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1、10申请公布号CN102102050A43申请公布日20110622CN102102050ACN102102050A21申请号200910215573522申请日20091222C11D1/22200601C11D3/37200601C11D3/34200601C11D3/08200601C11D3/04200601B08B3/08200601B08B3/12200601B08B11/0020060171申请人江西凤凰富士能光学有限公司地址334000江西省上饶市光学路1号72发明人赵炎武54发明名称光学元件清洗剂及其清洗方法57摘要本发明涉及一种光学元件清洗剂及其清洗方法。该清洗剂组份为氢氧。
2、化钠、三聚磷酸钠、硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂。清洗方法按重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I；按重量百分比取原料硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II；使清洗水剂I和II的水溶液浓度均为0108，水溶液温度为3070，使用条件超声波辅助，纯水电导率大于8M；再进行漂洗、脱水、蒸浴等环节来完成洗净。该清洗方法使用方便，成本低廉、清洗效果好。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页CN102102053A1/1页21一种光学元件清洗剂组合物，。
3、其特征在于原料配方重量百分比为氢氧化钠0103三聚磷酸钠0103硅酸钠005015十二烷基苯磺酸钠005015乳化渗透剂0103。2按权利要求1所述的清洗剂组合物，其特征在于所述硅酸钠可以是偏硅酸钠。3按权利要求1所述的清洗剂组合物，其特征在于所述乳化渗透剂可以是烷基酚聚氧乙烯醚OP10或乙氧基化烷基硫酸钠AES。4一种使用权利要求1所述清洗剂的清洗方法，其特征在于包括下列方法步骤A、按上述重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I，并使水溶液浓度为0108，水溶液温度为3070，使用条件超声波辅助，纯水电导率大于8M；B、按上述重量百分比取原料。
4、硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II，使水溶液浓度为0108，水溶液温度为3070，使用条件超声波辅助，纯水电导率大于8M；C、清洗步骤将光学元件进入清洗水剂I，用超声波清洗90120S；将光学元件进入循环纯水，进行超声波清洗90120S；将光学元件进入循环过滤清洗水剂II，超声波清洗各90120S；将光学元件进入循环纯水漂洗，超声波清洗各90120S；将光学元件进入IPA循环过滤脱水，超声波辅助清洗各90120S；将光学元件进入IPA蒸汽进行烘干90120S。5按权利要求4所述的的清洗方法，其特征在于所述IPA可以是异丙醇或无水乙醇。权利要求。
5、书CN102102050ACN102102053A1/3页3光学元件清洗剂及其清洗方法技术领域0001本发明涉及一种清洗剂及其清洗方法，尤其是一种光学元件清洗剂及其清洗方法。背景技术0002在光学加工中，元件污染主要来源于研磨粉液残留，手指印及少量脂肪类油。如CEO2二氧化铈为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的，但在进行研磨加工时，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始PH值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的，一般呈碱性PH7。如前所述，玻璃遇水会产生水解反应，如方程式I而生成的H2SIO3硅酸呈凝胶状态，附在玻璃表层起保护作用，阻止反应继续进行，同时一部分H2SIO3硅酸分。
6、解，生成的SIO2二氧化硅附在玻璃表面也可以减缓水解反应，起到保护作用，化学反应方程式如下如方程式IIH2SIO3硅酸2H2OSIO2二氧化硅玻璃表面的研磨抛光，表层的SIO2二氧化硅和大部分的H2SIO3凝胶被去除，打破了方程式I、II的平衡，生成更多的碱性物质，导致研磨液的PH值持续上升，其中的碱性液体与H2SIO3凝胶反应，如此循环加速水解反应，导致玻璃表面侵蚀。因此，在研磨完成后，元件表面呈碱性，如果使用非碱性洗剂，会必然导致元件侵蚀加重。0003清洗元件上油脂类污染主要是在其他溶剂进行乳化、分解非本品涉及范围之后的残留，因此通过与碱反应生成可溶于水的肥皂和甘油下为油脂水解简单反应原理。
7、式，所以本品在4050溶液时或有超声波可将其除去。大部分来源主要是芯取油残留或存放、手触摸中污染的油脂。0004在光学加工中，研磨、芯取、镀膜、粘合及涂墨后光学元件都要使用清洗剂进行清洗。市场上所提供的成品清洗剂大部分是多组分复配，添加高分子合成，在清理光学加工过程中元件的污染的同时也损坏了光学元件，而成品清洗剂的价格昂贵使得本行业制造成本剧烈增加。本发明从光学加工对于元件污染的自身特点开发一种清洗剂及清洗方法，不但能够有效的对元件进行清洗，而且化学稳定性差的元件进行合理清洗。同时使其成本降低。发明内容0005本发明的目的是开发一种光学元件清洗剂，提供一种使用方便、清洗效果好、成本低廉的光学元。
8、件清洗方法。0006本发明是通过下列技术方案来解决的0007本发明的清洗剂组合物，其原料配方重量百分比为0008氢氧化钠01030009三聚磷酸钠01030010硅酸钠0050150011十二烷基苯磺酸钠005015说明书CN102102050ACN102102053A2/3页40012乳化渗透剂01030013所述硅酸钠可以是偏硅酸钠。0014所述乳化渗透剂可以是烷基酚聚氧乙烯醚OP10或乙氧基化烷基硫酸钠AES。0015本发明的清洗方法，包括下列方法步骤0016A、按所述重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I，并使水溶液浓度为0108，水。
9、溶液温度为3070，使用条件超声波辅助，纯水电导率大于8M；0017B、按所述重量百分比取原料硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II，使水溶液浓度为0108，水溶液温度为3070，使用条件超声波辅助，纯水电导率大于8M；0018C、清洗步骤将光学元件进入清洗水剂I，用超声波清洗70120S；0019将光学元件进入循环纯水，进行超声波清洗70120S；0020将光学元件进入循环过滤清洗水剂II，超声波清洗各70120S；0021将光学元件进入循环纯水漂洗，超声波清洗各70120S；0022将光学元件进入IPA循环过滤脱水，超声波辅助清洗各70120。
10、S；0023将元光学件进入IPA蒸汽进行烘干70120S。0024所述IPA为异丙醇或无水乙醇。具体实施方式0025实施例10026在一般光学镜片研磨后清洗CEO2污染及残留，可以使用所述清洗水剂I和清洗水剂II，其中清洗水剂I的原料配方重量百分比为氢氧化钠02、三聚磷酸钠02、乳化渗透剂OP1002，清洗水剂II的原料配方重量百分比为硅酸钠02、十二烷基苯磺酸钠02、乳化渗透剂AES02，使其水溶液浓度为05，水溶液温度为505，使用条件为可辅助超声波，纯水电导率大于8M。0027清洗步骤0028将光学镜片进入清洗水剂I，用超声波清洗100S；0029将光学镜片进入循环纯水，进行超声波清洗1。
11、10S；0030将光学镜片进入循环过滤的清洗水剂II，超声波清洗各100S；0031将光学镜片进入循环纯水漂洗，超声波清洗各100S；0032将光学镜片进入IPA异丙醇或无水乙醇循环过滤脱水，超声波辅助清洗各110S；0033将光学镜片进入IPA异丙醇蒸汽进行烘干100S。0034实施例20035对于光学元件芯取后少量油污溶剂后及指印残留，可以使用所述清洗水剂I和清洗水剂II，其中清洗水剂I的原料配方重量百分比为氢氧化钠015、三聚磷酸钠015、乳化渗透剂OP10015，清洗水剂II的原料配方重量百分比为偏硅酸钠02、十二烷基苯磺酸钠02、乳化渗透剂AES02，并使其水溶说明书CN102102。
12、050ACN102102053A3/3页5液浓度为25，水溶液温度为755，使用条件为可辅助超声波，纯水电导率大于8M。0036清洗步骤将光学镜片进入清洗水剂I中浸泡60S；0037将光学镜片进入循环过滤的清洗水剂I，超声波清洗100S0038将光学镜片进入纯水，进行超声波清洗110S0039将光学镜片进入可循环过滤的清洗水剂II，超声波清洗100S0040将光学镜片进入可流动的纯水漂洗，超声波清洗90S0041将光学镜片进入可循环过滤的IPA异丙醇脱水，超声波辅助清洗100S0042将光学镜片进入IPA异丙醇蒸汽进行烘干120S。0043实施例30044对镀膜后镜片考虑其表面特殊性及要求，必。
13、须结合实际进行洗剂的调整，主要针对其为手印及落尘污染，可使用所述清洗水剂II和清洗水剂I，其中清洗水剂I的原料配方重量百分比为氢氧化钠025、三聚磷酸钠025、乳化渗透剂OP10025，清洗水剂II的原料配方重量百分比为硅酸钠02、十二烷基苯磺酸钠02、乳化渗透剂AES02，并使清洗水剂II水溶液浓度为05，水溶液温度505；清洗水剂I水溶液浓度为01，水溶液温度为255；使用条件均为超声波辅助，纯水电导率大于8M。0045清洗步骤将光学镜片分别进入可循环过滤的清洗水剂II和清洗水剂I，超声波清洗各100S；0046将光学镜片进入可部分流动纯水漂洗，超声波清洗各100S；0047将光学镜片进入可部分循环过滤的IPA无水乙醇脱水，超声波辅助清洗各110S；0048将光学镜片进入IPA异丙醇蒸汽进行烘干100S。说明书CN102102050A。