等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201911199176.3 (22)申请日 2019.11.29 (71)申请人 广东太微加速器有限公司 地址 523808 广东省东莞市松山湖园区工 业南路8号1栋310室 (72)发明人 杨兢伟 (51)Int.Cl. H05H 1/02(2006.01) (54)发明名称 一种等离子体约束装置及应用该约束装置 的离子发生装置 (57)摘要 本发明提出了一种等离子体约束装置， 包括 引导件， 所述的引导件为管形， 引导件的侧壁内 沿其轴向方向设有两个贯穿槽， 两个贯穿槽关于。

2、 引导件的中心对称设置， 所述的观察槽内设有螺 线管线圈， 螺线管线圈通有电流， 两个螺线管线 圈取电流同向。 权利要求书1页 说明书2页 附图2页 CN 110891358 A 2020.03.17 CN 110891358 A 1.一种等离子体约束装置， 其特征在于： 包括引导件， 所述的引导件为管形， 引导件的 侧壁内沿其轴向方向设有两个贯穿槽， 两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置， 所述的观 察槽内设有螺线管线圈， 螺线管线圈通有电流， 两个螺线管线圈取电流同向。 2.根据权利要求1所述的一种等离子体约束装置， 其特征在于： 所述的螺线管线圈为超 导体， 或者普通金属导体， 或者金属氧。

3、化物导体。 3.根据权利要求1所述的一种等离子体约束装置， 其特征在于： 所述的引导件由绝缘材 料制成。 4.一种离子发生装置， 其特征在于： 包括发生室， 发生室为内部中空设置， 如权利要求 1-3任一项所述的等离子体约束装置设置在所述的发生室内， 发生室的侧壁上设有出射口， 发生室内设有由屏蔽材料围成的靶室， 靶室的出射端与所述的引导件连通， 所述的靶室内 设有靶， 发生室外设有对靶进行照射的激光发生装置， 等离子体约束装置、 靶、 激光发生装 置位于同一条直线上， 靶位于等离子体约束装置和激光发生装置之间。 5.根据权利要求4所述的一种离子发生装置， 其特征在于： 所述的靶设置在靶室的中。

4、心 位置， 靶通过支架与靶室的侧壁固定连接。 6.根据权利要求4所述的一种离子发生装置， 其特征在于： 所述的发生室的侧壁上还设 有了两个分别与两个螺线管线圈对应电连接的输电装置。 权利要求书 1/1 页 2 CN 110891358 A 2 一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置 技术领域 0001 本发明涉及一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置。 背景技术 0002 等离子体约束装置是一种用于引导和约束等离子体方向和速度的装置， 在离子加 速装置中起到至关重要的作用。 发明内容 0003 针对背景技术中指出的问题， 本发明提出一种等离子体约束装置及应用该约束装 置。

5、的离子发生装置， 以得到更优质的离子束。 0004 本发明的技术方案是这样实现的： 0005 一种等离子体约束装置， 包括引导件， 所述的引导件为管形， 引导件的侧壁内沿其 轴向方向设有两个贯穿槽， 两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置， 所述的观察槽内设有 螺线管线圈， 螺线管线圈通有电流， 两个螺线管线圈取电流同向。 0006 本发明还进一步设置为， 所述的螺线管线圈为超导体， 或者普通金属导体， 或者金 属氧化物导体。 0007 本发明还进一步设置为， 所述的引导件由绝缘材料制成。 0008 一种离子发生装置， 包括发生室， 发生室为内部中空设置， 如上所述的等离子体约 束装置设置在所述的。

6、发生室内， 发生室的侧壁上设有出射口， 发生室内设有由屏蔽材料围 成的靶室， 靶室的出射端与所述的引导件连通， 所述的靶室内设有靶， 发生室外设有对靶进 行照射的激光发生装置， 等离子体约束装置、 靶、 激光发生装置位于同一条直线上， 靶位于 等离子体约束装置和激光发生装置之间。 0009 本发明还进一步设置为， 所述的靶设置在靶室的中心位置， 靶通过支架与靶室的 侧壁固定连接。 0010 本发明还进一步设置为， 所述的发生室的侧壁上还设有了两个分别与两个螺线管 线圈对应电连接的输电装置。 0011 采用了上述技术方案， 本发明的有益效果为： 其通过两个螺线管线圈对离子进行 约束， 对离子束能。

7、起到很好的引导塑形及加速， 且两个螺线管线圈覆盖区域大， 能引导出更 多的离子。 附图说明 0012 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅是本 发明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动性的前提下， 还可 以根据这些附图获得其他的附图。 0013 图1为本发明等离子体约束装置的结构示意图； 说明书 1/2 页 3 CN 110891358 A 3 0014 图2为本发明离子发生装置的结构示意图。 具体实施方式 0015 下面将结合本发明实施例中的附图， 。

8、对本发明实施例中的技术方案进行清楚、 完 整地描述， 显然， 所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于 本发明中的实施例， 本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例， 都属于本发明保护的范围。 0016 如下参考图1-2对本发明进行说明： 0017 一种等离子体约束装置， 包括引导件1， 所述的引导件1为管形， 引导件1的侧壁内 沿其轴向方向设有两个贯穿槽2， 两个贯穿槽2关于引导件1的中心对称设置， 所述的观察槽 内设有螺线管线圈3， 螺线管线圈3通有电流， 两个螺线管线圈3取电流同向。 0018 其中， 所述的螺线管线圈3为超导体， 。

9、或者普通金属导体， 或者金属氧化物导体。 0019 其中， 所述的引导件1由绝缘材料制成。 0020 一种离子发生装置， 包括发生室4， 发生室4为内部中空设置， 如上所述的等离子体 约束装置设置在所述的发生室4内， 发生室4的侧壁上设有出射口5， 发生室4内设有由屏蔽 材料围成的靶室6， 靶室6的出射端与所述的引导件1连通， 所述的靶室6内设有靶7， 发生室4 外设有对靶7进行照射的激光发生装置8， 等离子体约束装置、 靶、 激光发生装置8位于同一 条直线上， 靶位于等离子体约束装置和激光发生装置8之间。 0021 其中， 所述的靶7设置在靶室6的中心位置， 靶7通过支架9与靶室6的侧壁固定。

10、连 接。 0022 其中， 所述的发生室4的侧壁上还设有了两个分别与两个螺线管线圈3对应电连接 的输电装置10， 外电通过输电装置10给螺线管线圈3供电。 0023 采用了上述技术方案， 本发明的有益效果为： 其通过两个螺线管线圈3对离子进行 约束， 对离子束能起到很好的引导塑形及加速， 且两个螺线管线圈3覆盖区域大， 能引导出 更多的离子。 0024 以上所述的仅为本发明的较佳实施例而已， 并不用以限制本发明， 凡在本发明的 精神和原则之内， 所作的任何修改、 等同替换、 改进等， 均应包含在本发明的保护范围之内。 说明书 2/2 页 4 CN 110891358 A 4 图1 说明书附图 1/2 页 5 CN 110891358 A 5 图2 说明书附图 2/2 页 6 CN 110891358 A 6 。