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1、10申请公布号CN102005255A43申请公布日20110406CN102005255ACN102005255A21申请号201010556201122申请日20101123H01B5/14200601G06F3/04420060171申请人苏州禾盛新型材料股份有限公司地址215021江苏省苏州市工业园区后戴街108号72发明人汪倩文武俊74专利代理机构南京苏科专利代理有限责任公司32102代理人王玉国陈忠辉54发明名称投射式电容触控面板用双面导电膜57摘要本发明涉及投射式电容触控面板用双面导电膜，在PET膜的正面涂有表面改性层，表面改性层上设有抗反射层，抗反射层上溅镀有蚀刻透明导电层；P。
2、ET膜的背面也涂有表面改性层，表面改性层上也设有抗反射层，抗反射层上也溅镀有蚀刻透明导电层。PET膜正面和背面的抗反射层均由两种折射率不同的透明层组成，光线经由具有不同折射率的抗反射层时，反射光的波形会形成破坏性干涉，消除98以上外在环境的反射光；PET膜正面和背面的蚀刻透明导电层使用真空溅镀的方式溅镀纳米铟锡金属氧化物，然后用蚀刻液对透明导电层进行图形蚀刻，形成投射电容式触控面板铺设线路需要的图形，省去了使用光学胶粘贴导电膜的步骤，大大节省了制造成本。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页附图1页CN102005268A1/1页21投射式电容触。
3、控面板用双面导电膜，基材为PET膜，其特征在于所述PET膜的正面涂有表面改性层，所述表面改性层上设有抗反射层，所述抗反射层上溅镀有蚀刻透明导电层；所述PET膜的背面也涂有表面改性层，所述表面改性层上也设有抗反射层，所述抗反射层上也溅镀有蚀刻透明导电层。2根据权利要求1所述的投射式电容触控面板用双面导电膜，其特征在于所述PET膜正面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。3根据权利要求1所述的投射式电容触控面板用双面导电膜，其特征在于所述PET膜背面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。4根据权利要求1所述的投射式电容触控面板用双面导电膜，其特征在于所述PET膜正面的抗反射层和PET膜背面的抗反射层均由两。
4、种折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于100NM。权利要求书CN102005255ACN102005268A1/2页3投射式电容触控面板用双面导电膜技术领域0001本发明涉及一种投射式电容触控面板用双面导电膜。背景技术0002根据全球平面显示产业研究机构DISPLAYSEARCH最新发表的2010触控面板市场出货预测分析报告中预测，投射电容式触控面板的出货量将大幅度成长，预计2010年投射电容式触控面板出货产值将超越电阻式触控面板出货产值，成为触控面板的主要应用技术。苹果公司广泛的应用投射式电容技术在自身产品上，如2007年推出的IPHONE和IPOD，以及2010年推出的IPAD都取得了。
5、很好的市场反响。0003所谓的投射式电容触控技术为透过捕捉电极间的电容变化，进行触控位置侦测。由于人体会携带水分，已是优秀的导体，因此当人体靠近电极时，手指与电极之间的电容值会增加，此时只要调查出哪条线的静电容量变大，就可得知哪个点被触控了，因为此种触控机制具备多项优势，也成为目前电子产品的触控解决方案首选，连带导致配套的透明导电膜技术得以长足发展。发明内容0004本发明的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种投射式电容触控面板用导电膜。0005本发明的目的通过以下技术方案来实现0006投射式电容触控面板用双面导电膜，基材为PET膜，特点是所述PET膜的正面涂有表面改性层，所述表面改性层上设有。
6、抗反射层，所述抗反射层上溅镀有蚀刻透明导电层；所述PET膜的背面也涂有表面改性层，所述表面改性层上也设有抗反射层，所述抗反射层上也溅镀有蚀刻透明导电层。0007进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜正面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。0008更进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜背面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。0009再进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜正面的抗反射层和PET膜背面的抗反射层均由两种折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于100NM。0010本发明技术方案的实质性特点和进步主要体现在0011PET膜。
7、正面的抗反射层和PET膜背面的抗反射层均由两种折射率不同的透明层组成，光线经由具有不同折射率的抗反射层时，会产生部分穿透部分反射的效果，因此反射光的波形会形成破坏性干涉，消除98以上外在环境的反射光，达到提高画面显示效果的作用；PET膜正面的蚀刻透明导电层和PET膜背面的蚀刻透明导电层使用真空溅镀的方式溅镀纳米铟锡金属氧化物，然后用蚀刻液对透明导电层进行图形蚀刻，形成投射电容式触控说明书CN102005255ACN102005268A2/2页4面板铺设线路需要的图形；导电层是直接在抗反射层上通过真空溅镀的方式形成，省去了使用光学胶粘贴导电膜的步骤，大大节省了制造成本，较好地应用于投射电容式触控。
8、面板上。附图说明0012下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明0013图1本发明的截面示意图；0014图中各附图标记的含义00151PET膜，2表面改性层，3抗反射层，4蚀刻透明导电层，5PE保护膜，6表面改性层，7抗反射层，8蚀刻透明导电层，9PE保护膜。具体实施方式0016针对投射电容式触控面板开发一种投射式电容触控面板用导电膜，如图1所示，基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET膜1，PET膜1的透光率在90以上，介电强度为169KV/MM，可阻挡紫外线，气体和水蒸气渗透率低；PET膜1的正面涂有表面改性层2，表面改性层2上设有抗反射层3，抗反射层由两个折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于。
9、100NM，抗反射层3上溅镀有蚀刻透明导电层4，蚀刻透明导电层4蚀刻后覆上PE保护膜5；PET膜1的背面涂有表面改性层6，表面改性层6上也设有抗反射层7，抗反射层7上也溅镀有蚀刻透明导电层8，蚀刻透明导电层8蚀刻后覆上PE保护膜9。0017其中，PET膜正面的表面改性层2和PET膜背面的表面改性层6可通过辊涂或喷涂方式中任一种实施；PET膜正面的蚀刻透明导电层4和PET膜背面的蚀刻透明导电层8的材料为纳米铟锡金属氧化物，其中LN2O3和SN2O3的比例为91；对PET膜正面的蚀刻透明导电层4和PET膜背面的蚀刻透明导电层8进行图形蚀刻使用的蚀刻液是草酸和三氯化铁水溶液的混合液，其中草酸和三氯化。
10、铁水溶液的配比为11。0018采用聚对苯二甲酸乙二醇酯PET膜为基板，在赋予材料高透光性的前提下，提供了复合材料加工成不同结构的可能，在PET膜1正面上涂表面改性层2提高基板与抗反射层3的附着力；在PET膜1背面上涂表面改性层6提高基板与抗反射层7的附着力；PET膜正面的抗反射层3和PET膜背面的抗反射层7均由两种折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于100NM，光线经由具有不同折射率的抗反射层时，会产生部分穿透部分反射的效果，因此反射光的波形会形成破坏性干涉，消除98以上外在环境的反射光，达到提高画面显示效果的作用。PET膜正面的蚀刻透明导电层4和PET膜背面的蚀刻透明导电层8使用真空溅镀的方式溅镀纳米铟锡金属氧化物，然后用蚀刻液对透明导电层进行图形蚀刻，形成投射电容式触控面板铺设线路需要的图形。本发明的导电层是直接在抗反射层上通过真空溅镀的方式形成，省去了使用光学胶粘贴导电膜的步骤，大大节省了制造成本；较好地应用于投射电容式触控面板上。0019需要强调的是以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。说明书CN102005255ACN102005268A1/1页5图1说明书附图CN102005255A。