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1、(10)授权公告号 CN 202932183 U (45)授权公告日 2013.05.15 CN 202932183 U *CN202932183U* (21)申请号 201220633884.0 (22)申请日 2012.11.27 A43D 25/047(2006.01) (73)专利权人 嘉兴江林电子科技有限公司 地址 314006 浙江省嘉兴市凌公塘路 3339 号 6 号楼东 1 层 (72)发明人 王守国 王玉国 张宸 (54) 实用新型名称 一种常压等离子体鞋底处理装置 (57) 摘要 本实用新型公开一种常压等离子体鞋底处理 装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传送带、 电源、 控制。
2、 柜等， 其特征是 ： 鞋底放置在传送带上， 从等离子 体喷枪的喷口下经过， 等离子体束流喷射到鞋底 的表面上， 对其表面进行等离子体处理， 传送带放 置在一个控制柜上。该装置的用途是对鞋底表面 进行等离子体处理， 以便提高鞋底与鞋面的粘结 强度。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 (10)授权公告号 CN 202932183 U CN 202932183 U *CN202932183U* 1/1 页 2 1. 本实用新型公开一种常压等离子体鞋底处理装置， 。
3、包括等离子体喷枪、 鞋底传送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 鞋底放置在传送带上， 从等离子体喷枪的喷口下经过， 等离子体 束流喷射到鞋底的表面上， 对其表面进行等离子体处理， 传送带放置在一个控制柜上。 2. 如权利要求 1 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传 送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 等离子体喷枪是安装在控制柜上方的水平支架上， 喷口向 下， 放电所采用的气体为空气。 3. 如权利要求 1 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传 送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 传送带由步进电机带动， 其传送速度可调。 。
4、4. 如权利要求 1 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传 送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 控制柜内放置驱动等离子体放电的电源、 高压变压器， 并 设有控制开关和功率表头。 权 利 要 求 书 CN 202932183 U 1/2 页 3 一种常压等离子体鞋底处理装置 技术领域 0001 本实用新型涉及一种新型的常压等离子体鞋底处理装置， 尤其是指鞋底放置在传 送带上， 从等离子体喷枪的喷口下经过， 等离子体束流喷射到鞋底的表面上， 对其表面进行 等离子体处理的装置。 背景技术 0002 目前在制鞋业， 为了提高鞋底的粘合强度， 目前普遍所采用的方法是用钢。
5、丝球来 打磨鞋底， 然后再用胶来粘合。这种打磨方式， 一方面是工人劳动强度大， 另一方面是打磨 所产生的尘埃对环境造成污染， 也对工人的健康带来隐患。 0003 本实用新型是采用等离子体射流喷射到鞋底的表面， 对鞋底表面进行改性， 提高 鞋底的表面能， 从而提高鞋底的粘接强度。这种方式即环保， 又卫生。 实用新型内容 0004 本实用新型的目的在于提供一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷 枪、 鞋底传送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 鞋底放置在传送带上， 从等离子体喷枪的喷口 下经过， 等离子体束流喷射到鞋底的表面上， 对其表面进行等离子体处理， 传送带放置在一 个控制柜上。。
6、 0005 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 等离子体喷枪是安装在控制柜上方的水平支架上， 喷口向下， 放电所 采用的气体为空气。 0006 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 传送带由步进电机带动， 其传送速度可调。 0007 所述的一种常压等离子体鞋底处理装置， 包括等离子体喷枪、 鞋底传送带、 电源、 控制柜等， 其特征是 ： 控制柜内放置驱动等离子体放电的电源、 高压变压器， 并设有控制开 关和功率表头。 0008 该装置的优势是 ： (1) 减。
7、少了工人的劳动强度 ； (2) 环保卫生。 附图说明 0009 下面结合附图对本实用新型进行进一步的描述， 其中 ： 0010 图 1 为本实用新型实施例一种常压等离子体鞋底处理装置。 具体实施方式 ： 0011 下面参照附图， 结合具体的实施例对本实用新型进行详细的描述。 0012 首先， 参阅图 1， 图 1 中所示为根据本实用新型的实施例种常压等离子体鞋底 处理装置的结构示意图， 包括等离子体喷枪 100、 鞋底传送带 107、 电源 109、 控制柜 110 等， 其特征是 ： 鞋底 101 放置在传送带 107 上， 从传送带的一端到另一端， 经过等离子体喷枪 说 明 书 CN 20。
8、2932183 U 2/2 页 4 100 的喷口下经过， 等离子体束流 102 喷射到鞋底 101 的表面上， 对其表面进行等离子体处 理， 传送带 107 固定在一个控制柜 110 上。 0013 控制柜 110 内放置驱动等离子体放电的电源 109、 高压变压器 105， 并设有控制开 关 106 和功率表头 108。传送带 107 由与步进电机连接的主动轴 104 带动， 其传送速度可 调。 0014 上面参考附图结合具体的实施例对本实用新型进行了描述， 然而， 需要说明的是， 对于本领域的技术人员而言， 在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下， 可以对上述实 施例作出许多改变和修改， 这些改变和修改都落在本实用新型的权利要求限定的范围内。 说 明 书 CN 202932183 U 1/1 页 5 图 1 说 明 书 附 图 CN 202932183 U 。