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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201620309073.3 (22)申请日 2016.04.14 (73)专利权人 天津西美科技有限公司 地址 300000 天津市河东区大王庄七纬路 83号 （第二层B区第212房间） (72)发明人 不公告发明人 (51)Int.Cl. C09G 1/02(2006.01) (54)实用新型名称 一种氧化铝抛光液配置装置 (57)摘要 本实用新型属于抛光液加工装置领域， 尤其 涉及一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 所述研钵固定于所述固定架上， 所述研磨辊的下 端设置。
2、于研钵内并且其上端与第一电机相连， 所 述进液管的一端穿过所述罐体设置于研钵的上 方， 所述第二电机固定于罐体的底部， 所述搅拌 轴设置于罐体内部， 所述搅拌轴的一端与所述第 二电机相连并且其另一端与搅拌叶相连， 所述搅 拌叶位于固定架下方， 所述排液管的一端与罐体 的底部连通并且其另一端与集液罐连通， 所述排 液管上固定有过滤器、 第一阀门， 所述缓冲罐位 于集液罐上方， 所述第一连接管的一端与集液罐 上端相连并且其另一端与缓冲罐下端相连， 所述 第二连接管的一端与抽气泵相连并且其另一端 与缓冲罐的上端相连。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 205710554 U 2016.11。
3、.23 CN 205710554 U 1.一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 包括罐体、 第一电机、 固定架、 研钵、 研磨 辊、 第二电机、 搅拌轴、 进液管、 排液管、 集液罐、 缓冲罐、 抽气泵、 第一连接管、 第二连接管， 所述罐体的顶部设置有开启盖， 所述第一电机固定于所述开启盖上方， 所述固定架固定于 所述罐体上部， 所述研钵固定于所述固定架上， 所述研磨辊的下端设置于研钵内并且其上 端与第一电机相连， 所述进液管的一端穿过所述罐体设置于所述研钵的上方， 所述第二电 机固定于所述罐体的底部， 所述搅拌轴设置于所述罐体内部， 所述搅拌轴的一端与所述第 二电机相连并且其另一端与搅。
4、拌叶相连， 所述搅拌叶位于固定架下方， 所述排液管的一端 与罐体的底部连通并且其另一端与集液罐连通， 所述排液管上固定有过滤器、 第一阀门， 所 述缓冲罐位于所述集液罐上方， 所述第一连接管的一端与集液罐上端相连并且其另一端与 缓冲罐下端相连， 所述第一连接管上固定有第二阀门， 所述第二连接管的一端与抽气泵相 连并且其另一端与缓冲罐的上端相连， 所述第二连接管上固定有第三阀门。 2.根据权利要求1所述的一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 所述第一阀门、 第 二阀门、 第三阀门均为逆止阀。 3.根据权利要求1所述的一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 所述第一电机、 第 二电机均为伺服。
5、电机。 4.根据权利要求1所述的一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 所述研磨辊的下端 与研磨圈相连， 所述研磨圈贴合研钵内部设置。 权利要求书 1/1 页 2 CN 205710554 U 2 一种氧化铝抛光液配置装置 技术领域 0001 本实用新型属于抛光液加工装置领域， 尤其涉及一种氧化铝抛光液配置装置。 背景技术 0002 抛光液是一种不含任何硫、 磷、 氯添加剂的水溶性抛光剂， 抛光液具有良好的去油 污、 防锈、 清洗和增光性能， 并能使金属制品超过原有的光泽。 抛光液性能稳定、 无毒， 对环 境无污染等作用， 主要应用于半导体加工过程中。 氧化铝抛光液是一种常用的抛光液， 现有。
6、 的氧化铝抛光液配置装置只起到混合溶剂和氧化铝的作用， 无法对氧化铝进行研磨， 功能 较为单一。 发明内容 0003 本实用新型针对上述技术问题， 提供了一种具有混合功能和研磨功能的氧化铝抛 光液配置装置。 0004 本实用新型所采用的技术方案为： 一种氧化铝抛光液配置装置， 其特征在于： 包括 罐体、 第一电机、 固定架、 研钵、 研磨辊、 第二电机、 搅拌轴、 进液管、 排液管、 集液罐、 缓冲罐、 抽气泵、 第一连接管、 第二连接管， 所述罐体的顶部设置有开启盖， 所述第一电机固定于所 述开启盖上方， 所述固定架固定于所述罐体上部， 所述研钵固定于所述固定架上， 所述研磨 辊的下端设置于。
7、研钵内并且其上端与第一电机相连， 所述进液管的一端穿过所述罐体设置 于所述研钵的上方， 所述第二电机固定于所述罐体的底部， 所述搅拌轴设置于所述罐体内 部， 所述搅拌轴的一端与所述第二电机相连并且其另一端与搅拌叶相连， 所述搅拌叶位于 固定架下方， 所述排液管的一端与罐体的底部连通并且其另一端与集液罐连通， 所述排液 管上固定有过滤器、 第一阀门， 所述缓冲罐位于所述集液罐上方， 所述第一连接管的一端与 集液罐上端相连并且其另一端与缓冲罐下端相连， 所述第一连接管上固定有第二阀门， 所 述第二连接管的一端与抽气泵相连并且其另一端与缓冲罐的上端相连， 所述第二连接管上 固定有第三阀门。 0005。
8、 所述第一阀门、 第二阀门、 第三阀门均为逆止阀。 0006 所述第一电机、 第二电机均为伺服电机。 0007 所述研磨辊的下端与研磨圈相连， 所述研磨圈贴合研钵内部设置。 0008 本实用新型的有益效果为： 1、 本实用新型中将氧化铝放置于研钵中， 通过研磨辊 进行研磨， 研磨完毕后， 进液管进溶剂， 溶剂将氧化铝冲洗入罐体内， 通过第二电机带动罐 体旋转进行混合， 具有混合功能和研磨功能， 功能更为全面。 0009 2、 罐体的顶部设置有开启盖， 加料方便。 0010 3、 搅拌叶的设置， 增大搅拌力度， 混合更加均匀。 0011 4、 过滤器用于滤除大颗粒悬浮物， 得到的产品更加均一。 。
9、0012 5、 通过充气泵进行抽气， 减小集液罐内的压力， 加快过滤速度。 0013 6、 缓冲罐的设置， 防止溶液抽入抽气泵中， 使用更加安全。 说明书 1/2 页 3 CN 205710554 U 3 0014 7、 研磨圈的设置， 加大与研钵的接触面积， 提高研磨速度。 附图说明 0015 图1为本实用新型的结构示意图。 具体实施方式 0016 下面结合附图对本实用新型作进一步说明： 图中， 1-罐体， 2-第一电机， 3-固定架， 4-研钵， 5-研磨辊， 6-第二电机， 7-搅拌轴， 8-进液管， 9-排液管， 10-集液罐， 11-缓冲罐， 12- 抽气泵， 13-第一连接管， 1。
10、4-第二连接管， 15-开启盖， 16-搅拌叶， 17-过滤器， 18-第一阀门， 19-第二阀门， 20-第三阀门， 21-研磨圈。 实施例 0017 如图1所示， 一种氧化铝抛光液配置装置， 包括罐体1、 第一电机2、 固定架3、 研钵4、 研磨辊5、 第二电机6、 搅拌轴7、 进液管8、 排液管9、 集液罐10、 缓冲罐11、 抽气泵12、 第一连接 管13、 第二连接管14， 罐体1的顶部设置有开启盖15， 第一电机2固定于开启盖15上方， 固定 架3固定于罐体1上部， 研钵4固定于固定架3上， 研磨辊5的下端设置于研钵4内并且其上端 与第一电机2相连， 进液管8的一端穿过罐体1设置于。
11、研钵4的上方， 第二电机6固定于罐体1 的底部， 搅拌轴7设置于罐体1内部， 搅拌轴7的一端与第二电机6相连并且其另一端与搅拌 叶16相连， 搅拌叶16位于固定架3下方， 排液管9的一端与罐体1的底部连通并且其另一端与 集液罐10连通， 排液管9上固定有过滤器17、 第一阀门18， 缓冲罐11位于集液罐10上方， 第一 连接管13的一端与集液罐10上端相连并且其另一端与缓冲罐11下端相连， 第一连接管13上 固定有第二阀门19， 第二连接管14的一端与抽气泵12相连并且其另一端与缓冲罐11的上端 相连， 第二连接管14上固定有第三阀门20。 0018 第一阀门18、 第二阀门19、 第三阀门20均为逆止阀。 0019 第一电机2、 第二电机6均为伺服电机。 0020 研磨辊5的下端与研磨圈21相连， 研磨圈21贴合研钵4内部设置。 0021 以上对本实用新型的1个实施例进行了详细说明， 但所述内容仅为本实用新型的 较佳实施例， 不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。 凡依本实用新型申请范围所作 的均等变化与改进等， 均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。 说明书 2/2 页 4 CN 205710554 U 4 图1 说明书附图 1/1 页 5 CN 205710554 U 5 。