解度参数的氢键项H2为10H2的溶 剂， 所述P2和H2的单位为MPa0.5。 4.根据权利要求3所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A1中的1种以 上， 所述第2有机溶剂为选自溶剂B1中的1种以上， 溶剂A1： 汉森溶解度参数的极性项P1为0P15、 且汉森溶解度参数的氢键项H1为0H14的 溶剂， 所述P1和H1的单位为MPa0.5。 5.根据权利要求1所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述第2有机溶剂。

6、为选自溶剂A中的1种以上。 6.根据权利要求5所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上， 溶剂A2： 汉森溶解度参数的极性项P1为5P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1为4H110 的溶剂， 所述P1和H1的单位为MPa0.5。 7.根据权利要求6所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以 上， 所述第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上。 8.根据权利要求17中任一项所述的制造方法， 其中， 在所述沉淀工序后， 进一步含有 添加第3有机溶剂的溶剂处理工序， 该第3有机溶剂为选自溶剂C中的1种以。

7、上， 溶剂C： 汉森溶解度参数的极性项P3为10P3、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H3为10H3的 溶剂， 所述P3和H3的单位为MPa0.5。 9.根据权利要求18中任一项所述的制造方法， 其中， 所述高分子化合物为包含式(1) 所示的结构单元的高分子化合物， 权利要求书 1/2 页 2 CN 111683993 A 2 式中， Ar1和Ar2各自独立地表示2价芳香族烃基、 2价杂环基、 或者2价芳香族烃基与2价杂环基 键合而成的基团， 这些基团任选具有取代基， 存在多个Ar2的情况下， 它们可以各自相同或 不同， Ar3表示1价芳香族烃基、 或1价杂环基， 这些基团任选具有取代基， 存在。

8、多个Ar3的情况 下， 它们可以各自相同或不同， a表示02的整数。 10.一种调节方法， 其是调节高分子化合物的多分散度的方法， 所述方法含有使包含高 分子化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的沉 淀工序， 该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1 种以上， 溶剂A： 汉森溶解度参数的极性项P1为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1为0H110 的溶剂， 所述P1和H1的单位为MPa0.5， 溶剂B： 汉森溶解度参数的极性项P2为10P2、 和/或汉。

9、森溶解度参数的氢键项H2为10H2的 溶剂， 所述P2和H2的单位为MPa0.5。 11.一种发光元件的制造方法， 其为具有阳极、 阴极和有机层的发光元件的制造方法， 含有使用通过权利要求19中任一项所述的高分子化合物的制造方法所制造的高分子化 合物来形成所述有机层的工序。 权利要求书 2/2 页 3 CN 111683993 A 3 高分子化合物的制造方法 技术领域 本发明涉及高分子化合物的制造方法。 背景技术 作为有机电致发光(以下也记作 “有机EL” )元件等发光元件的材料， 例如使用有高分子 化合物。 为了使该元件的性能提高， 期望该高分子化合物的多分散度(Mw/Mn)小。 高分子化合。

10、物例如可以通过在过渡金属络合物的存在下使芳香族二硼酸与芳香族二 卤化物进行铃木偶联反应来合成。 例如， 非专利文献1报道了使芴的二硼酸与三芳基胺的二 溴体进行铃木偶联反应来合成高分子化合物的方法。 然而， 通过该方法， 很难得到多分散度 充分小的高分子化合物。 作为减小高分子化合物的多分散度的方法， 有例如色谱等使用吸附材料的方法、 索氏 提取等从固体中萃取的方法， 但均不一定能够满足。 现有技术文献 非专利文献 非专利文献1： RSC Advances,2015,5,p101826-101833 发明内容 发明要解决的课题 本发明的目的在于， 提供多分散度充分小的高分子化合物的制造方法。 用。

11、于解决课题的手段 本发明提供以下的110。 0001 一种制造方法， 其是高分子化合物的制造方法， 所述制造方法含有使包含高分子 化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序， 该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1 种以上： 溶剂A 汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1 (MPa0.5)为0H110的溶剂， 溶剂B 汉森溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H2 (。

12、MPa0.5)为10H2的溶剂。 0002 根据1所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述 第2有机溶剂为选自溶剂B中的1种以上。 0003 根据2所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述 第2有机溶剂为选自溶剂B1中的1种以上： 说明书 1/21 页 4 CN 111683993 A 4 溶剂B1 汉森溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 且汉森溶解度参数的氢键项H2(MPa0.5) 为10H2的溶剂。 0004 根据3所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A1中的1种以上， 所 述第2有机溶剂为。

13、选自溶剂B1中的1种以上： 溶剂A1 汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0 .5)为0P15、 且汉森溶解度参数的氢键项H1 (MPa0.5)为0H14的溶剂。 0005 根据1所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述 第2有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上。 0006 根据5所述的制造方法， 其中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 所述 第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上： 溶剂A2 汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为5P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1 (MPa0.5)为4H110的溶剂， 0007 根据6所述的制造方法， 其。

14、中， 所述第1有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上， 所 述第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上： 0008 根据17中任一项所述的制造方法， 其中， 在所述沉淀工序后， 进一步含有添 加第3有机溶剂的溶剂处理工序， 该第3有机溶剂为选自溶剂C中的1种以上。 溶剂C 汉森溶解度参数的极性项P3(MPa0.5)为10P3、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H3 (MPa0.5)为10H3的溶剂。 0009 根据18中任一项所述的制造方法， 其中， 所述高分子化合物为包含式(1)所 示的结构单元的高分子化合物。 式中， Ar1和Ar2各自独立地表示2价芳香族烃基、 2价杂环基、 或者2价芳香族烃基与2。

15、价杂环 基键合而成的基团， 这些基团任选具有取代基。 存在多个Ar2的情况下， 它们可以各自相同 或不同。 Ar3表示1价芳香族烃基、 或1价杂环基， 这些基团任选具有取代基。 存在多个Ar3的情况 下， 它们可以各自相同或不同。 a表示02的整数。 。 0010 一种调节方法， 其是调节高分子化合物的多分散度的方法， 其含有使包含高分子 化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的沉淀工 序， 说明书 2/21 页 5 CN 111683993 A 5 该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上， 该第2有。

16、机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1 种以上： 溶剂A 汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1 (MPa0.5)为0H110的溶剂， 溶剂B 汉森溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H2 (MPa0.5)为10H2的溶剂。 0011 一种发光元件的制造方法， 其为具有阳极、 阴极和有机层的发光元件的制造方法， 含有使用通过19中任一项所述的高分子化合物的制造方法所制造的高分子化合物 来形成所述有机层的工序。 发明效果 根据本发明的方法， 能够制造多分散度充分小的高分子化合物。 根据本发明的方法， 还 能够调。

17、节高分子化合物的多分散度。 通过本发明的方法制造的高分子化合物可适宜地用作 有机EL元件的材料等。 具体实施方式 1.共通的用语的说明 以下说明本说明书中使用的用语。 “氢原子” 可以为氕原子， 也可以为氘原子。 “烷基” 是指直链、 支链和环状的烷基。 直链的烷基的碳原子数通常为150， 优选为3 30， 更优选为420。 支链和环状的烷基的碳原子数通常为350， 优选为330， 更优选为4 20。 作为该烷基， 例如可举出甲基、 乙基、 正丙基、 异丙基、 正丁基、 异丁基、 叔丁基、 正戊 基、 异戊基、 2-乙基丁基、 正己基、 环己基、 正庚基、 环己基甲基、 环己基乙基、 正辛基、。

18、 2-乙基 己基、 3-正丙基庚基、 正癸基、 3,7-二甲基辛基、 2-乙基辛基、 2-正己基-癸基、 正十二烷基 等。 “烷基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 芳基、 1价杂环基、 烷 氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。“烷基” 任 选具有选自这些取代基中的120个取代基。 作为该取代烷基， 例如可举出三氟甲基、 五氟 乙基、 全氟丁基、 全氟己基、 全氟辛基、 3-苯基丙基、 3-(4-甲基苯基)丙基、 3-(3,5-二正己基 苯基)丙基、 6-乙氧基己基等。 “芳基” 是指从芳香族烃中除去了1个与构。

19、成环的碳原子直接键合的氢原子的1价基团。 芳基的碳原子数通常为660， 优选为620， 更优选为610。 作为该芳基， 例如可举出苯 基、 1-萘基、 2-萘基、 1-蒽基、 2-蒽基、 9-蒽基、 1-芘基、 2-芘基、 4-芘基、 2-芴基、 3-芴基、 4-芴 基等。 “芳基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷基、 芳基、 1价杂环 基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。“芳 基” 任选具有选自这些取代基中的110个取代基。 作为该取代芳基， 例如可举出五氟苯基、 说明书 3/21 页 6 CN 。

20、111683993 A 6 4-己基苯基、 4-苯基苯基等。 “烷氧基” 是指直链、 支链和环状的烷氧基。 直链的烷氧基的碳原子数通常为140， 优 选为410。 支链和环状的烷氧基的碳原子数通常为340， 优选为410。 作为该烷氧基， 例 如可举出甲氧基、 乙氧基、 正丙氧基、 异丙氧基、 正丁氧基、 异丁氧基、 叔丁氧基、 正戊氧基、 正己氧基、 环己氧基、 正庚氧基、 正辛氧基、 2-乙基己氧基、 正壬氧基、 正癸氧基、 3,7-二甲基 辛氧基、 月桂氧基等。 “烷氧基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 芳基、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、。

21、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。“烷氧 基” 任选具有选自这些取代基中的110个取代基。 “芳氧基” 是指从芳香族烃中将1个与构成环的碳原子直接键合的氢原子替换为氧原子 的1价基团。 芳氧基的碳原子数通常为660， 优选为748。 作为该芳氧基， 例如可举出苯氧 基、 1-萘氧基、 2-萘氧基、 1-蒽氧基、 9-蒽氧基、 1-芘氧基等。 “芳氧基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷基、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。“芳氧 基” 任选具有选自这些取代基中的。

22、110个取代基。 作为该取代芳氧基， 例如可举出五氟苯 氧基、 4-己基苯氧基、 4-苯基苯氧基等。 “取代氨基” 是指具有2个取代基的氨基。 作为该取代基， 例如可举出烷基、 芳基(该芳基 任选具有烷基)、 1价杂环基等。 作为该取代氨基， 例如可举出二烷基氨基、 二芳基氨基、 二 (单或二烷基芳基)氨基， 具体而言， 例如可举出二甲基氨基、 二乙基氨基、 二苯基氨基、 双 (4-甲基苯基)氨基、 双(4-叔丁基苯基)氨基、 双(3,5-二叔丁基苯基)氨基等。 “酯化的羧基” 是指式： -COOR(R表示烷基、 芳基、 1价杂环基等)所示的基团。 作为该酯 化的羧基， 例如可举出烷氧基羰基、。

23、 芳氧基羰基， 具体而言， 例如可举出-CO2CH3所示的基 团、 -CO2C2H5所示的基团、 -CO2C6H5所示的基团等。 “烯基” 可以为直链、 支链和环状的任一者。 直链的烯基的碳原子数通常为230， 优选 为220。 支链和环状的烯基的碳原子数通常为330， 优选为420。 作为该烯基， 例如可举 出乙烯基、 1-丙烯基、 2-丙烯基、 2-丁烯-1-基、 3-丁烯-1-基、 1-环己烯基、 1-降冰片基、 2-降 冰片基等。 “烯基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 芳基、 1价杂环基、 烷 氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 含金属。

24、络合物的基团等。“烯基” 任选具有选自 这些取代基中的120个取代基。 作为该取代烯基， 例如可举出2-苯基乙烯基、 4-辛基-2-苯 基乙烯基等。 “炔基” 可以为直链、 支链和环状的任一者。 直链的炔基的碳原子数通常为230， 优选 为220。 支链和环状的炔基的碳原子数通常为430， 优选为420。 作为该炔基， 例如可举 出乙炔基、 1-丙炔基、 2-丙炔基、 2-丁炔-1-基、 3-丁炔-1-基等。 “炔基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 芳基、 1价杂环基、 烷 氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 含金属络合物的基团等。“炔基” 任选。

25、具有选自 这些取代基中的120个取代基。 作为该取代炔基， 例如可举出2-苯基乙炔基、 4-辛基-2-苯 基乙炔基等。 “1价芳香族烃基” 是指从芳香族烃中除去了1个与构成环的碳原子直接键合的氢原子 说明书 4/21 页 7 CN 111683993 A 7 的1价基团。 芳香族烃的碳原子数通常为660， 优选为620， 更优选为610。 作为该1价芳 香族烃基， 例如可举出苯基、 1-萘基、 2-萘基、 1-蒽基、 2-蒽基、 9-蒽基、 1-芘基、 2-芘基、 4-芘 基、 2-芴基、 3-芴基、 4-芴基等。 “1价芳香族烃基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出卤原子(特别是。

26、氟原 子)、 氰基、 烷基、 芳基(该芳基任选具有选自烷基和烷氧基中的13个取代基)、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 亚烷基(二亚甲基、 三亚甲基等)等。“1价芳香族烃基” 任选具有 选自这些取代基中的110个取代基。 作为该取代的1价芳香族烃基， 例如可举出2-苯基苯 基、 3-苯基苯基、 4-苯基苯基、 苯并环丁烯基等。 “2价芳香族烃基” 是指从芳香族烃中除去了2个与构成环的碳原子直接键合的氢原子 的2价基团、 以及选自该2价基团中的多个(例如25个)键合而成的2价基团。 2价芳香族烃 基的碳原子数通常为660， 优选为630， 更优选为618。 作为该2价芳香族烃基， 。

27、例如可 举出亚苯基、 萘二基、 蒽二基、 菲二基、 二氢菲二基、 并四苯二基、 芴二基、 芘二基、 苝二基、 二基等。 “2价芳香族烃基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷基、 芳 基(该芳基任选具有选自烷基、 烷氧基、 苯基和烷基苯基中的15个取代基)、 1价杂环基、 烷 氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。“2价芳香 族烃基” 任选具有选自这些取代基中的110个取代基。 作为任选具有该取代基的2价芳香 族烃基， 例如可举出式(A-1)式(A-20)所示的基团等。 说明书 5/21 页 8 CN 11168。

28、3993 A 8 式中， R表示氢原子、 氟原子、 氰基、 烷基、 芳基、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团等。 R为能够被取代的基团的情况下， 任 选具有取代基。 存在多个R的情况下， 它们可以各自相同或不同。 相邻的R可以彼此相互键 合， 各自与键合的碳原子一起形成环。 “1价杂环基” 是指从杂环式化合物中除去了与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢 原子中的1个氢原子的1价基团。“1价杂环基” 中， 优选作为从芳香族杂环式化合物中除去了 与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢原子中的1个氢原子的1价基团的 “1价芳香族杂 。

29、环基” 。 作为 “1价杂环基” ， 例如可举出噻吩基、 吡咯基、 呋喃基、 吡啶基、 哌啶基、 喹啉基、 异 喹啉基、 嘧啶基、 三嗪基等。 “芳香族杂环式化合物” 是指例如噁二唑、 噻二唑、 噻唑、 噁唑、 噻吩、 吡咯、 磷杂环戊二 烯、 呋喃、 吡啶、 吡嗪、 嘧啶、 三嗪、 哒嗪、 喹啉、 异喹啉、 咔唑、 二苯并噻咯、 二苯并磷杂环戊二 说明书 6/21 页 9 CN 111683993 A 9 烯等杂环自身表现出芳香性的化合物； 吩噁嗪、 吩噻嗪、 二苯并硼杂环戊二烯、 二苯并噻咯、 苯并吡喃等杂环自身不表现出芳香性但杂环上稠合有芳香环的化合物； 以及这些化合物多 个键合而成的化。

30、合物的任一者。 “1价杂环基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出卤原子(特别是氟原子)、 氰 基、 烷基、 芳基、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 亚烷基等。 1价杂环基任选具有选自 这些取代基中的15个取代基。 “2价杂环基” 是指从杂环式化合物中除去了与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢 原子中的2个氢原子的2价基团。“2价杂环基” 中， 优选作为从芳香族杂环式化合物中除去了 与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢原子中的2个氢原子的2价基团的 “2价芳香族杂 环基” 。 作为 “2价杂环基” ， 例如可举出从吡啶、 二氮杂苯、 三嗪、 氮杂萘、 二氮杂萘、 咔唑、。

31、 二 苯并呋喃、 二苯并噻吩、 二苯并噻咯、 吩噁嗪、 吩噻嗪、 吖啶、 二氢吖啶、 呋喃、 噻吩、 唑、 二唑、 三唑、 噁唑、 噁二唑、 噻唑、 噻二唑等芳香族杂环式化合物中除去了与构成环的碳原子或杂 原子直接键合的氢原子中的2个氢原子的2价基团、 以及选自该2价基团中的多个(例如24 个)键合而成的2价基团。 “2价杂环基” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷基、 芳基、 1 价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基、 含金属络合物的基团 等。 2价杂环基任选具有选自这些取代基中的15个取代基。 作为任选具有该取代基的2。

32、价 杂环基， 优选为式(A-21)式(A-45)所示的基团。 说明书 7/21 页 10 CN 111683993 A 10 式中， R表示与上述相同的意思。 存在多个R的情况下， 它们可以各自相同或不同。 作为 “2价芳香族烃基与2价杂环基键合而成的基团” ， 是指上述的2价芳香族烃基的1个 或2个以上与上述的2价杂环基的1个或2个以上任意地键合而成的2价基团。 作为2价芳香族 烃基和2价杂环基， 可举出上述的2价芳香族烃基和2价杂环基。 “2价芳香族烃基与2价杂环基键合而成的基团” 任选具有取代基， 在作为其一部分结构 的2价芳香族烃基上， 任选具有选自上述的氟原子、 氰基、 烷基、 芳基。

33、、 1价杂环基、 烷氧基、 芳 氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基和含金属络合物的基团中的110个取代基， 在作为其另一部分结构的2价杂环基上， 任选具有选自上述的氟原子、 氰基、 烷基、 芳基、 1价 杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基和含金属络合物的基团中 的15个取代基。 “含金属络合物的基团” 是指包含由金属原子(M)和与其配位的配体形成的络合物的基 说明书 8/21 页 11 CN 111683993 A 11 团， 例如可举出式(C-1)式(C-4)的任一者所示的基团等。 式中， M为Ir或Pt。 M为Ir时， m2， 。

34、M为Pt时， m1。 环A表示任选具有取代基的包含氮原 子的环状结构。 环B表示任选具有取代基的包含碳原子的环状结构。 R表示与上述相同的意 思。 作为环A， 例如可举出含氮的芳香族环， 具体而言， 可举出吡啶、 喹啉、 异喹啉、 嘧啶、 吡 嗪、 咪唑等。 作为环B， 例如可举出芳香族环和杂芳香族环， 具体而言， 可举出苯、 萘、 二苯并 呋喃、 二苯并噻吩等。 “环A” 和 “环B” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷基、 芳基、 1 价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基、 羧基、 酯化的羧基、 烯基、 炔基等。“环A” 和 “环B” 任选 具有选自这些取。

35、代基中的14个取代基。 作为R， 优选烷基， 更优选碳原子数为14的烷基， 进一步优选甲基。 作为含金属络合物的基团， 例如可举出式(C-11)式(C-14)所示的基团。 “含金属络合物的基团” 任选具有取代基， 作为该取代基， 例如可举出氟原子、 氰基、 烷 基、 芳基、 1价杂环基、 烷氧基、 芳氧基、 取代氨基等。“含金属络合物的基团” 任选具有选自这 些取代基中的110个取代基。 2.本发明的高分子化合物的制造方法 本发明的高分子化合物的制造方法的特征在于， 含有使包含高分子化合物的溶液与包 含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序， 该包含2种以上有机 溶剂的混合。

36、溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂， 该第1有机溶剂为选自溶剂A 中的1种以上， 该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1种以上。 溶剂A 汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1 (MPa0.5)为0H110的溶剂， 溶剂B 汉森溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H2 (MPa0.5)为10H2的溶剂。 通过本发明的方法， 能够得到多分散度充分小的高分子化合物。 2.1汉森溶解度参数 说明书 9/21 页 12 CN 111683993 A 12 本发明中使用的汉森溶解度参数的极性项和氢键项。

37、使用 “HANSEN SOLUBILITY PARAMETERS A User s Handbook Second Edition” 的值。 对于其中未记载的溶剂， 可以根 据实用汉森溶解度参数(HSPiP： Hansen Solubility Parameters in Practice)程序(第2 版)来确定。 本说明书中的汉森溶解度参数的极性项和氢键项的值表示25下的值。 2.2沉淀工序 沉淀工序中， 使包含高分子化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从 而使高分子化合物沉淀。 该沉淀工序中使用的2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶 剂和第2有机溶剂。 第1有机溶剂为选自溶。

38、剂A中的1种以上(优选为1种或2种)， 该第2有机溶剂为选自下述 “溶剂A” 和 “溶剂B” 中的1种以上(优选为1种或2种)。 溶剂A 溶剂A是易于溶解高分子化合物的溶剂、 即对高分子化合物的良溶剂， 是汉森溶解度参 数的极性项P1(MPa0.5)为0P110、 且汉森溶解度参数的氢键项H1(MPa0.5)为0H110的 溶剂。 溶剂A的P1的范围为0以上， 进一步为0.5以上， 更进一步为1以上， 特别为4以上， 另外为 10以下， 进一步为8以下， 更进一步为6以下， 特别为5以下。 溶剂A的H1的范围为0以上， 进一步为0.5以上， 更进一步为1以上， 另外为10以下， 进一 步为9以。

39、下， 更进一步为8以下， 特别为5以下。 溶剂A只要是P1和H1满足上述的数值范围的有机溶剂， 则没有特别限定。 作为溶剂A的 一个方式， 例如可举出0P15且0H14的溶剂(以下记作 “溶剂A1” )、 5P110且4 H110的溶剂(以下记作 “溶剂A2” )等。 溶剂A为满足上述的条件的有机溶剂， 例如可以从酮系溶剂、 脂肪族烃系溶剂、 芳香族 烃系溶剂(该芳香族烃任选具有烷基、 烷氧基等取代基)、 卤代脂肪族烃系溶剂、 卤代芳香族 烃系溶剂、 醚系溶剂等中进行选择。 以下示出溶剂A的具体例。 表1 溶剂P1(MPa0.5)H1(MPa0.5) 甲乙酮95.1 苯乙酮8.63.7 二氯甲。

40、烷7.37.1 邻二氯苯6.33.3 甲基异丁基酮6.14.1 四氢呋喃5.78 氯苯4.32 苯甲醚4.16.7 氯仿3.15.7 甲苯1.42 二甲苯13.1 苯02 说明书 10/21 页 13 CN 111683993 A 13 环己基苯01 庚烷00 二噁烷1.87.4 作为溶剂A的优选的例子， 例如可举出甲苯、 二甲苯、 四氢呋喃、 二噁烷、 甲乙酮、 甲基异 丁基酮、 庚烷等， 作为特别优选的例子， 可举出甲苯。 溶剂B 溶剂B是难以溶解高分子化合物的溶剂、 即对高分子化合物的不良溶剂， 是汉森溶解度 参数的极性项P2(MPa0.5)为10P2、 和/或汉森溶解度参数的氢键项H2。

41、(MPa0.5)为10H2的 溶剂。 溶剂B的P2的范围通常大于4， 进一步地大于6， 更进一步地大于10。 上限没有特别限定， 例如为40以下， 进一步为30以下。 溶剂B的H2的范围通常大于4， 进一步地大于6， 更进一步地大于10。 上限没有特别限定， 例如为40以下， 进一步为30以下。 溶剂B只要是P2和/或H2满足上述的数值范围的溶剂， 则没有特别限定。 作为溶剂B的一 个方式， 例如可举出10P2且10H2的溶剂(以下记作 “溶剂B1” )等。 溶剂B为满足上述的条件的有机溶剂， 例如可以从腈系溶剂、 酮系溶剂、 亚砜系溶剂、 酰 胺系溶剂、 醇系溶剂(特别是碳原子数为16的醇)。

42、、 羧酸系溶剂等中进行选择。 以下示出溶剂B的具体例。 表2 溶剂P2(MPa0.5)H2(MPa0.5) 乙腈186.1 二甲基亚砜16.410.2 N， N-二甲基甲酰胺13.711.3 甲醇12.322.3 N-甲基吡咯烷酮12.37.2 N， N-二甲基乙酰胺11.510.2 乙二醇1126 丙酮10.47 乙醇8.819.4 乙酸813.5 1-丙醇6.817.4 2-丙醇6.116.4 1-丁醇5.715.8 叔丁醇5.114.7 环己醇4.113.5 作为溶剂B的更优选的例子， 例如可举出甲醇、 乙醇、 2-丙醇、 丙酮、 二甲基亚砜、 N， N-二 甲基甲酰胺， 作为特别优选的。

43、例子， 可举出甲醇。 作为包含2种以上有机溶剂的混合溶剂中的、 第1有机溶剂和第2有机溶剂的组合的优 选的例子， 例如可举出第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上且第2有机溶剂为选自溶剂B 说明书 11/21 页 14 CN 111683993 A 14 中的1种以上的组合； 第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上且第2有机溶剂为选自溶剂B1 中的1种以上的组合； 第1有机溶剂为选自溶剂A1中的1种以上且第2有机溶剂为选自溶剂B1 中的1种以上的组合等。 或者， 作为其它优选的组合， 例如可举出第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上且第2 有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上的组合； 第1有机溶剂为选。

44、自溶剂A2中的1种以上且第2 有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上的组合等。 作为第1有机溶剂与第2有机溶剂的更优选的组合， 例如可举出甲苯与甲醇、 甲苯与丙 酮、 甲基异丁基酮与甲乙酮、 庚烷与2-丙醇、 二噁烷与N， N-二甲基甲酰胺、 甲乙酮与二甲基 亚砜等。 2种以上有机溶剂的混合溶剂优选第1有机溶剂包含有选自对高分子化合物为良溶剂 的溶剂A(特别是溶剂A1)中的1种以上， 第2有机溶剂包含有选自对高分子化合物为不良溶 剂的溶剂B(特别是溶剂B1)中的1种以上。 作为第1有机溶剂与第2有机溶剂的进一步优选的组合， 例如可举出甲苯与甲醇、 甲苯 与丙酮、 庚烷与2-丙醇、 二噁烷与N,N-。

45、二甲基甲酰胺、 甲乙酮与二甲基亚砜等的组合， 作为 特别优选的组合， 为甲苯与甲醇。 包含2种以上有机溶剂的混合溶剂中的第1有机溶剂和第2有机溶剂的用量如下所述。 第1有机溶剂的用量从减小高分子化合物的多分散度的观点出发， 在该混合溶剂中优 选为20质量以上， 更优选为30质量以上， 进一步优选为40质量以上。 另外， 从使高分 子化合物在沉淀工序中析出的观点出发， 在该混合溶剂中优选为90质量以下， 更优选为 80质量以下， 进一步优选为70质量以下。 第2有机溶剂的用量从减小高分子化合物的多分散度的观点出发， 在该混合溶剂中优 选为80质量以下， 更优选为70质量以下， 进一步优选为60质。

46、量以下。 另外， 从使高分 子化合物在沉淀工序中析出的观点出发， 在该混合溶剂中优选为10质量以上， 更优选为 20质量以上， 进一步优选为30质量以上。 作为第1有机溶剂与第2有机溶剂的质量比(第1有机溶剂/第2有机溶剂)， 例如为1/4 9/1， 优选为3/74/1， 更优选为2/37/3。 沉淀工序包括将包含高分子化合物的溶液添加到包含2种以上有机溶剂的混合溶剂中 的方式、 将包含2种以上有机溶剂的混合溶剂添加到包含高分子化合物的溶液中的方式的 任一者。 从沉淀的高分子化合物的性状及其操作性等的观点出发， 优选为前者的方式。 包含高分子化合物的溶液可以是使固体的高分子化合物溶解于溶剂而得。

47、的溶液， 可以 是使由单体进行聚合反应而得到的反应后溶液， 也可以是由反应后溶液提纯了高分子化合 物的提纯后溶液。 作为反应后溶液的提纯， 可举出分液、 色谱、 蒸馏等公知的提纯方法。 通过沉淀工序， 能够有效地除去高分子化合物中所包含的低分子量成分， 因此能够得 到多分散度(Mw/Mn)低(即接近于1)的高分子化合物。 另外， 沉淀工序中， 通过改变第1有机溶剂与第2有机溶剂的质量比(第1有机溶剂/第2 有机溶剂)， 能够使沉淀的高分子化合物的多分散度变化。 例如， 实施例2和3中， 第1有机溶 剂(甲苯)与第2有机溶剂(丙酮)的质量比分别为1/1和1/3， 沉淀的高分子化合物(P4)的多 。

48、分散度分别成为1.9和2.4。 另外， 实施例17、 18和19中， 第1有机溶剂(甲乙酮)与第2有机溶 剂(二甲基亚砜)的质量比分别为4/1、 3/2和1/1， 沉淀的高分子化合物(P21P23)的多分散 说明书 12/21 页 15 CN 111683993 A 15 度分别成为1.6、 1.7和2.1。 即， 沉淀工序中， 第1有机溶剂与第2有机溶剂的质量比(第1有机 溶剂/第2有机溶剂)越大， 则沉淀的高分子化合物的多分散度越小(接近于1)。 由此， 沉淀工 序中， 通过调节第1有机溶剂与第2有机溶剂的质量比(第1有机溶剂/第2有机溶剂)， 能够得 到具有所期望的分子量和多分散度的高分。

49、子化合物。 包含高分子化合物的溶液的溶剂只要是可溶解高分子化合物的溶剂、 即高分子化合物 的良溶剂， 则没有特别限定。 例如可以举出在第1有机溶剂中举出的溶剂、 即选自溶剂A中的 1种以上(特别是1种或2种)。 作为优选的例子， 例如可举出甲苯、 二甲苯、 四氢呋喃、 苯甲醚、 二甲氧基苯、 环己基苯、 它们的混合溶剂等， 作为特别优选的例子， 可举出甲苯、 四氢呋喃、 它们的混合溶剂。 包含高分子化合物的溶液中的高分子化合物的浓度没有特别限定， 通常可以基于高分 子化合物对溶剂的溶解度来设定。 该浓度通常为0.05质量15质量， 优选0.1质量 10质量， 更优选0.5质量5质量。 沉淀工序。

50、的混合液的温度通常为-100200， 优选为0150， 更优选为10 100， 进一步优选为1540， 特别优选为2030。 沉淀工序优选边搅拌混合液边进行。 搅拌时间通常为1分钟100小时， 优选为30分钟 10小时。 沉淀工序可以根据需要重复实施多次， 例如可以重复实施25次左右。 由此， 能够取得 多分散度更小的高分子化合物。 包含2种以上有机溶剂的混合溶剂的用量相对于包含高分子化合物的溶液1质量份， 通 常为1质量份以上， 优选为2质量份以上， 更优选为3质量份以上， 另外， 通常为1000质量份以 下， 优选为300质量份以下， 更优选为100质量份以下。 高分子化合物是将规定的单体。