掩模装置的制造装置.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910634499.4 (22)申请日 2019.07.15 (30)优先权数据 2018-139301 2018.07.25 JP (71)申请人 株式会社日本显示器 地址 日本东京都 (72)发明人 成谷元嗣 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限 公司 11322 代理人 邸万杰 (51)Int.Cl. C23C 14/04(2006.01) C23C 14/24(2006.01) C23C 14/12(2006.01) (54)发明名称 掩模装置的制造装置 。

2、(57)摘要 本发明的目的之一在于提供能够以高精度 对准掩模并将掩模固定在框架上的掩模装置的 制造方法和制造装置。 掩模装置的制造装置包 括： 工作台， 其包括用于保持框架的框架保持工 作台和具有多个升降销的对准工作台； 保持部， 其用于保持与工作台相对地配置的基准板； 掩模 保持单元， 其配置在工作台与基准板之间， 用于 保持掩模； 和用于透过基准板对工作台的方向进 行拍摄的摄像机， 掩模保持单元在框架侧的面保 持掩模， 掩模保持单元能够通过多个升降销的动 作在对准工作台上升降， 多个升降销包括能够与 掩模保持单元接触的多个第一升降销， 摄像机对 形成在掩模上的第一基准标记和形成在基准板 上。

3、的第二基准标记进行拍摄。 权利要求书2页 说明书9页 附图12页 CN 110777327 A 2020.02.11 CN 110777327 A 1.一种掩模装置的制造装置， 所述掩模装置是将掩模固定在框架上而成的， 所述掩模 装置的制造装置的特征在于， 包括： 工作台， 其包括用于保持所述框架的框架保持工作台和具有多个升降销的对准工作 台； 保持部， 其用于保持与所述工作台相对地配置的基准板； 掩模保持单元， 其配置在所述工作台与所述基准板之间， 用于保持所述掩模； 和 用于透过所述基准板对所述工作台的方向进行拍摄的摄像机， 所述掩模保持单元在所述框架侧的面保持所述掩模， 所述掩模保持单元。

4、能够通过所述多个升降销的动作在所述对准工作台上升降， 所述多个升降销包括能够与所述掩模保持单元接触的多个第一升降销， 所述摄像机对形成在所述掩模上的第一基准标记和形成在所述基准板上的第二基准 标记进行拍摄。 2.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述多个第一升降销配置在所述框架的外侧， 能够相对于所述对准工作台升降， 从而 使所述掩模保持单元在所述对准工作台上升降。 3.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述多个第一升降销彼此同步地升降。 4.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述多个升降销还包括能够与所述掩模接触的多个第二升降销。 。

5、5.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述框架具有开口， 所述多个第二升降销配置在所述框架的开口的内侧， 能够相对于所述对准工作台升 降， 从而使所述掩模在所述对准工作台上升降。 6.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述多个第二升降销彼此同步地升降。 7.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述多个第一升降销相对于所述对准工作台的升降范围大于所述多个第二升降销相 对于所述对准工作台的升降范围。 8.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述框架保持工作台与所述对准工作台隔开间隙地配置， 所述对准工作台能够在所述间隙中移。

6、动。 9.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述掩模保持单元利用磁力来保持所述掩模。 10.如权利要求9所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述掩模保持单元包括电磁铁。 11.如权利要求10所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述电磁铁的面积小于所述掩模的面积。 12.如权利要求10所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述掩模保持单元在所述掩模与所述电磁铁之间还包括接触板。 权利要求书 1/2 页 2 CN 110777327 A 2 13.如权利要求12所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述接触板与所述掩模接触的面是平坦的。 14.如权利要求1所。

7、述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述掩模与所述掩模保持单元接触的面是平坦的。 15.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述工作台包括多个所述对准工作台， 在所述工作台与所述基准板之间配置有多个所述掩模保持单元， 用于保持多个所述掩 模。 16.如权利要求15所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 所述框架保持工作台与所述多个对准工作台隔开间隙地配置， 所述多个对准工作台能够分别独立地在所述间隙中移动。 17.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置， 其特征在于： 还包括用于将所述框架和所述掩模焊接的焊接机。 权利要求书 2/2 页 3 CN 110777327 A 。

8、3 掩模装置的制造装置 技术领域 0001 本发明的一个实施方式涉及将掩模固定在框架上而成的掩模装置的制造装置。 背景技术 0002 显示装置中， 在各像素设置有发光元件， 通过单独地控制发光来显示图像。 例如， 在使用有机EL元件作为发光元件的有机EL显示装置中， 在各像素设置有有机EL元件， 有机 EL元件具有在由阳极电极和阴极电极构成的一对电极间夹着含有有机EL材料的层(下面， 称为 “有机EL层” )的结构。 有机EL层由发光层、 电子注入层、 空穴注入层等功能层构成， 通过 选择这些功能层的有机材料， 能够以各种波长的颜色发光。 0003 在以低分子化合物为材料形成有机EL元件的薄膜。

9、时， 可以使用蒸镀法。 在蒸镀法 中， 利用加热器将蒸镀材料加热、 升华， 使其蒸镀在基板的表面来形成薄膜。 此时， 通过使用 具有多个微细的开口图案的掩模， 利用掩模的开口形成微细的薄膜图案。 0004 掩模可以以将掩模固定在具有刚性的框状的框架上而成的掩模装置的形式使用。 例如， 日本特开2006-265712号公报中公开了如下的方法： 利用多个夹具抓持极薄且具有刚 性不同的区域的掩模并对其施加张力， 从而将该掩模以没有变形或松弛的平坦的状态固定 在框状的框架上。 发明内容 0005 发明要解决的技术问题 0006 本发明的一个实施方式的目的之一在于， 提供能够以高精度对准掩模并将掩模固 。

10、定在框架上的掩模装置的制造装置。 0007 用于解决技术问题的手段 0008 本发明的一个实施方式的掩模装置的制造装置是将掩模固定在框架上而成的掩 模装置的制造装置， 其特征在于， 包括： 工作台， 其包括用于保持所述框架的框架保持工作 台和具有多个升降销的对准工作台； 保持部， 其用于保持与所述工作台相对地配置的基准 板； 掩模保持单元， 其配置在所述工作台与所述基准板之间， 用于保持所述掩模； 和用于透 过所述基准板对所述工作台的方向进行拍摄的摄像机， 所述掩模保持单元在所述框架侧的 面保持所述掩模， 所述掩模保持单元能够通过所述多个升降销的动作在所述对准工作台上 升降， 所述多个升降销包。

11、括能够与所述掩模保持单元接触的多个第一升降销， 所述摄像机 对形成在所述掩模上的第一基准标记和形成在所述基准板上的第二基准标记进行拍摄。 附图说明 0009 图1A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的概略结构的俯视图。 0010 图1B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的概略结构的截面图。 0011 图2A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造装置的概略结构的俯视图。 0012 图2B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造装置的概略结构的侧视图。 说明书 1/9 页 4 CN 110777327 A 4 0013 图3A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造装置的工作台的结构的。

12、俯 视图。 0014 图3B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造装置的工作台的结构的俯 视图。 0015 图4A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0016 图4B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0017 图5A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0018 图5B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0019 图6A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0020 图6B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0021 图7A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的。

13、制造方法的俯视图。 0022 图7B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0023 图8A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0024 图8B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0025 图9A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0026 图9B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0027 图10A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的俯视图。 0028 图10B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0029 图11A是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制。

14、造方法的俯视图。 0030 图11B是表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法的侧视图。 0031 图12是表示本发明的变形例的掩模装置的制造装置的工作台的结构的俯视图。 0032 附图标记说明 0033 100： 掩模装置， 110： 掩模， 110a： 第一面， 110b： 第二面， 112： 掩模图案部， 114： 第一 基准标记， 116： 固定点， 120： 框架， 122： 开口， 200： 掩模装置的制造装置， 210： 工作台， 210a： 对准工作台， 210b： 框架保持工作台， 220： 掩模保持单元， 220a： 磁场产生部， 220b： 接触板， 222b： 开口。

15、， 230： 基准板， 232： 第二基准标记， 234： 支承部， 240： 摄像机， 250： 第一升降销， 260： 第二升降销， 270： 焊接机。 具体实施方式 0034 下面， 参照附图等， 对本发明的实施方式进行说明。 但是， 本发明可以由多个不同 的方式来实施， 并不限定解释为下面例示的实施方式的记载内容。 附图中， 为了使说明更明 确， 有时与实际的方式相比示意性地表示各部分的尺寸、 厚度、 形状等， 仅是一个例子， 并不 是对本发明的解释进行限定。 在本说明书和各图中， 有时对于与针对前面出现的图已说明 过的要素相同的要素， 标注相同的附图标记(或者在数字之后标注a、 b等。

16、而得到的附图标 记)， 适当省略详细的说明。 对各要素附加的 “第一” 、“第二” 的文字， 是用于区分各要素而使 用的为方便起见的标识， 只要没有特殊的说明就不具有除此以外的含义。 0035 在本说明书中， 使某一部件或区域位于另一部件或区域之 “上(或下)” 的情况， 只 要没有特殊的限定， 不仅包括某一部件或区域位于另一部件或区域的正上方(或正下方)的 情况， 而且也包括某一部件或区域位于另一部件或区域的上方(或下方)的情况， 即， 也包括 说明书 2/9 页 5 CN 110777327 A 5 在另一部件或区域的上方(或下方)在某一部件或区域与另一部件或区域之间包含其他构 成要素的情。

17、况。 在下面的说明中， 只要没有特别说明， 在截面观察时， 将在基底部件上设置 触控传感器(touch sensor)的一侧称为 “上” 或 “上方” ， 将从 “上” 或 “上方” 看到的面称为 “上表面” 或 “上表面侧” ， 反之则称为 “下” 、“下方” 、“下表面” 或 “下表面侧” 。 0036 在下面的说明中， 在图中示出D1方向、 D2方向、 D3方向时， D1方向与D2方向正交， D1 方向及D2方向与D3方向正交。 0037 (第一实施方式) 0038 掩模装置的概略结构 0039 图1A和图1B表示本发明的一个实施方式的掩模装置100的概略结构。 图1A是掩模 装置100。

18、的俯视图。 图1B是图1A的A-A 截面图。 0040 本实施方式的掩模装置100包括掩模110和框架120。 掩模110具有掩模图案部112。 掩模图案部112具有多个微细的开口图案(成膜图案)， 通过用于蒸镀， 可利用掩模图案部 112形成微细的薄膜图案。 掩模图案部112的形状、 排列是任意的， 例如， 可以举出将细长的 缝隙状的开口部平行地排列的方式， 将矩形状的开口部在纵向上排列并且平行地排列的方 式等。 例如， 当在1块基板上制造多个显示面板的情况下， 掩模110在与多个显示面板对应的 各个位置具有与成膜图案相应的掩模图案部112。 因此， 通过使用本实施方式的掩模装置 100， 。

19、能够对多个显示面板一并形成由低分子化合物构成的薄膜。 在本实施方式中， 掩模110 在与显示面板对应的位置的大致整个面具有矩形的掩模图案部112。 但是并不限定于此， 掩 模图案部112可以采用与成膜图案相应的任意的形状。 掩模110可以使用例如由镍、 镍合金、 殷钢等磁性金属构成的厚度3 m20 m的膜状的金属。 掩模110更优选热膨胀系数小、 不易 受到热的影响的具有殷钢特性的金属膜(金属片)。 也可以是掩模110具有厚度不同的区域。 0041 在本实施方式中， 掩模110为矩形， 在4个角设置有第一基准标记114。 该第一基准 标记114是在后述的制造掩模装置100时， 用于进行基准板与。

20、掩模110之间的位置对准的掩 模侧的对准标记。 另外， 也能够用于进行在蒸镀时作为蒸镀对象的基板与掩模装置100之间 的位置对准。 0042 掩模110在固定点116通过点焊等被固定在框架120上。 掩模110在外周部具有多个 固定点116。 优选多个固定点116至少形成在掩模110的一边和与该一边相对的一边。 更优选 多个固定点116分别形成在掩模110的4边。 框架120是用于保持掩模110的外周部的框状的 部件， 由热膨胀系数小的材料例如殷钢等构成。 框架120至少在掩模110的与多个显示面板 对应的位置具有开口122。 即， 在俯视时， 掩模110的掩模图案部112配置在框架120的开。

21、口 122的内侧。 掩模110的外部尺寸大于框架120的开口122的口径， 小于框架120的外部尺寸。 在本实施方式中， 在1个框架120上配置有2个掩模110。 在每1个掩模上形成有12处的固定点 116。 但是并不限定于此， 掩模110和固定点116的数量可以设定为任意的数量。 0043 如图1B所示， 掩模110具有： 与成膜对象物相对的第一面110a； 和第一面110a的相 反侧的与框架120接触的第二面110b。 优选掩模110的第一面110a是大致平坦的。 另一方面， 掩模110的第二面110b可以具有凹凸结构。 通过掩模110的第二面110b具有凹凸结构， 在对 掩模110进行维。

22、护时， 容易通过清洗将附着物等除去。 0044 掩模装置的制造装置 0045 接着， 对掩模装置100的制造方法和制造装置进行说明。 图2A和图2B表示本发明的 说明书 3/9 页 6 CN 110777327 A 6 一个实施方式的掩模装置的制造装置200的概略结构。 图2A是掩模装置的制造装置200的俯 视图。 图2B是掩模装置的制造装置200的侧视图。 0046 本实施方式的掩模装置的制造装置200包括工作台210、 掩模保持单元220、 用于支 承基准板230的支承部234、 摄像机240。 工作台210在D1-D2方向具有平面。 掩模保持单元220 配置在工作台210的面上。 在本实。

23、施方式中， 在1个工作台210上配置有2个掩模保持单元 220。 但是并不限定于此， 掩模保持单元220的数量只要与掩模110的数量对应即可。 在俯视 时， 掩模保持单元220的面积小于工作台210的面积。 0047 在本实施方式中， 掩模保持单元220利用磁力从掩模110的与工作台210相反的一 侧(D3反方向)保持掩模110的第一面110a。 为此， 掩模保持单元220包括磁场产生部220a和 接触板220b。 在本实施方式中， 磁场产生部220a是电磁铁。 磁场产生部220a是电磁铁， 因此 具有利用电气方式或机械方式来控制对掩模作用磁力的状态和不对掩模作用磁力的状态 这至少2种状态的功。

24、能。 但是并不限定于此， 也可以是使用永磁铁代替电磁铁作为磁场产生 部220a。 掩模保持单元220在掩模保持单元220的工作台210侧保持掩模110。 因此， 在掩模保 持单元220的与掩模110接触的工作台210侧配置接触板220b。 接触板220b可以使用例如不 锈钢、 殷钢等厚度为1mm50mm的板状的材料。 更优选接触板220b为热膨胀系数小的材料。 因为接触板220b为热膨胀系数小的材料， 所以， 在制造掩模装置100时， 能够抑制由随时间 的温度变化导致的掩模110与框架120的偏离(错位)。 但是并不限定于此， 接触板220b只要 能够使磁场产生部220a的磁力通过， 大致平坦。

25、即可。 而且在接触板220b上， 为了使得能够进 行后述的掩模110与框架120的焊接， 在固定点116的位置设置有开口222b。 在本实施方式 中， 给出掩模保持单元220由磁场产生部220a和接触板220b构成的例子， 但是并不限定于该 例子， 也可以省略接触板220b。 另外， 也可以是磁场产生部220a和接触板220b形成为一体。 在不区分磁场产生部220a和接触板220b时称为掩模保持单元220。 通过构成为这样， 掩模保 持单元220能够平坦地从D3反方向保持掩模110的第一面110a。 0048 在掩模保持单元220的与工作台210相反的一侧(与D1-D2方向正交的D3方向)， 。

26、配 置用于支承基准板230的支承部234。 支承部234可拆装地支承基准板230。 基准板230可以预 先设置在掩模装置的制造装置200中， 也可以根据掩模装置的规格而适当设置在支承部234 上。 在俯视时， 基准板230的面积大于掩模保持单元220的面积。 在基准板230上设置有与掩 模110的第一基准标记114对应的第二基准标记232。 该第二基准标记232是在后述的制造掩 模装置100时， 用于进行基准板230与掩模110之间的位置对准的基准板230侧的对准标记。 基准板230的第二基准标记232配置在比与掩模保持单元220对应的位置靠D1方向和D1反方 向外侧的位置。 即， 在俯视时，。

27、 基准板230的第二基准标记232配置在比掩模保持单元220靠 D1方向和D1反方向外侧的位置。 在本实施方式中， 基准板230的材料为厚度4mm20mm的板 状的玻璃。 但是并不限定于此， 基准板230只要具有透过性即可。 更优选基准板230为热膨胀 系数小的材料。 因为基准板230为热膨胀系数小的材料， 所以， 在制造掩模装置100时， 能够 抑制第二基准标记232由随时间的温度变化引起的偏离。 0049 在基准板230的与工作台210相反的一侧(D3方向)， 在与第二基准标记232对应的 位置配置摄像机240。 在进行基准板230与掩模110的位置对准时， 摄像机240透过基准板230 。

28、对第二基准标记232与第一基准标记114的位置进行拍摄。 0050 接着， 对工作台210的结构进行详细说明。 图3A和图3B表示本发明的一个实施方式 说明书 4/9 页 7 CN 110777327 A 7 的掩模装置的制造装置的工作台的结构。 图3A是工作台210的俯视图。 图3B是配置了框架 120的工作台210的俯视图。 0051 本实施方式的掩模装置的制造装置200的工作台210包括对准工作台210a和框架 保持工作台210b。 在本实施方式中， 工作台210包括： 2个矩形的对准工作台210a； 和包围对 准工作台210a的1个框状的框架保持工作台210b。 但是并不限定于此， 只。

29、要对准工作台210a 的数量与掩模110的数量对应， 且框架保持工作台210b的数量与框架120的数量对应即可。 0052 框架保持工作台210b在D1-D2方向具有平面， 用于保持后述的框架120。 框架120由 框架保持工作台210b与D1-D2面平行地固定在掩模装置的制造装置200中。 0053 2个对准工作台210a相对于框架保持工作台210b在D1-D2面方向(包括旋转方向) 分别能够独立地移动。 在对准工作台210a与框架保持工作台210b之间具有间隙， 对准工作 台210a能够在间隙的范围内相对于框架保持工作台210b移动。 0054 对准工作台210a具有多个第一升降销250和。

30、多个第二升降销260。 在对准工作台 210a中， 多个第一升降销250在D3方向升降时， 配置在框架120的外侧， 能够与掩模保持单元 220接触。 也可以是在多个第一升降销250的与接触板220b接触的前端， 配置用于稳定地保 持接触板220b的磁铁等。 在对准工作台210a中， 多个第二升降销260在D3方向升降时， 配置 在框架120的开口122的内侧， 能够与后述的掩模110接触。 也可以是在多个第二升降销260 的与掩模110接触的前端， 配置用于稳定地保持掩模110的磁铁等。 通过构成为这样， 掩模保 持单元220和掩模110能够由对准工作台210a、 第一升降销250和第二升降。

31、销260相对于框架 120平行(D1-D2面方向和以D3方向为轴的旋转方向)地移动。 关于多个第一升降销250和多 个第二升降销260的位置和动作， 将在后面详细说明。 0055 利用本实施方式的掩模装置100的制造装置， 因为具有对准工作台210a、 第一升降 销250和第二升降销260， 所以能够以高精度对准掩模并将其固定在框架上。 0056 掩模装置的制造装置的动作和掩模装置的制造方法 0057 图4A至图9B表示本发明的一个实施方式的掩模装置的制造方法。 图4A是掩模保持 单元220上升后的状态下的掩模装置的制造装置200的俯视图。 图4B是该状态下的掩模装置 的制造装置200的侧视图。

32、。 0058 如图4A和图4B所示， 工作台210(对准工作台210a)具有多个第一升降销250。 第一 升降销250能够在D3方向从对准工作台210a上升， 与掩模保持单元220的接触板220b接触。 进而第一升降销250能够使掩模保持单元220上升， 在工作台210与掩模保持单元220之间形 成空间。 在本实施方式中， 第一升降销250分别在对准工作台210a的D2方向的一端和与该一 端相反的一侧的另一端在D1方向排列配置。 多个第一升降销250从对准工作台210a在D3方 向同步地升降。 通过构成为这样， 第一升降销250配置在后述的框架120的外侧， 能够在D3方 向与D1-D2面平行。

33、地举起掩模保持单元220。 0059 图5A是在工作台210上放置了框架120的状态下的掩模装置的制造装置200的俯视 图。 图5B是该状态下的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0060 如图5A和图5B所示， 框架120被放置在掩模装置的制造装置200的工作台210与掩 模保持单元220之间。 框架120从D1方向被放置在由工作台210、 多个第一升降销250和掩模 保持单元220包围的空间。 即， 在D2方向， 掩模保持单元220的接触板220b的外部尺寸大于框 架120的外部尺寸。 说明书 5/9 页 8 CN 110777327 A 8 0061 框架120由位置对准机构(未图示)配。

34、置在框架120的开口122与掩模保持单元220 的磁场产生部220a对应的位置。 即， 在俯视时， 掩模保持单元220的磁场产生部220a配置在 框架120的开口122。 为了使得能够进行后述的掩模110与框架120的焊接， 在俯视时， 掩模保 持单元220的磁场产生部220a和接触板220b至少使固定点116的位置露出。 另外， 优选掩模 保持单元220的一部分比开口122大， 以使得掩模保持单元220被按压时， 至少在掩模110和 框架120在俯视时重叠的位置， 在除固定点116以外的区域， 掩模110与框架120紧贴。 被放置 的框架120可利用夹具或磁铁等固定在框架保持工作台210b上。

35、。 0062 图6A是在框架120与掩模保持单元220之间被送入了掩模110的状态下的掩模装置 的制造装置200的俯视图。 图6B是该状态下的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0063 如图6A和图6B所示， 掩模110被放置在由框架保持工作台210b保持的框架120与掩 模保持单元220之间。 掩模110从D1方向被放置在由框架120、 多个第一升降销250和掩模保 持单元220包围的空间。 即， 在D2方向， 掩模保持单元220的接触板220b的外部尺寸大于掩模 110的外部尺寸。 在俯视时， 掩模110以覆盖框架120的开口122的方式配置。 掩模保持单元 220的磁场产生部220a的。

36、面积小于掩模110的面积。 另外， 掩模保持单元220的磁场产生部 220a的外部尺寸小于掩模110的外部尺寸。 掩模110的掩模图案部112配置在与掩模保持单 元220的磁场产生部220a对应的位置。 即， 在俯视时， 掩模110的掩模图案部112配置在掩模 保持单元220的磁场产生部220a的位置。 此外， 也可以是， 在D1方向， 掩模保持单元220的接 触板220b的外部尺寸小于掩模110的外部尺寸。 为了使得能够进行后述的掩模110与框架 120的焊接， 在俯视时， 掩模保持单元220的磁场产生部220a和接触板220b至少使固定点116 的位置露出。 0064 掩模110的第一基准。

37、标记114配置在比与掩模保持单元220对应的位置靠D1方向和 D1反方向的外侧的位置。 即， 在俯视时， 掩模保持单元220的磁场产生部220a和接触板220b 至少使掩模110的第一基准标记114露出。 0065 图7A是掩模保持单元220下降到能够吸附掩模110的位置的状态下的掩模装置的 制造装置200的俯视图。 图7B是该状态下的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0066 被送入的掩模110由掩模保持单元220保持。 如图7A和图7B所示， 通过第一升降销 250下降， 掩模保持单元220在D3反方向下降。 在此， 掩模保持单元220的接触板220b与掩模 110的第一面110a接触。。

38、 即， 掩模110与接触板220b的工作台210侧接触。 掩模保持单元220利 用磁场产生部220a的磁力隔着接触板220b从第一面110a侧(D3反方向)保持掩模110。 因此， 优选接触板220b和掩模110的第一面110a是大致平坦的。 通过构成为这样， 掩模保持单元 220能够大致平坦地保持掩模110。 不需要为了使掩模110平坦化而施加张力， 因此， 能够减 少由张力引起的掩模110的变形等问题。 而且， 不需要在D1-D2方向抓持掩模110， 因此， 能够 节省空间并且能够将多个掩模平铺(tiling)。 0067 图8A是掩模保持单元220吸附掩模110并使掩模110上升的状态下。

39、的掩模装置的制 造装置200的俯视图。 图8B是该状态下的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0068 如图8A和图8B所示， 第一升降销250在D3方向从对准工作台210a上升， 使掩模保持 单元220上升。 而且， 工作台210(对准工作台210a)具有多个第二升降销260。 第二升降销260 在D3方向从对准工作台210a上升， 与掩模110接触。 进而， 第二升降销260使掩模110上升， 在 工作台210与掩模110之间形成空间。 第二升降销260与掩模110接触， 因此配置在掩模110的 说明书 6/9 页 9 CN 110777327 A 9 与掩模图案部112对应的位置以外的区。

40、域。 优选第二升降销260配置在掩模110的与显示面 板对应的位置以外的区域。 在本实施方式中， 第二升降销260配置在多个第一升降销250之 间。 第二升降销260配置在框架120的开口122。 多个第一升降销250和多个第二升降销260在 D3方向从对准工作台210a同步地升降。 0069 而且， 第一升降销250能够在框架120的外侧在D1-D2面方向移动。 第二升降销260 能够在框架120的开口122的内侧在D1-D2面方向移动。 多个第一升降销250和多个第二升降 销260按每个对准工作台210a在D1-D2面方向同步地移动。 通过构成为这样， 对准工作台 210a、 第一升降销2。

41、50和第二升降销260能够使掩模保持单元220和掩模110一体地在D1-D2 面方向或以D3方向为轴的旋转方向移动。 0070 第一升降销250与掩模保持单元220接触， 第二升降销260与掩模110接触。 因此， 在 第一升降销250和第二升降销260上升时， 第一升降销250的前端比第二升降销260的前端在 D3方向高出掩模110的厚度。 即， 第一升降销250相对于对准工作台210a的升降范围大于第 二升降销260相对于对准工作台210a的升降范围。 第一升降销250和第二升降销260在上述 的从对准工作台210a在D3方向同步地升降时和在D1-D2面方向同步地移动时， 维持该高度 的差。

42、异。 通过构成为这样， 对准工作台210a、 第一升降销250和第二升降销260能够使掩模保 持单元220和掩模110一体地在D3方向、 D1-D2面方向或以D3方向为轴的旋转方向与框架120 (D1-D2面方向)平行地移动。 而且， 掩模保持单元220和第二升降销260能够大致平坦地维持 掩模110。 0071 为了进行基准板230与掩模110的位置对准， 摄像机240对第二基准标记232和第一 基准标记114的位置进行拍摄。 通过对准工作台210a、 第一升降销250和第二升降销260使掩 模保持单元220和掩模110在D1-D2面方向移动， 来进行基准板230的第二基准标记232与掩 模。

43、110的第一基准标记114的位置对准。 在此， 对准工作台210a、 第一升降销250和第二升降 销260作为对准机构发挥作用。 通过构成为这样， 摄像机240、 对准工作台210a、 第一升降销 250和第二升降销260能够高精度地进行第二基准标记232与第一基准标记114的位置对准。 0072 图9A是使掩模110和掩模保持单元220下降， 将掩模110焊接到框架120上的掩模装 置的制造装置200的俯视图。 图9B是使掩模110和掩模保持单元220下降， 将掩模110焊接到 框架120上的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0073 如图9A和图9B所示， 当第二基准标记232与第一基准。

44、标记114的位置对准时， 第一 升降销250和第二升降销260在对准工作台210a的D3反方向下降， 使掩模保持单元220和掩 模110下降。 多个第一升降销250和多个第二升降销260在对准工作台210a的D3反方向同步 地下降。 通过构成为这样， 第一升降销250和第二升降销260能够使掩模保持单元220和掩模 110一体地在D3反方向与D1-D2面平行地下降。 而且， 掩模保持单元220和第二升降销260能 够大致平坦地维持掩模110。 0074 对准后的掩模110由焊接机270固定在框架120上。 掩模110在固定点116由焊接机 270的激光等点焊到框架120上。 在D2方向， 掩模。

45、保持单元220的接触板220b的外部尺寸大于 框架120的外部尺寸。 因此， 也可以是经由接触板220b的开口222b进行掩模110与框架120的 焊接。 然后， 将被焊接到框架120上的掩模110从掩模装置的制造装置200卸下， 从而可将其 作为能够用于蒸镀等的掩模装置100提供。 0075 利用本实施方式的掩模装置100的制造方法， 由掩模保持单元220从与工作台210 说明书 7/9 页 10 CN 110777327 A 10 相反的一侧大致平坦地保持掩模110， 从而能够以更高精度对准掩模并将掩模固定在框架 上。 0076 (第二实施方式) 0077 本实施方式的掩模装置的结构与第一。

46、实施方式的掩模装置的结构相同。 本实施方 式的掩模装置的制造方法中， 代替由多个第一升降销250和多个第二升降销260使掩模110 和掩模保持单元220上升(参照图8A和图8B)， 而由多个第一升降销250使掩模110和掩模保 持单元220上升(参照图10A和图10B)， 除此以外， 与第一实施方式的掩模装置的制造方法相 同。 省略与第一实施方式相同的说明， 在此对与第一实施方式的掩模装置的制造方法不同 的部分进行说明。 0078 掩模装置的制造装置的动作和掩模装置的制造方法 0079 图10A是使掩模110和掩模保持单元220上升后的掩模装置的制造装置200的俯视 图。 图10B是使掩模11。

47、0和掩模保持单元220上升后的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0080 如图10A和图10B所示， 第一升降销250在D3方向从对准工作台210a上升， 与掩模保 持单元220的接触板220b接触。 第一升降销250使掩模保持单元220上升。 在本实施方式中， 掩模保持单元220利用磁场产生部220a的磁力， 即使没有第二升降销260的支承也能够从第 一面110a侧保持掩模110。 即， 随着第一升降销250从对准工作台210a上升， 掩模110与掩模 保持单元220一体地上升。 0081 而且， 第一升降销250能够在框架120的外侧在D1-D2面方向移动。 多个第一升降销 250按每个。

48、对准工作台210a在D1-D2面方向同步地移动。 对准工作台210a和第一升降销250 能够使掩模保持单元220和掩模110一体地在D1-D2面方向移动。 0082 通过构成为这样， 对准工作台210a和第一升降销250能够使掩模保持单元220和掩 模110一体地在D3方向和D1-D2面方向或以D3方向为轴的旋转方向平行地移动。 0083 利用上面说明的本实施方式的掩模装置100的制造方法， 例如， 即使掩模110的第 二面110b具有凹凸结构， 也能够实现以高精度对准掩模并将掩模固定在框架上。 0084 (第三实施方式) 0085 本实施方式的掩模装置的结构与第一实施方式的掩模装置的结构相同。

49、。 本实施方 式的掩模装置的制造方法中， 代替由多个第一升降销250和多个第二升降销260使掩模110 和掩模保持单元220上升(参照图8A和图8B)， 而由多个第二升降销260使掩模110和掩模保 持单元220上升(参照图11A和图11B)， 除此以外， 与第一实施方式的掩模装置的制造方法相 同。 省略与第一实施方式相同的说明， 在此对与第一实施方式的掩模装置的制造方法不同 的部分进行说明。 0086 掩模装置的制造装置的动作和掩模装置的制造方法 0087 图11A是使掩模110和掩模保持单元220上升后的掩模装置的制造装置200的俯视 图。 图11B是使掩模110和掩模保持单元220上升后。

50、的掩模装置的制造装置200的侧视图。 0088 如图11A和图11B所示， 第二升降销260在D3方向从对准工作台210a上升， 与掩模 110接触。 第二升降销260使掩模110上升。 在本实施方式中， 掩模保持单元220即使没有第一 升降销250的支承， 也能够隔着掩模110由第二升降销260支承。 即， 随着第二升降销260从对 准工作台210a上升， 掩模保持单元220与掩模110一体地上升。 0089 而且， 第二升降销260能够在框架120的开口122的内侧在D1-D2面方向移动。 多个 说明书 8/9 页 11 CN 110777327 A 11 第二升降销260按每个对准工作台。