防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010818339.8 (22)申请日 2020.08.14 (71)申请人 江西沃格光电股份有限公司 地址 338004 江西省新余市高新技术产业 开发区西城大道沃格工业园 (72)发明人 张迅易伟华谢凯立 (74)专利代理机构 广州华进联合专利商标代理 有限公司 44224 代理人 刘宁 (51)Int.Cl. C03C 15/00(2006.01) C03C 17/36(2006.01) (54)发明名称 防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃 (57)摘要 本发明涉及一种防眩。

2、玻璃的制造方法及防 眩玻璃， 防眩玻璃的制造方法依次包括以下步 骤： 在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护 层， 玻璃基底包括间隔设置的多个刻蚀区； 在保 护层上形成一层图案化的光刻胶层， 以使刻蚀区 上的保护层裸露； 对刻蚀区上的保护层进行刻 蚀， 以使得刻蚀区裸露； 对刻蚀区进行湿法蚀刻， 并对未被刻蚀的保护层进行脱膜； 采用湿法蚀刻 而非蒙砂进行刻蚀， 避免了蒙砂中的有毒有害物 质， 对人体及环境存在危害， 对环境较为友好， 防 眩玻璃的晶格较小、 粗糙度较小、 颗粒大小的均 匀性及稳定性较好， 能够应用于手机前盖等显示 产品， 应用于OLED屏等较高端手机前盖时不会出 现闪点不良现象，。

3、 防眩玻璃的产品性能较好， 应 用较为广泛。 权利要求书2页 说明书8页 附图3页 CN 112110652 A 2020.12.22 CN 112110652 A 1.一种防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 依次包括以下步骤： 在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层， 所述玻璃基底包括间隔设置的多个刻蚀 区； 在保护层上形成一层图案化的光刻胶层， 以使所述刻蚀区上的保护层裸露； 对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀， 以使得所述刻蚀区裸露； 对所述刻蚀区进行湿法蚀刻， 并对未被刻蚀的保护层进行脱膜。 2.根据权利要求1所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述在清洗干净的玻璃基 底表面形成一层。

4、保护层， 具体包括： 对玻璃基底进行清洗； 在玻璃基底表面蒸镀形成一层金属膜层。 3.根据权利要求2所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述金属膜层的材质为 钼、 铜、 金或铝， 所述金属膜层的厚度为350nm-450nm。 4.根据权利要求2所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述在保护层上形成一层 图案化的光刻胶层， 具体包括： 在所述金属膜层上涂布一层光刻胶； 对所述光刻胶进行曝光显影， 以使所述刻蚀区上的金属膜层裸露。 5.根据权利要求4所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述对所述刻蚀区上的保 护层进行刻蚀， 具体包括： 采用铝酸溶液刻蚀所述刻蚀区上的金属膜层， 以。

5、使得所述刻蚀区裸露。 6.根据权利要求5所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述对所述刻蚀区进行湿 法蚀刻， 具体包括： 采用摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液刻蚀所述刻蚀区。 7.根据权利要求6所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述刻蚀区的蚀刻量为 1um-2um。 8.根据权利要求6所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 在对所述刻蚀区进行湿法 蚀刻之前， 还包括采用氢氧化钠溶液去除所述光刻胶层。 9.根据权利要求8所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 对未被刻蚀的所述保护层 进行脱膜， 具体包括： 采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜； 在脱膜后进行。

6、清洗， 以形成防眩玻璃。 10.根据权利要求2所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述对未被刻蚀的所述 保护层进行脱膜， 具体包括： 采用氢氧化钠溶液去除所述光刻胶层； 采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜； 在脱膜后进行清洗， 以形成防眩玻璃。 11.根据权利要求1所述的防眩玻璃的制造方法， 其特征在于， 所述玻璃基底还包括多 个晶格区， 所述晶格区和所述刻蚀区间隔设置， 所述刻蚀区为圆形区域， 且所述圆形区域的 直径为2.5um-3.5um， 在相邻两个所述刻蚀区的圆心连线方向上， 相邻两个所述刻蚀区的间 距为1.5um-2.5um。 权利要求书 1/2 页 2 CN 11211。

7、0652 A 2 12.一种防眩玻璃， 其特征在于， 所述防眩玻璃采用如权利要求1-11任一项所述的防眩 玻璃的制造方法得到。 13.根据权利要求12所述的防眩玻璃， 其特征在于， 所述防眩玻璃的透过率90、 雾 度10、 粗糙度0.05um、 光泽度100， 所述防眩玻璃的晶格为1.5um-2.5um。 权利要求书 2/2 页 3 CN 112110652 A 3 防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃 技术领域 0001 本发明涉及防眩玻璃技术领域， 特别是涉及一种防眩玻璃的制造方法及防眩玻 璃。 背景技术 0002 防眩玻璃是一种低反射率， 高透明度的特殊玻璃， 英文名称为： Anti-glare。

8、glass， 简称为AG玻璃， 其工作原理为防眩玻璃的表面呈微粒状的凹凸， 将镜面反射调整为漫反射， 降低环境光的干扰， 形成哑光低反射表面， 继而提高显示画面的可视角度、 清晰度以及亮 度， 减少屏幕反光， 具有防眩的效果， 同时也兼具手感好、 外观漂亮、 耐脏污等优点。 0003 目前防眩玻璃的制备通常采用化学蒙砂的方式在玻璃表面进行不规则微蚀刻， 主 要包括采用AG蒙砂粉对玻璃表面进行微蚀刻以形成无规律的AG晶格以及采用化学抛光的 工艺改变产品的AG参数， 但是由于AG蒙砂粉中含有(NH4F)氟化铵等有毒有害物质， 对人体 及环境存在危害， 且其产生的废水处理成本高昂， 而且采用AG蒙砂。

9、粉形成的AG具有晶格大 (普遍大于10um)、 粗糙度高、 颗粒大小的均匀性及稳定性不足等缺点， 只能应用于手机后盖 产品及要求不高的车载显示产品等晶格大小需求在10um以上的普通产品， 极少能够应用于 手机前盖等显示产品， 而且应用于OLED屏等较高端手机前盖时易出现闪点等不良现象。 发明内容 0004 基于此， 有必要针对上述制备方法对人体及环境存在危害并且制备的防眩玻璃晶 格较大的问题， 提供一种防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃。 0005 一种防眩玻璃的制造方法， 依次包括以下步骤： 0006 在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层， 所述玻璃基底包括刻蚀区； 0007 在保护层上形成一层。

10、图案化的光刻胶层， 以使所述刻蚀区上的保护层裸露； 0008 对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀， 以使得所述刻蚀区裸露； 0009 对所述刻蚀区进行湿法蚀刻， 并对未被刻蚀的保护层进行脱膜。 0010 在其中一个实施例中， 所述在清洗干净的玻璃基底表面形成一层保护层， 具体包 括： 0011 对玻璃基底进行清洗； 0012 在玻璃基底表面蒸镀形成一层金属膜层。 0013 在其中一个实施例中， 所述金属膜层的材质为钼、 铜、 金或铝， 所述金属膜层的厚 度为350nm-450nm。 0014 在其中一个实施例中， 所述在保护层上形成一层图案化的光刻胶层， 具体包括： 0015 在所述金属膜层上涂布。

11、一层光刻胶； 0016 对所述光刻胶进行曝光显影， 以使所述刻蚀区上的金属膜层裸露。 0017 在其中一个实施例中， 所述对所述刻蚀区上的保护层进行刻蚀， 具体包括： 0018 采用铝酸溶液刻蚀所述刻蚀区上的金属膜层， 以使得所述刻蚀区裸露。 说明书 1/8 页 4 CN 112110652 A 4 0019 在其中一个实施例中， 所述对所述刻蚀区进行湿法蚀刻， 具体包括： 0020 采用摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液刻蚀所述刻蚀区。 0021 在其中一个实施例中， 所述刻蚀区的蚀刻量为1um-2um。 0022 在其中一个实施例中， 在对所述刻蚀区进行湿法蚀刻之前， 还包括。

12、采用氢氧化钠 溶液去除所述光刻胶层。 0023 在其中一个实施例中， 所述对未被刻蚀的保护层进行脱膜， 具体包括： 0024 采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜； 0025 在脱膜后进行清洗， 以形成防眩玻璃。 0026 在其中一个实施例中， 对未被刻蚀的保护层进行脱膜， 具体包括： 0027 采用氢氧化钠溶液去除所述光刻胶层； 0028 采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜； 0029 在脱膜后进行清洗， 以形成防眩玻璃。 0030 在其中一个实施例中， 所述玻璃基底还包括多个晶格区， 所述晶格区和所述刻蚀 区间隔设置， 所述刻蚀区为圆形区域， 且所述圆形区域的直径为2.5um-3。

13、.5um， 在相邻两个 所述刻蚀区的圆心连线方向上， 相邻两个所述刻蚀区的间距为1.5um-2.5um。 0031 另外， 本发明还提供了一种防眩玻璃， 所述防眩玻璃采用如上述任一项技术方案 所述的防眩玻璃的制造方法得到。 0032 在其中一个实施例中， 所述防眩玻璃的透过率90、 雾度10、 粗糙度 0.05um、 光泽度100， 所述防眩玻璃的晶格为1.5um-2.5um。 0033 上述防眩玻璃的制造方法及防眩玻璃中， 防眩玻璃的制造方法通过局部蚀刻的方 式制备高透防眩玻璃， 以使得防眩玻璃的晶格较小， 并且在OLED屏上无闪点不良。 在具体设 置时， 通过在清洗干净的玻璃基底表面形成一。

14、层保护层， 以对无需进行蚀刻的玻璃基底进 行保护； 通过在保护层上形成一层图案化的光刻胶层， 以使得刻蚀区上的保护层裸露， 裸露 保护层的区域用于进行后续蚀刻， 玻璃基底上除刻蚀区以外的区域上设置光刻胶层， 光刻 胶保护除刻蚀区以外的区域； 通过对刻蚀区上的保护层进行刻蚀， 以使得刻蚀区裸露， 裸露 的刻蚀区用于进行后续的蚀刻； 通过对刻蚀区进行湿法蚀刻， 以形成AG颗粒， 然后对未被刻 蚀的保护层进行脱膜， 以形成防眩玻璃； 在上述制造方法中采用湿法蚀刻而非蒙砂进行刻 蚀， 避免了蒙砂中的有毒有害物质， 对人体及环境存在危害， 成本较低， 安全性较好， 对环境 较为友好， 并且采用湿法蚀刻形。

15、成的防眩玻璃的晶格较小、 粗糙度较小、 颗粒大小的均匀性 及稳定性较好， 能够应用于手机前盖等显示产品， 而且应用于OLED屏等较高端手机前盖时 不会出现闪点不良现象， 防眩玻璃的产品性能较好， 应用较为广泛。 附图说明 0034 图1为根据本发明提供的一种防眩玻璃的制造方法的流程图； 0035 图2为根据本发明提供的一种防眩玻璃的结构示意图； 0036 图3(a)-图3(f)为根据本发明提供的一种防眩玻璃的制造方法的工艺示意图。 具体实施方式 0037 为使本发明的上述目的、 特征和优点能够更加明显易懂， 下面结合附图对本发明 说明书 2/8 页 5 CN 112110652 A 5 的具体。

16、实施方式做详细的说明。 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发 明。 但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施， 本领域技术人员可以在不 违背本发明内涵的情况下做类似改进， 因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。 0038 在本发明的描述中， 需要理解的是， 术语 “中心” 、“纵向” 、“横向” 、“长度” 、“宽度” 、 “厚度” 、“上” 、“下” 、“前” 、“后” 、“左” 、“右” 、“竖直” 、“水平” 、“顶” 、“底” 、“内” 、“外” 、“顺时 针” 、“逆时针” 、“轴向” 、“径向” 、“周向” 等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或 。

17、位置关系， 仅是为了便于描述本发明和简化描述， 而不是指示或暗示所指的装置或元件必 须具有特定的方位、 以特定的方位构造和操作， 因此不能理解为对本发明的限制。 0039 此外， 术语 “第一” 、“第二” 仅用于描述目的， 而不能理解为指示或暗示相对重要性 或者隐含指明所指示的技术特征的数量。 由此， 限定有 “第一” 、“第二” 的特征可以明示或者 隐含地包括至少一个该特征。 在本发明的描述中，“多个” 的含义是至少两个， 例如两个， 三 个等， 除非另有明确具体的限定。 0040 在本发明中， 除非另有明确的规定和限定， 术语 “安装” 、“相连” 、“连接” 、“固定” 等 术语应做广。

18、义理解， 例如， 可以是固定连接， 也可以是可拆卸连接， 或成一体； 可以是机械连 接， 也可以是电连接； 可以是直接相连， 也可以通过中间媒介间接相连， 可以是两个元件内 部的连通或两个元件的相互作用关系， 除非另有明确的限定。 对于本领域的普通技术人员 而言， 可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。 0041 在本发明中， 除非另有明确的规定和限定， 第一特征在第二特征 “上” 或 “下” 可以 是第一和第二特征直接接触， 或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。 而且， 第一特征在 第二特征 “之上” 、“上方” 和 “上面” 可是第一特征在第二特征正上方或斜上方， 或仅仅表示。

19、 第一特征水平高度高于第二特征。 第一特征在第二特征 “之下” 、“下方” 和 “下面” 可以是第 一特征在第二特征正下方或斜下方， 或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。 0042 需要说明的是， 当元件被称为 “固定于” 或 “设置于” 另一个元件， 它可以直接在另 一个元件上或者也可以存在居中的元件。 当一个元件被认为是 “连接” 另一个元件， 它可以 是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。 本文所使用的术语 “垂直的” 、“水平 的” 、“上” 、“下” 、“左” 、“右” 以及类似的表述只是为了说明的目的， 并不表示是唯一的实施 方式。 0043 实施例一； 0044 如。

20、图1、 图2以及图3(a)-图3(f)所示， 本发明提供了一种防眩玻璃100的制造方法， 用于制备高透防眩玻璃100， 该防眩玻璃100的制造方法依次包括以下步骤： 0045 步骤S101， 在清洗干净的玻璃基底110表面形成一层保护层200， 以形成如图3(a) 的结构， 玻璃基底110包括刻蚀区111； 在具体设置时， 玻璃基底110包括多个刻蚀区111和多 个晶格区112， 刻蚀区111和晶格区112间隔设置， 保护层200完全覆盖该玻璃基底110表面的 表面， 以使得刻蚀区111和晶格区112上均设置有保护层200。 0046 步骤S102， 在保护层200上形成一层图案化的光刻胶层3。

21、10， 形成如图3(c)的结构， 以使刻蚀区111上的保护层200裸露； 在具体设置时， 光刻胶层310位于晶格区112上的保护 层210上， 并且完全覆盖该晶格区112上的保护层210， 刻蚀区111上的保护层200上没有光刻 胶层310， 并且裸露保护层200的区域与刻蚀区111的面积一致。 0047 步骤S103， 对刻蚀区111上的保护层200进行刻蚀， 形成如图3(d)的结构， 以使得刻 说明书 3/8 页 6 CN 112110652 A 6 蚀区111裸露； 在具体设置时， 晶格区112上的保护层210因为光刻胶300的存在存留， 而刻蚀 区111上的保护层200被刻蚀掉， 刻蚀。

22、区111完全裸露出保护层200和光刻胶层310。 0048 步骤S104， 对刻蚀区111进行湿法蚀刻， 形成如图3(e)的结构， 并对光刻胶层310以 及保护层200进行脱膜， 形成如图3(f)的结构， 。 在具体设置时， 通过湿法蚀刻的方式对刻蚀 区111进行刻蚀， 形成AG颗粒120， 由于光刻胶层310和保护层200的存在使得晶格区112没有 被刻蚀， 在湿法蚀刻后将未被刻蚀的保护层200进行脱膜， 完成防眩玻璃100的制备。 0049 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过局部蚀刻的方式制备高透防眩玻璃100， 以 使得防眩玻璃100的晶格较小， 并且在OLED屏上无闪点不良。 在具。

23、体设置时， 通过步骤S101 在清洗干净的玻璃基底110表面形成一层保护层200， 以对无需进行蚀刻的玻璃基底110进 行保护； 通过步骤S102在保护层200上形成一层图案化的光刻胶层310， 以使得刻蚀区111上 的保护层200裸露， 裸露保护层200的区域用于进行后续蚀刻， 玻璃基底110上除刻蚀区111 以外的晶格区112上设置光刻胶层310， 光刻胶300保护除刻蚀区111以外的晶格区112； 通过 步骤S103对刻蚀区111上的保护层200进行刻蚀， 以使得刻蚀区111裸露， 裸露的刻蚀区111 用于进行后续的蚀刻； 通过步骤S104对刻蚀区111进行湿法蚀刻， 以形成AG颗粒12。

24、0， 然后对 未被刻蚀的保护层200进行脱膜， 以形成防眩玻璃100； 在上述制造方法中采用湿法蚀刻而 非蒙砂进行刻蚀， 避免了蒙砂中的有毒有害物质， 对人体及环境存在危害， 成本较低， 安全 性较好， 对环境较为友好， 并且采用湿法蚀刻形成的防眩玻璃100的晶格较小、 粗糙度较小、 颗粒大小的均匀性及稳定性较好， 能够应用于手机前盖等显示产品， 而且应用于OLED屏等 较高端手机前盖时不会出现闪点不良现象， 防眩玻璃100的产品性能较好， 应用较为广泛。 0050 保护层200的结构具有多种形式， 为了便于保护层200的制备， 一种优选实施方式， 在清洗干净的玻璃基底110表面形成一层保护层。

25、200， 具体包括： 0051 对玻璃基底110进行清洗； 在具体设置时， 采用清洗液对提供的玻璃基底110进行 清洁， 清洗液可以为清水， 清洗液还可以为其它满足要求的液体。 0052 在玻璃基底110表面蒸镀形成一层金属膜层。 在具体设置时， 采用蒸镀的方式在玻 璃基底110需要进行防眩处理的表面形成一层金属膜层， 金属膜层的制备还可以采用其它 工艺， 例如， 通过磁控溅射的方式在玻璃基底110需要进行防眩处理的表面形成一层金属膜 层， 当然， 金属膜层的制备工艺并不局限于上述蒸镀和测控溅射， 还可以为其它能够满足要 求的方式。 0053 上述防眩玻璃100的制造方法中， 在具体设置时， 。

26、首先将玻璃基底110放置在清洗 液内进行清洗， 然后将清洗干净的玻璃基底110放置在蒸镀设备内进行金属膜层的蒸镀。 通 过对玻璃基底110进行清洗， 以保证玻璃基底110的清洁， 避免灰尘颗粒等杂质存在影响刻 蚀区111的表面良率以及晶格区112的AG颗粒120的形成， 保证产品良率。 通过限定保护层 200为通过蒸镀工艺制备的金属膜层， 一方面能够较好地保护晶格区112， 另一方面能够便 于后续晶格区112光刻胶层310的形成以及刻蚀区111湿法蚀刻的实施。 0054 金属膜层的材质具有多种， 具体地， 金属膜层的可以材质为钼、 铜、 金或铝， 金属膜 层的厚度可以为350nm-450nm。。

27、 0055 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过限定金属膜层的材质为钼、 铜、 金或铝等金 属， 金属膜层的厚度为350nm-450nm， 在较好地保护晶格区112的基础上， 一方面能够节约成 本， 降低制备总造价， 另一方面便于回收利用， 不会造成资源浪费以及环境污染。 在具体设 说明书 4/8 页 7 CN 112110652 A 7 置时， 金属膜层的可以材质为钼、 铜、 金或铝中的任一种， 金属膜层的可以材质为钼、 铜、 金 以及铝中的多种组合， 当然， 金属膜层的具体材质并不局限于上述形式， 还可以为其它能够 满足要求的材质； 金属膜层的厚度可以为350nm-450nm， 金属膜层。

28、的厚度还可以为其它能够 满足要求的范围值， 而当金属膜层的厚度为350nm-450nm时， 较佳地， 金属膜层的厚度可以 为350nm、 360nm、 370nm、 380nm、 390nm、 400nm、 410nm、 420nm、 430nm、 440nm、 450nm， 当然， 金属 膜层的厚度并不局限于上述数值， 金属膜层的厚度还可以为350nm-450nm这一区间内的其 它值。 0056 为了便于光刻胶层310的制备， 具体地， 在保护层200上形成一层图案化的光刻胶 层310， 具体包括： 0057 在金属膜层上涂布一层光刻胶300， 以形成如图3(b)的结构； 在具体设置时， 通。

29、过 涂布设备在金属膜层上形成一层均匀的光刻胶300， 该光刻胶300完全覆盖金属膜层。 0058 对光刻胶300进行曝光显影， 以使刻蚀区111上的金属膜层裸露， 以形成如图3(c) 的结构。 在具体设置时， 将预先设计好图案的掩模板放置在光刻胶300的上方， 对光刻胶300 进行曝光显影， 曝光显影后将刻蚀区111上对应的光刻胶300去除， 只保留晶格区112上的光 刻胶300， 该光刻胶300用于保护晶格区112避免其在后续的步骤中被腐蚀。 0059 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过涂布-曝光-显影工艺能够较为方便地形成 光刻胶层310， 并且该光刻胶层310完全覆盖晶格区112上的。

30、金属膜层， 以较好地保护晶格区 112， 刻蚀区111上的金属膜层上裸露保护层200的区域， 并且保证裸露金属膜层的区域与刻 蚀区111的面积一致， 以保证能够精确地进行后续步骤。 在具体设置时， 用于曝光显影的掩 模板为带有不透光图案结构的透光材料板， 该不透光图案结构为阵列图案， 例如， 阵列图案 为方形图案阵列或圆形图案阵列， 该阵列图案与刻蚀区111的图案相对应。 当然， 掩模板的 具体结构形式并不局限于此， 还可以为其它满足要求的结构形式。 0060 保护层200的刻蚀方式具有多种， 更具体地， 对刻蚀区111上的保护层200进行刻 蚀， 具体包括： 0061 采用铝酸溶液刻蚀刻蚀区。

31、111上的金属膜层， 以使得刻蚀区111裸露。 0062 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过铝酸溶液刻蚀刻蚀区111上的金属膜层， 以 使得刻蚀区111裸露， 而光刻胶300保护晶格区112上的金属膜层， 避免晶格区112上的金属 膜层腐蚀， 便于后续步骤的实施。 在具体设置时， 用于刻蚀刻蚀区111上的金属膜层的刻蚀 液可以为铝酸溶液， 当然， 用于刻蚀刻蚀区111上的金属膜层的刻蚀液还可以为其它满足要 求的溶液， 例如， 用于刻蚀刻蚀区111上的金属膜层的刻蚀液可以为硝酸铈铵、 冰醋酸和去 离子水中的一种或多种， 而用于刻蚀刻蚀区111上的金属膜层的具体刻蚀液根据金属膜层 的实际材质进。

32、行选择。 0063 为了保证刻蚀区111的刻蚀良率， 更具体地， 对刻蚀区111进行湿法蚀刻， 具体包 括： 0064 采用摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液刻蚀刻蚀区111。 0065 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液对 刻蚀区111进行蚀刻处理， 将未被金属膜层保护的玻璃基底110的刻蚀区111蚀刻形成AG颗 粒120， 而此时， 玻璃基底110的晶格区112被金属膜层和光刻胶层310所保护， 避免氢氟酸溶 液腐蚀晶格区112， 以保证防眩玻璃100的产品良率。 在具体设置时， 用于刻蚀区111刻蚀的 说明书 5/8 页 。

33、8 CN 112110652 A 8 溶液为摩尔浓度为1mol/L-2mol/L的氢氟酸溶液， 较佳地， 用于刻蚀区111刻蚀的氢氟酸溶 液的摩尔浓度为1mol/L、 1.2mol/L、 1.4mol/L、 1.5mol/L、 1.6mol/L、 1.8mol/L、 2mol/L， 当 然， 用于刻蚀区111刻蚀的氢氟酸溶液的摩尔浓度还可以为1mol/L-2mol/L这一区间内的其 它值。 值得注意的是， 刻蚀区111的刻蚀液并不局限于上述摩尔浓度为1mol/L-2mol/L氢氟 酸溶液， 还可以位其它满足要求的溶液。 0066 为了保证显示效果， 更具体地， 刻蚀区111的蚀刻量可以为1um。

34、-2um。 当然， 刻蚀区 111的蚀刻量还可以为其它能够满足要求的范围值。 0067 上述防眩玻璃100的制造方法中， 通过限定刻蚀区111的蚀刻量为1um-2um， 以使得 刻蚀区111的蚀刻量较小， 从而使得防眩玻璃100的表面凹凸不平， 进而使得防眩效果和显 示效果均较好。 在具体设置时， 刻蚀区111的蚀刻量可以为1um、 1.2um、 1.4um、 1.5um、 1.6um、 1.8um、 2um， 当然， 刻蚀区111的蚀刻量并不局限于此， 还可以为1um-2um这一区间范围内的 其它值。 0068 为了保证刻蚀区111的刻蚀良率， 更具体地， 在对刻蚀区111进行湿法蚀刻之前，。

35、 防 眩玻璃100的制造方法还包括采用氢氧化钠溶液去除光刻胶层310。 0069 上述防眩玻璃100的制造方法中， 在具体设置时， 对保护层200刻蚀后的结构采用 氢氧化钠溶液进行处理， 以去除光刻胶层310， 保留未被刻蚀的金属膜层， 以对刻蚀区111进 行精准地刻蚀。 通过氢氧化钠溶液去除晶格区112上的光刻胶层310， 而由于氢氧化钠溶液 不与金属膜层发生反应， 避免损伤非晶格区的金属膜层， 便于进行后续湿法蚀刻， 保证产品 良率。 0070 脱膜处理的方式具有多种， 在对刻蚀区111进行湿法蚀刻之前， 已采用氢氧化钠溶 液去除光刻胶层310时， 一种优选实施方式， 对未被刻蚀的光刻胶层。

36、310进行脱膜， 具体包 括： 0071 采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜； 在具体设置时， 脱膜液可以为铝 酸溶液， 脱膜液还可以为其它满足要求的溶液， 例如， 脱膜液可以为硝酸铈铵、 冰醋酸和去 离子水中的一种或多种， 而脱膜液根据刻胶层和金属膜层的实际材质进行选择。 0072 在脱膜后进行清洗， 以形成防眩玻璃100。 在具体设置时， 采用清洗液对脱膜后的 结构进行清洁， 清洗液可以为清水， 清洗液还可以为其它满足要求的液体。 0073 上述防眩玻璃100的制造方法中， 在具体设置时， 将湿法蚀刻后的结构放入含铝酸 的脱模液中， 再进行清洗， 以保证防眩玻璃100的洁净。 通过铝。

37、酸溶液去除晶格区112上的金 属膜层， 而由于铝酸溶液不与玻璃基底110发生反应， 避免损伤晶格区112和AG颗粒120， 保 证产品良率。 值得注意的是， 在对刻蚀区111进行湿法蚀刻之前， 未采用氢氧化钠溶液去除 光刻胶层310时， 需要在采用铝酸溶液对未被刻蚀的金属膜层进行脱膜之前， 先采用氢氧化 钠溶液去除光刻胶层310， 再继续后续步骤， 采用这种脱膜处理的方式使得操作方便， 便于 实现。 0074 为了保证刻蚀区111的刻蚀良率， 一种优选实施方式， 刻蚀区111和晶格区112间隔 设置， 刻蚀区可以为圆形区域， 并且圆形区域的直径可以为2.5um-3.5um， 相邻的刻蚀区间 隔。

38、设置， 并且在相邻两个刻蚀区的圆心连线方向上， 相邻两个刻蚀区的间距可以为1.5um- 2.5um。 0075 上述防眩玻璃100的制造方法中， 在具体设置时， 刻蚀区可以为圆形区域， 刻蚀区 说明书 6/8 页 9 CN 112110652 A 9 还可以为正方形区域， 刻蚀区还可以为矩形区域， 当然， 刻蚀区并不局限于上述结构形式， 还可以为其它满足要求的结构形式； 在刻蚀区为圆形区域时， 圆形区域的直径可以为 2.5um-3.5um， 当然并不局限于此， 较佳地， 圆形区域的直径可以为2.5um、 2.6um、 2.7um、 2.8um、 2.9um、 3.0um、 3.1um、 3.2。

39、um、 3.3um、 3.4um、 3.5um， 当然， 圆形区域的直径可以为 2.5um-3.5um这一区间内的其它值， 在刻蚀区为正方形区域时， 正方形区域的边长可以为 2.5um-3.5um， 而在刻蚀区为其它结构形式时， 其最大长度可以在2.5um-3.5um这一区间进 行选择； 在刻蚀区为圆形区域时， 相邻的刻蚀区间隔设置， 并且在相邻两个刻蚀区的圆心连 线方向上， 相邻两个刻蚀区的间距可以为1.5um-2.5um， 当然并不局限于此， 较佳地， 在相邻 两个刻蚀区的圆心连线方向上， 相邻两个刻蚀区的间距可以为1.5um、 1.6um、 1.7um、 1.8um、 1.9um、 2.。

40、0um、 2.1um、 2.2um、 2.3um、 2.4um、 2.5um， 当然， 在相邻两个刻蚀区的圆心连线方向 上， 相邻两个刻蚀区的间距可以为1.5um-2.5um这一区间内的其它值， 而在刻蚀区为其它结 构形式时， 在相邻两个刻蚀区的中心连线方向上， 相邻两个刻蚀区的间距可以为1.5um- 2.5um这一区间内进行选择。 0076 实施例二； 0077 另外， 如图2所示， 本发明还提供了一种防眩玻璃100， 防眩玻璃100采用如上述任 一项技术方案的防眩玻璃100的制造方法得到。 0078 上述防眩玻璃100中， 防眩玻璃100的制造方法通过局部蚀刻的方式制备高透防眩 玻璃100。

41、， 以使得防眩玻璃100的晶格较小， 并且在OLED屏上无闪点不良。 并且采用湿法蚀刻 而非蒙砂进行刻蚀， 避免了蒙砂中的有毒有害物质， 对人体及环境存在危害， 成本较低， 安 全性较好， 对环境较为友好， 并且采用湿法蚀刻形成的防眩玻璃100的晶格较小、 粗糙度较 小、 颗粒大小的均匀性及稳定性较好， 能够应用于手机前盖等显示产品， 而且应用于OLED屏 等较高端手机前盖时不会出现闪点不良现象， 因此该防眩玻璃100的产品性能和良率较好， 应用较为广泛。 0079 为了保证防眩玻璃100的产品良率， 一种优选实施方式， 防眩玻璃100的透过率 90、 雾度10、 粗糙度0.05um、 光泽度。

42、100， 防眩玻璃100的晶格可以为1.5um- 2.5um。 0080 上述防眩玻璃100中， 通过限定防眩玻璃100的透过率90、 雾度10、 粗糙度 0.05um、 光泽度100， 防眩玻璃100的晶格为1.5um-2.5um， 以使得防眩玻璃100的产品 良率较高， 防眩效果和显示效果较好。 在具体设置时， 防眩玻璃100的透过率可以90， 当 然并不局限于此， 还可以为其它满足要求的范围值， 而在防眩玻璃100的透过率90时， 较佳地， 防眩玻璃100的透过率为90、 91、 92、 93、 94、 95、 96、 97、 98、 99、 100， 当然， 防眩玻璃100的透过率还可。

43、以为90的其他值； 防眩玻璃100的雾度可 以为10， 当然并不局限于此， 还可以为其它满足要求的范围值， 而在防眩玻璃100的雾 度为10时， 较佳地， 防眩玻璃100的雾度为10、 9、 8、 7、 6、 5、 4、 3、 2、 1、 0， 当然， 防眩玻璃100的雾度还可以为10的其它值； 防眩玻璃100的粗糙度可以 0.05um， 当然并不局限于此， 还可以为其它满足要求的范围值， 而在防眩玻璃100的粗糙 度0.05um时， 较佳地， 防眩玻璃100的粗糙度为0.05um、 0.045um、 0.04um、 0.035um、 0.03um、 0.025um、 0.02um、 0.01。

44、5um、 0.01um、 0.005um、 0um， 当然， 防眩玻璃100的粗糙度还可 以为0.05um的其它值； 防眩玻璃100的光泽度100， 当然并不局限于此， 还可以为其它 说明书 7/8 页 10 CN 112110652 A 10 满足要求的范围值， 而在防眩玻璃100的光泽度100时， 较佳地， 防眩玻璃100的光泽度 可以为100、 101、 102、 103、 104、 105， 当然， 防眩玻璃100的光泽度还可以为 100的其它值； 防眩玻璃100的晶格可以为1.5um-2.5um， 当然并不局限于此， 还可以为其 它满足要求的范围值， 而在防眩玻璃100的晶格为1.5。

45、um-2.5um时， 防眩玻璃100的晶格可以 为1.5um、 1.6um、 1.7um、 1.8um、 1.9um、 2um、 2.1um、 2.2um、 2.3um、 2.4um、 2.5um， 当然， 防眩玻 璃100的晶格还可以为1.5um-2.5um这一区间内的其它值。 0081 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合， 为使描述简洁， 未对上述实 施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述， 然而， 只要这些技术特征的组合不存 在矛盾， 都应当认为是本说明书记载的范围。 0082 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式， 其描述较为具体和详细， 但并 不能因此而理解为对发明专利范围的限制。 应当指出的是， 对于本领域的普通技术人员来 说， 在不脱离本发明构思的前提下， 还可以做出若干变形和改进， 这些都属于本发明的保护 范围。 因此， 本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。 说明书 8/8 页 11 CN 112110652 A 11 图1 图2 说明书附图 1/3 页 12 CN 112110652 A 12 图3(a) 图3(b) 图3(c) 说明书附图 2/3 页 13 CN 112110652 A 13 图3(d) 图3(e) 图3(f) 说明书附图 3/3 页 14 CN 112110652 A 14 。