铭版结构及其制造方法.pdf

一种铭版结构及其制造方法，其系先在光阻层上形成纳米等级的图案，再将此光阻层上的图案转印至铭版制程中所需的射出成型的母模上，然后依据此母模制作出具有纳米等级的图案的塑胶基板，并于此塑胶基板上形成共形反射层，以将光线在这些纳米等级的图案间的衍射效果显现出来。通过此技术手段，即可制作出成本低廉、容易印刷、具可挠性易贴附、轻且薄，以及具有金属质感与立体感的铭版。

1、  一种铭版的制造方法，包括下列步骤：
提供一透光基板，该透光基板具有一第一表面与一第二表面，且该第一表面具有至少一组图案；
在该透光基板的该第一表面上形成至少一色层；
于该色层上形成至少一共形反射层；以及
于该共形反射层上形成至少一第一保护层。

2、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中该第一保护层为共形膜层，且在形成该第一保护层之后，更包括在该第一保护层上形成至少一平坦层。

3、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该平坦层的方法包括油墨喷洒制程。

4、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，更包括于该透光基板的该第二表面上形成一第二保护层。

5、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，更包括于该第二保护层上形成一透明膜。

6、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中该透光基板的形成方法包括下列步骤：
提供一底板；
于该底板上形成一图案化光阻层，其中该图案化光阻层具有至少一第一图案；
于该图案化光阻层上形成一金属层；
将该金属层从该底板上剥离，以将该第一图案转印至该金属层；以及
利用该金属层为母模，以透光塑料进行射出成型，以形成该透光基板。

7、  如权利要求6所述的铭版的制造方法，其中在该底板上形成该图案化光阻层的方法包括曝光及显影制程，且该曝光制程系以波长介于0.7微米至0.75微米之间的激光作为曝光光源。

8、  如权利要求6所述的铭版的制造方法，其中在将该金属层从该底板上剥离之后以及利用该金属层为母膜进行射出成型之前，更包括对该金属层进行微影蚀刻制程。

9、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该些色层的方法包括丝网印刷与胶版印刷至少其中之一。

10、  如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该共形反射层的方法包括蒸镀及溅镀其中之一。

11、  一种铭版结构，包括：
一透光基板，具有一第一表面与一第二表面，其中该第一表面具有至少一组图案；
至少一色层，配置于该透光基板的该第一表面上；
至少一共形反射层，共形地配置于该色层上；以及
至少一第一保护层，配置于该共形反射层上。

12、  如权利要求11所述的铭版结构，其中该第一保护层为共形膜层，且该铭版结构更包括一平坦层，配置于该第一保护层上。

13、  如权利要求12所述的铭版结构，其中该平坦层为油墨层。

14、  如权利要求11所述的铭版结构，更包括至少一第二保护层，配置于该透光基板的该第二表面上。

15、  如权利要求14所述的铭版结构，其中该第二保护层的材质为硬化胶。

16、  如权利要求14所述的铭版结构，更包括至少一透明膜，配置于该第二保护层上。

17、  如权利要求11所述的铭版结构，其中该共形反射层的厚度为55纳米。

18、  如权利要求11所述的铭版结构，其中该第一保护层的材质为硬化胶。

19、  如权利要求11所述的铭版结构，其中该些色层包括丝网印刷层及胶版印刷层至少其中之一。

20、  如权利要求11所述的铭版结构，其中该组图案包括文字、数字、符号及图像至少其中之一。

铭版结构及其制造方法
技术领域
本发明是有关于一种铭版结构及其制造方法，且特别是有关于一种质轻、成本低廉且具金属质感的铭版结构及其制造方法。
背景技术
目前的铭版可分为塑胶铭版与金属铭版两种，其中在金属铭版的制程中，多是在金属材料上以机械加工或蚀刻的方式制作出极具立体感的图文，加上金属材料本身具有表面光亮的特性，故金属铭版具有较为美观的优点。然而，金属铭版通常成本高且制程费时，又不易印刷，且一般的金属铭版厚重且挠性差，以致于具有不便贴附于轻薄物品或是弧形物品的缺点。此外，塑胶铭版虽然具有轻且薄，并方便贴附于各种物品上的优点，但其却仅能显现出平面式的图文，又不具金属质感，外观上较金属铭版单调无变化。
因此，需使用何种材料及制程来制作铭版才能使其同时兼具金属铭版与塑胶铭版的优点，实为相关产业亟欲探讨与研发的方向之一。
发明内容
有鉴于现有技术所制成的金属铭版与塑胶铭版分别存在有高成本、制程耗时、厚重、挠性差、不易印刷及不具立体感及金属质感的问题，本发明遂揭露一种铭版结构及其制造方法，以提供兼具成本低廉、容易印刷、具可挠性易贴附、轻且薄，以及有金属质感与立体感之优点的铭版。
本发明提供一种铭版的制造方法，其实行步骤包括：提供具有第一表面与第二表面的透光基板，其中透光基板的第一表面具有至少一组图案；在该透光基板的该第一表面上形成至少一色层；于该色层上形成至少一共形反射层；以及于该共形反射层上形成至少一第一保护层。
本发明提供一种铭版结构，包括透光基板、至少一色层、至少一共形反射层以及至少一第一保护层。其中，透光基板具有第一表面及第二表面，且第一表面具有至少一组图案；色层是配置于透光基板的第一表面上，共形反射层是配置于色层上，第一保护层则是配置于共形反射层上。
本发明所揭露的铭版结构及其制造方法如上，与现有技术之间的差异在于本发明是先在光阻层上形成纳米等级的图案，接着将此图案转印至铭版制程中所需的射出成型的母模上，并利用此母模进行射出成型，以将纳米等级的图案复制于塑胶基板上，使塑胶基板具有纳米等级的图案。后续再于塑胶基板上形成共形反射层，以显现出因光线在这些图案间产生衍射而造成的炫彩效果。通过上述手段，本发明可以制程时间短、容易印刷、具可挠性易贴附、轻且薄及成本低廉的塑胶材质，制作出具有金属质感及立体感图案的铭版。
附图说明
图1A至图1C为本发明铭版在第一实施例中的制造流程剖面示意图。
图2A至图2E为本发明的透光基板在一实施例中的制造流程剖面示意图。
图3为本发明铭版在第二实施例中的剖面示意图。
图4为本发明铭版在第三实施例中的剖面示意图。
图5为本发明铭版母基板在第四实施例中的剖面示意图。
图6为本发明铭版母基板在第二实施例中的剖面示意图。
图7为本发明铭版母基板在第三实施例中的剖面示意图。
具体实施方式
以下将配合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，藉此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。
图1A至图1C绘示为本发明铭版在第一实施例中的制造流程剖面示意图。请参照图1A，首先提供透光基板110，其中透光基板110的第一表面112是具有图案113，而图案113可以包括文字(如厂商名或产品名等)、数字、符号及图像(如商标等)至少其中之一。构成透光基板110的材质例如是透光性佳的聚合物材料，如聚苯乙烯(polystyrene，PS)、环烯烃共聚物(metallocene based Cyclic Olefin Copolymer，mCOC)或聚碳酸酯(polycarbonate，PC)等。而且，透光基板110例如是通过射出成型制程所形成。以下将举实施例详述形成透光基板110的流程。
图2A至图2E绘示为本发明的透光基板在一实施例中的制造流程剖面示意图。请参照图2A，首先在底板101上形成具有第一图案102a的图案化光阻层102，其中底板101例如是一玻璃板，而形成图案化光阻层102的方法例如是先在底板101上形成一层光阻层(未绘示)，然后再对此光阻层进行曝光及显影制程，即可形成图案化光阻层102。其中，此光阻层的曝光制程中所使用的光源例如是波长介于0.7微米至0.75微米之间的激光，以便于在光阻层上蚀刻出纳米等级的第一图案102a。具体来说，本实施例在曝光制程中所使用的光源是波长为0.74微米的激光，而图案化光阻层102的第一图案102a的高度h例如是介于60微米至110微米之间。
请参照图2B，在完成图案化光阻层102后，接着即是在图案化光阻层102上形成金属层103。在本实施例中，金属层103可以通过蒸镀(evaporation)制程、溅镀(sputtering)制程或电镀(electroplating)制程等来完成。之后，将金属层103从底板101上剥离，如图2C所示。此时，金属层103上是转印有与图案化光阻层102的第一图案102a相反的图案。
值得注意的是，在从底板101上将金属层103剥离下来后，还可以再次以激光束或其他光源对金属层103进行微影及蚀刻制程，以便于在金属层103上再次形成其他图案。后续再利用金属层103作为母模，并将透光塑料104填入射出成型机(未绘示)，由喷嘴105将透光塑料104射出成型，如图2D所示。之后成型于母膜(金属层103)上的即为图1A的透光基板110，如图2E所示。其中，透光基板110的第一表面112所具有的图案113即是从金属层103上的图案转印而来。也就是说，图案113可以包括图案化光阻层102上的第一图案102a，也可以包括有在将金属层103从底板101上剥离后所进行的微影及蚀刻制程生成的图案。
请继续参照图1A，形成色层120的方法例如是丝网印刷(silk screenprinting)或胶版印刷(offset printing)。值得注意的是，虽然图中仅绘示出单一色层120，但其并非用以限定本发明，熟悉此技艺者可自行依照实际所需来决定色层120的层数。而且，在具有多层色层120的实施例中，可以是一并通过丝网印刷制程或胶版印刷制程来形成所有色层120，也可以是分别以不同的印刷制程来形成不同的色层120。
请参照图1B，在透光基板110的第一表面112上形成色层120后，接着在色层120上形成共形反射层130，其中形成共形反射层130的方法例如是将金属材料通过蒸镀制程或溅镀制程形成于色层120上，而共形反射层130的材质可以是铝、铜、金、银、镍或其他合金金属，但并不限定于此。值得一提的是，由于共形反射层130是依照透光基板110的第一表面112的图案113而共形地形成于透光基板110的第一表面112上方，因此能够将光线在第一表面112的图案113间的衍射效果显现出来，进而使这些图案113较具立体感。
请参照图1C，在共形反射层130形成至少一层第一保护层140a，此时即完成铭版100的制作。其中，形成第一保护层140a的方法例如是将硬化胶涂布于共形反射层130上。在本实施例中，第一保护层140a例如是共形膜层，也就是说，第一保护层140a是共形地配置于共形反射层130上，且为了使铭版100的表面平顺光滑，还可以在第一保护层140a上形成一层平坦层150。其中，平坦层150例如是通过油墨喷洒制程所形成的油墨层，以借由颗粒较大的油墨分子来填平第一保护层140a的凹凸表面。
除了在共形反射层130上形成第一保护层140a之外，本实施例亦可以同时形成至少一第二保护层140b在透光基板110的第二表面114上。其中，第二保护层140b的制程与材质例如是与第一保护层140a相同。由此可知，第一保护层140a除了可以保护共形反射层130以外，亦可以与第二保护层140b同时增强铭版100的表面硬度，以防止铭版100表面遭外力刮伤而受损。
以图1C的铭版100来说，外界光线是从透光基板110的第二表面114入射至铭版100内，并在透光基板110的图案113之间产生衍射后，再由共形反射层130将其从透光基板110的第二表面114反射出，进而使观看者能够观看到具立体感的图案113。
特别的是，在本发明的其他实施例中，更可以利用掺有掺质的材料来形成具有特殊纹路或图案的第二保护层140b。如此一来，观看者会在从第二保护层140b上方观看铭版100的图案的同时，看到第二保护层140b内的特殊纹路或图案，而此特殊纹路或图案即可用以作为铭版100防伪的判断依据。
以下将说明本发明铭版结构。请参照图1C，铭版100包括透光基板110、至少一色层120、至少一共形反射层130、至少一第一保护层140a以及至少一第二保护层140b。其中，透光基板110具有第一表面112与第二表面114，且其第一表面112具有至少一组图案113。色层120是配置于透光基板110的第一表面112上，且其可以是丝网印刷层或是胶版印刷层。在其他实施例中，铭版100可以包括多层色层120，且这些色层可以是通过相同印刷制程所形成，也可以是通过不同的印刷制程所形成，本发明并未对其加以限制。
承上述，共形反射层130是共形地配置于色层120上，以便于将光线在透光基板110的第一表面112的图案113间的衍射效果显现出来。其中，共形反射层130的厚度例如是55纳米。第一保护层140a是共形地配置于共形反射层130上，用以保护共形反射层130，并同时与透光基板110的第二表面114上的第二保护层140b增加铭版100的表面硬度。其中，第一保护层140a与第二保护层140b的材质例如是硬化胶。
在本实施例中，在第一保护层140a上更配置有平坦层150，以使铭版100的表面平顺光滑。其中，平坦层150例如是通过油墨喷洒制程所制成的油墨层。
为了方便将本发明铭版贴附在各式各样的产品上，本发明在第二实施例中还可以在完成图1C所示的铭版100后，于第一保护层140a上形成背胶160，如图3所示。另一方面，本发明于第三实施例中亦可在第二保护层140b上形成一透明膜170，如图4所示，以便于更进一步保护铭版110。
虽然前文系举单一铭版的制程为例做说明，但其并非用以限定本发明。本发明所揭露的方法亦适用于批量生产铭版的制程中，以下将举实施例进行说明。
图5绘示为本发明在第四实施例中的铭版母基板的剖面示意图。请同时参照图1C与图5，本实施例与前述实施例的相异处在于前述实施例所使用的透光基板110尺寸与形状即为铭版100的尺寸与形状，而本实施例所使用的透光基板510尺寸则是可以同时容纳多片铭版100的大小，以便于在透光基板上510利用上述制程制作至少一色层120、至少一共形反射层130、至少一第一保护层140a以及至少一第二保护层140b，因而形成图5所示的铭版母基板501后，将其切成多片如图1C所示的铭版100。其中，透光基板510的第一表面512是具有多组可由文字及图像至少其中之一所组成的图案113，且这些组图案113可以是相同的图案，也可以是不同的图案。在切割铭版母基板501的过程中，即是依据各组图案113的所在位置及所欲制成的铭版形状来进行切割，以使切割出来的每片铭版100均具有一组图案113。
值得一提的是，如欲以批量制程生产具有背胶的铭版(如图3所示)或具有透明膜的铭版(如图4所示)，则需先在第一保护层140a上形成背胶160，如图6所示，或是在第二保护层140b上形成透明膜170，如图7所示，之后再对铭版母基板501进行切割，即可制成与图3及图4所示相同的铭版。
综上所述，可知本发明与现有技术之间的差异在于本发明是先在光阻层上形成纳米等级的图案，接着将此图案转印至铭版制程中所需的射出成型的母模上，再利用此母模进行射出成型，以将纳米等级的图案复制于塑胶基板上，使塑胶基板具有纳米等级的图案。后续再于塑胶基板上形成共形反射层，以显现出因光线在这些图案中产生衍射而造成的炫彩效果。通过上述手段，本发明不但可以缩短铭版制程所需花费的时间，更可以容易印刷、具可挠性易贴附、轻且薄及成本低廉的塑胶材质，制作出具有金属质感及立体感图案的铭版。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，胆所述的内容并非用以直接限定本发明的专利保护范围。任何本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式上及细节上作些许的更动。本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定者为准。