复合涂层骨钻用钻头、其制备方法及骨钻.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201710198477.9 (22)申请日 2017.03.29 (71)申请人 纳狮新材料股份有限公司 地址 314200 浙江省嘉兴市平湖市经济技 术开发区兴平二路1661号 申请人 嘉兴奥德纳米技术有限公司 (72)发明人 黄世伟 沈学忠 袁安素 朱国朝 温振伟 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 代理人 沈锦华 (51)Int.Cl. A61B 17/16(2006.01) C23C 8/36(2006.01) C23C 14/06(2。

2、006.01) C23C 14/32(2006.01) C23C 28/00(2006.01) (54)发明名称 复合涂层骨钻用钻头、 其制备方法及骨钻 (57)摘要 本发明是关于复合涂层骨钻用钻头、 其制备 方法及骨钻。 本发明一实施例提供一复合涂层骨 钻用钻头， 其包括： 骨钻用钻头； 骨钻用钻头的表 面依次附着渗氮层、 物理气相沉积PVD涂层和抗 菌纳米粒子改性的PVD涂层， 其中PVD涂层为包括 AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混合物的纳米硬质 涂层。 本发明实施例提供了复合涂。

3、层骨钻用钻 头、 其制备方法及骨钻， 其通过在骨钻用钻头的 表面依次沉积渗氮层、 PVD涂层和抗菌纳米粒子 改性的PVD涂层形成复合涂层骨钻用钻头， 一方 面增强了骨钻用钻头的硬度及耐磨性， 另一方 面， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层中的抗菌纳米 粒子也能有效抵抗细菌， 降低患者感染细菌的风 险。 权利要求书2页 说明书8页 附图1页 CN 107049413 A 2017.08.18 CN 107049413 A 1.一种复合涂层骨钻用钻头， 其包括： 骨钻用钻头； 所述骨钻用钻头的表面依次附着渗 氮层、 物理气相沉积PVD涂层和抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 其中所述PVD涂层为包括 Al。

4、CrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混合物的纳米 硬质涂层。 2.根据权利要求1所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述抗菌纳米粒子包括银纳米粒 子、 铜纳米粒子或其混合物。 3.根据权利要求1或2所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述抗菌纳米粒子在所述抗菌 纳米粒子改性的PVD涂层中的原子百分比为0.1-25。 4.根据权利要求1或2所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述抗菌纳米粒子的粒径为 1nm-100nm。 5.根据权利要求1或2所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述PVD涂层的厚度为1 m-1。

5、5 m， 表面硬度为1500HV-5000HV。 6.根据权利要求1或2所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述抗菌纳米粒子改性的PVD 涂层的厚度为1 m-15 m。 7.根据权利要求1或2所述的复合涂层骨钻用钻头， 其中所述渗氮层的厚度为0.01mm- 0.5mm。 8.一种复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其包括如下步骤： 提供骨钻用钻头； 对所述骨钻用钻头进行离子渗氮处理以在所述骨钻用钻头的表面形 成渗氮层； 采用物理气相沉积PVD工艺在所述渗氮层的表面沉积包括AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiA。

6、lWN或其混合物的纳米硬质涂层以形成PVD涂 层； 将抗菌纳米粒子导入物理气相沉积PVD工艺炉中， 采用物理气相沉积PVD工艺在所述 PVD涂层的表面形成抗菌纳米粒子改性的PVD涂层。 9.根据权利要求8所述的复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其中所述抗菌纳米粒子包 括银纳米粒子、 铜纳米粒子或其混合物。 10.根据权利要求8或9所述的复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其中所述抗菌纳米粒 子在所述抗菌纳米粒子改性的PVD涂层中的原子百分比为0.1-25。 11.根据权利要求8或9所述的复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其中所述抗菌纳米粒 子的粒径为1nm-100nm。 12.根据权利要求8或9所述的。

7、复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其中采用PVD工艺形成 所述PVD涂层的步骤包括： 首先通入纯度为99.999的氩气， 在偏压为800-1000V的条件下 清洁所述渗氮层的表面； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气， 在偏压为80- 100V的条件下， 打开包含用于组成所述PVD涂层的金属的靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在清洁后的所述渗氮层的表面沉积形成所述PVD涂层。 13.根据权利要求8或9所述的复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其中采用PVD工艺形成 所述抗菌纳米粒子改性的PVD涂层的步骤包括： 继续通入纯度为99.999的氮气， 在偏压为 80-100。

8、V的条件下， 保持包含用于组成所述PVD涂层的金属的靶的开启状态， 同时导入所述 抗菌纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在所述PVD涂层的表面沉积形成所述抗菌 权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 107049413 A 2 纳米粒子改性的PVD涂层。 14.一种骨钻， 其包括权利要求1-7中任一项所述的复合涂层骨钻用钻头。 权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 107049413 A 3 复合涂层骨钻用钻头、 其制备方法及骨钻 技术领域 0001 本发明涉及医疗外科器械技术领域， 特别涉及复合涂层骨钻用钻头、 其制备方法 以及具有该复合涂层骨钻用钻头的骨钻。 背。

9、景技术 0002 根据世界卫生组织颁布的 院内感染防治实用手册 中的有关数据， 全世界每天有 超过1400万人在遭受院内感染的痛苦， 其中60的细菌感染与临床使用的医疗器械有关。 也就是说， 目前临床使用的医疗器械， 大到手术刀和骨钻用钻头， 小到骨针和麻醉针， 因无 法满足抗菌要求而在与人体直接接触时使患者遭受细菌感染。 0003 因而， 现有的医疗器械亟需改进， 以提升医疗器械的抗菌效果， 降低患者感染细菌 的风险。 发明内容 0004 本发明的目的之一在于提供一复合涂层骨钻用钻头， 其具有有效的抗菌功能。 0005 根据本发明的一实施例， 一复合涂层骨钻用钻头， 其包括： 骨钻用钻头； 。

10、骨钻用钻 头的表面依次附着渗氮层、 物理气相沉积PVD涂层和抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 其中PVD 涂层为包括AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混 合物的纳米硬质涂层。 0006 根据本发明的另一实施例还提供了复合涂层骨钻用钻头的制备方法， 其包括如下 步骤： 提供骨钻用钻头； 对骨钻用钻头进行离子渗氮处理以在骨钻用钻头的表面形成渗氮 层； 采用物理气相沉积PVD工艺在渗氮层的表面沉积包括AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 T。

11、iSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混合物的纳米硬质涂层以形成PVD涂层； 将抗 菌纳米粒子导入物理气相沉积PVD工艺炉中， 采用物理气相沉积PVD工艺在PVD涂层的表面 形成抗菌纳米粒子改性的PVD涂层。 0007 根据本发明的又一实施例还提供了具有上述复合涂层骨钻用钻头的骨钻。 0008 本发明实施例提供了复合涂层骨钻用钻头、 其制备方法以及具有复合涂层骨钻用 钻头的骨钻， 其通过在骨钻用钻头的表面依次沉积渗氮层、 PVD涂层和抗菌纳米粒子改性的 PVD涂层形成复合涂层骨钻用钻头， 一方面增强了骨钻用钻头的硬度及耐磨性， 另一方面， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层中的抗菌纳米粒子也。

12、能有效抵抗细菌， 降低患者感染细菌的 风险。 附图说明 0009 图1所示是根据本发明一实施例的复合涂层骨钻用钻头的主视图 0010 图2所示是图1所示的复合涂层骨钻用钻头的I处的轴向截面放大图 具体实施方式 说 明 书 1/8 页 4 CN 107049413 A 4 0011 为更好的理解本发明的精神， 以下结合本发明的部分优选实施例对其作进一步说 明。 0012 图1所示是根据本发明一实施例的复合涂层骨钻用钻头100的主视图， 图2所示是 图1所示的复合涂层骨钻用钻头100的I处的轴向截面放大图。 0013 如图1和2所示， 复合涂层骨钻用钻头100包括骨钻用钻头10， 骨钻用钻头10的。

13、表面 10a依次附着渗氮层16、 PVD涂层12和抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14。 其中， PVD涂层12为包 括AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混合物的纳 米硬质涂层， 用以强化骨钻用钻头10的耐磨性能。 0014 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14中的抗菌纳米粒子用以强化骨钻用钻头10的抗细 性能， 使其与人体接触时， 降低或消除患者感染细菌的风险， 同时抗菌纳米粒子改性的PVD 涂层14还可以进一步强化骨钻用钻头10的耐磨性能。 0015 位于骨钻用钻头10和PVD涂层12之间的。

14、渗氮层16用以进一步强化骨钻用钻头10的 表面10a和PVD涂层12之间的结合度。 0016 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14中的抗菌纳米粒子包括 银纳米粒子、 铜纳米粒子或其混合物。 0017 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子在抗菌纳米粒子改性的PVD涂层中的原子 百分比为0.1-25。 0018 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子的粒径为1nm-100nm。 0019 在本发明的一实施例中， PVD涂层12的厚度为1-15 m,PVD涂层12的厚度可进一步 优选为3-6 m， PVD涂层12的表面硬度为1500HV-5000HV。 PVD涂层12的表面硬度可进。

15、一步优 选为约2000HV-3500HV。 0020 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14的厚度为1-15 m， 抗菌纳 米粒子改性的PVD涂层14的厚度可进一步优选为3-6 m。 0021 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14的表面硬度为1000HV- 3000HV。 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14的表面硬度可进一步优选为约1500HV-2500HV。 0022 在本发明的一实施例中， 渗氮层16的厚度为0.01mm-0.5mm。 渗氮层16的厚度可进 一步优选为不小于0.2mm。 0023 图1所示根据本发明一实施例的复合涂层骨钻用钻头100的制备。

16、方法包括如下步 骤： 0024 提供骨钻用钻头10； 对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在骨钻用钻头10的表面 10a形成渗氮层16； 0025 采用PVD工艺在渗氮层16的表面16a上沉积包括AlCrN、 CrAlN、 CrN、 TiN、 AlTiN、 TiAlN、 TiAlCrN、 TiSiN、 TiSiAlN、 TiAlWN或其混合物的纳米硬质涂层以形成PVD涂层12； 以 及 0026 将抗菌纳米粒子导入PVD工艺炉中， 采用PVD工艺在PVD涂层12的表面12a形成抗菌 纳米粒子改性的PVD涂层14。 0027 在本发明的一实施例中， 抗菌纳米粒子改性的PVD涂层14中的抗菌纳米粒子。

17、包括 银纳米粒子、 铜纳米粒子或其混合物。 0028 在本发明的一实施例中， 采用PVD工艺形成PVD涂层12的步骤包括： 首先通入纯度 说 明 书 2/8 页 5 CN 107049413 A 5 为99.999的氩气， 在偏压为800-1000V的条件下清洁渗氮层16的表面16a； 然后停止通入 氩气， 通入纯度为99.999的氮气， 在偏压为80-100V的条件下， 打开包含用于组成PVD涂层 12的金属的靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的表面16a沉积形成 PVD涂层12。 0029 在本发明的一实施例中， 采用PVD工艺形成抗菌纳米粒子改性的PVD。

18、涂层14的步骤 包括： 继续通入纯度为99.999的氮气， 在偏压为80-100V的条件下， 保持包含用于组成PVD 涂层12的金属的靶的开启状态， 同时导入包含银纳米粒子、 铜纳米粒子或其混合物的抗菌 纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在PVD涂层12的表面12a沉积形成抗菌纳米粒 子改性的PVD涂层14。 0030 本发明实施例可通过常规的PVD设备采用常规的PVD工艺形成PVD涂层12和抗菌纳 米粒子改性的PVD涂层14。 0031 根据本发明一实施例还提供一种具有上述复合涂层骨钻用钻头100的骨钻。 0032 以下结合本发明的部分更优选实施例对其作进一步说明。 0。

19、033 实施例1 0034 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.25mm； 0035 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开Ti靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的表 面16a沉积TiN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0036 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即。

20、高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持CrAl靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的银纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0037 实施例2 0038 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.3mm； 0039 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为9。

21、9.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开Ti靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的表 面16a沉积TiN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0040 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持CrAl靶的开启状态， 同时导入1-100nm的铜纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的铜纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0041 实施例3 0042 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨。

22、钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.35mm； 0043 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 说 明 书 3/8 页 6 CN 107049413 A 6 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0044 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即。

23、高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持AlTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的铜纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的铜纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0045 实施例4 0046 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.5mm； 0047 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为9。

24、9.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0048 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持AlTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的铜纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的铜纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0049 实施例5 0050 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环。

25、境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.4mm； 0051 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0052 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持A。

26、lTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子和铜纳米粒子， 弧电流为120A- 200A， 采用PVD工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 从 而形成复合涂层骨钻用钻头。 0053 实施例6 0054 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.25mm； 0055 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压。

27、 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0056 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持AlTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子和铜纳米粒子， 弧电流为120A- 200A， 采用PVD工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 从 说 明 书 4/8 页 7 CN 107049413 A 7 而形成复合涂层骨钻用钻头。 0057 实施例7 0058。

28、 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.3mm； 0059 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0060 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压。

29、为80-100V的条件 下， 保持AlTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子和铜纳米粒子， 弧电流为120A- 200A， 采用PVD工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 从 而形成复合涂层骨钻用钻头。 0061 实施例8 0062 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.3mm； 0063 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.9。

30、99的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开AlTi靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积TiAlN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0064 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持AlTi靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的银纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0065 实施例9 0066 提供骨钻用钻头； 在400的氮气环境下对。

31、骨钻用钻头10进行离子渗氮处理以在 骨钻用钻头10的表面10a形成渗氮层16， 渗氮层的厚度为0.25mm； 0067 通入纯度为99.999的氩气(即高纯氩气)， 在偏压为800-1000V的条件下， 清洁渗 氮层16的表面16a； 然后停止通入氩气， 通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压 为80-100V的条件下， 打开CrAl靶， 弧电流为120A-200A， 采用PVD工艺在清洁后渗氮层16的 表面16a沉积AlCrN合金形成厚度为3-6 m的PVD涂层； 0068 接着， 继续通入纯度为99.999的氮气(即高纯氮气)， 在偏压为80-100V的条件 下， 保持CrA。

32、l靶的开启状态， 同时导入1-100nm的银纳米粒子， 弧电流为120A-200A， 采用PVD 工艺在PVD涂层的表面沉积厚度为3-6 m的银纳米粒子改性的PVD涂层， 从而形成复合涂层 骨钻用钻头。 0069 对上述实施例1-9的复合涂层骨钻用钻头和常用的普通骨钻用钻头进行抗菌效果 实验。 测试方法： 参考ISO22196:2011； 实验菌种： 黄金色葡萄球菌ATCC6538P(表一)， 大肠杆 菌ATCC8739(表二)。 0070 实验数据请参见表一和表二。 0071 表一 说 明 书 5/8 页 8 CN 107049413 A 8 0072 0073 0074 表二 说 明 书 。

33、6/8 页 9 CN 107049413 A 9 0075 0076 0077 注： 0078 参照标准ISO825187和JISH8682标准， 用磨擦轮磨耗试验机测定在规定的试 验条件下， 使涂层与胶接在磨擦轮外缘上的研磨砂纸作平面往复运动， 每双行程后磨擦轮 转动一小角度(0.9 )， 经规定的若干次研磨后， 涂层质量(mg)的减少作为衡量耐磨性的标 准。 说 明 书 7/8 页 10 CN 107049413 A 10 0079 本发明各实施例的复合涂层骨钻用钻头的抗菌活性值为相对于普通骨钻用钻 头的抗菌活性值。 0080 由上表可知， 相较于常用的普通骨钻用钻头， 本发明实施例提供的。

34、复合涂层骨钻 用钻头， 通过在骨钻用钻头的表面设置PVD涂层和抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 有效提高 了复合涂层骨钻用钻头的表面硬度和抗菌性能， 从而提高了复合涂层骨钻用钻头的品质及 使用寿命， 在复合涂层骨钻用钻头接触人体的过程中， 降低或消除患者感染细菌的风险。 0081 本发明实施例提供的复合涂层骨钻用钻头， 可通过在骨钻用钻头的表面设置渗氮 层来提高骨钻用钻头的表面的涂层的结合度， 有效避免涂层脱落， 从而进一步提高复合涂 层骨钻用钻头的品质， 延长其使用寿命。 0082 虽然PVD技术是一门已知的在现代物理、 化学、 材料学、 电子学、 力学等多学科基础 上建立起来的工程技术， 即。

35、将金属或非金属靶材(所镀膜材料)在真空环境下， 经过物理过 程沉积在需要镀膜工件表面的过程。 但仅采用PVD技术在骨钻用钻头10表面直接沉积涂层 所得到的骨钻用钻头， 其抗菌性无法满足骨钻用钻头的使用要求。 而本发明实施例提供的 复合涂层骨钻用钻头， 将抗菌纳米粒子， 如银纳米粒子、 铜纳米粒子等， 导入PVD工艺， 在骨 钻用钻头上形成抗菌纳米粒子改性的PVD涂层， 提高了复合涂层骨钻用钻头的抗菌性能。 0083 本发明的技术内容及技术特点已揭示如上， 然而熟悉本领域的技术人员仍可能基 于本发明的教示及揭示而作种种不背离本发明精神的替换及修饰。 因此， 本发明的保护范 围应不限于实施例所揭示的内容， 而应包括各种不背离本发明的替换及修饰， 并为本专利 申请权利要求书所涵盖。 说 明 书 8/8 页 11 CN 107049413 A 11 图1 图2 说 明 书 附 图 1/1 页 12 CN 107049413 A 12 。