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显示设备.pdf

  • 上传人:r5
  • 文档编号:6354968
  • 上传时间:2019-06-03
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  • 页数:16
  • 大小:679.57KB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN201510001862.0

    申请日:

    2015.01.04

    公开号:

    CN105093730A

    公开日:

    2015.11.25

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情:

    实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/136申请日:20150104|||公开

    IPC分类号:

    G02F1/136; H01L29/786

    主分类号:

    G02F1/136

    申请人:

    群创光电股份有限公司

    发明人:

    张荣芳; 吴智濠; 王兆祥; 陈奕静

    地址:

    中国台湾新竹科学工业园区苗栗县

    优先权:

    103117752 2014.05.21 TW

    专利代理机构:

    中科专利商标代理有限责任公司11021

    代理人:

    宋焰琴

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    内容摘要

    一种显示设备,包含:基板,包括显示区及非显示区;第一导电层;半导体层,具有第一部分及第二部分,第一部分与基板间夹设有第一导电层,第二部分与基板间不夹设第一导电层;以及第二导电层,包括复数对应位于显示区中的数据线,第一导电层、半导体层与第二导电层共同构成复数薄膜晶体管结构,每一数据线具有间隔相对的第一侧边与第二侧边,且部分第一侧边与至少一薄膜晶体管结构中的载子通道相邻,其中,每一数据线的第二侧边与其相邻近的该半导体层的第一部分及第二部分侧边分别具有第一、第二距离,且第一距离大于第二距离。

    权利要求书

    1.一种显示设备,包含:
    一基板,包括一显示区及一非显示区,该非显示区位于该显示区外侧;
    一第一导电层,位于该基板上;
    一半导体层,位于该基板上并具有一第一部分及一第二部分,该第一
    部分与该基板间夹设有该第一导电层,该第二部分与该基板间不夹设该第
    一导电层;以及
    一第二导电层,迭置于该半导体层的一顶面且与该第一导电层、该半
    导体层配合构成复数对应位于显示区的薄膜晶体管结构,该第二导电层包
    括复数数据线,该些数据线对应位于显示区且间隔排列,每一数据线具有
    一第一侧边与一第二侧边,该第一侧边与该第二侧边间隔相对,且部分该
    第一侧边与相对应的该些薄膜晶体管结构中的载子通道相邻;
    其中,每一数据线的该第二侧边与其底层的该半导体层的第一部分侧
    边具有一第一距离,与其底层的该半导体层的第二部分侧边具有一第二距
    离,且该第一距离大于该第二距离。
    2.如权利要求1所述的显示设备,其中,该第二导电层包括复数对应
    位于该非显示区的走线,位于该半导体层的第一部分上的该些走线侧边至
    该半导体层的相邻一侧边间隔一第三距离,位于该半导体层的第二部分上
    的该些走线至该半导体层的相邻一侧边间隔一第四距离,且该第三距离大
    于该第四距离。
    3.如权利要求2所述的显示设备,其中,该第三距离大于该第二距离。
    4.如权利要求2所述的显示设备,其中,该第三距离大于该第一距离。
    5.如权利要求1所述的显示设备,其中,该第一距离为0.7um至1.5um。
    6.如权利要求1所述的显示设备,其中,该第二距离为0.3um至1um。
    7.如权利要求2至4中任一项所述的显示设备,其中,该第三距离为
    1um至2um。
    8.如权利要求1所述的显示设备,其中,该第一距离与该第二距离的
    比值为1.3至1.7。
    9.如权利要求1所述的显示设备,其中,该些数据线的该第二侧边与
    其底层的该半导体层侧边轮廓形状相同。
    10.一种显示设备,包含:
    一基板,包括一显示区及一非显示区,该非显示区位于该显示区外侧;
    一第一导电层,位于该基板上;
    一半导体层,位于该基板上并部份覆盖该第一导电层;以及
    一第二导电层,形成于该半导体层的一顶面;
    其中,对应位于该非显示区中的该第二导电层的一侧边至其底层的该
    半导体层的相邻一侧边间隔一第五距离,对应位于该显示区中的该第二导
    电层的一侧边至其底层的该半导体层的相邻一侧边间隔一第六距离,且该
    第五距离大于该第六距离。
    11.如权利要求10所述的显示设备,其中,该半导体层具有一第一部
    分及一第二部分,该第一部分与该基板间夹设有该第一导电层,该第二部
    分与该基板间不夹设该第一导电层,位于该半导体层的第一部分上的该第
    二导电层侧边至该半导体层的一侧边间隔一第七距离,位于该半导体层的
    第二部分上的该第二导电层侧边至该半导体层的一侧边间隔一第八距离,
    且该第七距离大于该第八距离。
    12.如权利要求10所述的显示设备,其中,对应位于该显示区中的该
    第二导电层形成复数数据线且与该第一导电层、该半导体层配合构成复数
    薄膜晶体管结构,每一数据线具有一第一侧边与一第二侧边,该第一侧边
    与该第二侧边间隔相对,且部分该第一侧边与相对应的该些薄膜晶体管结
    构中的载子通道相邻;以及
    该第六距离为该第二侧边至该半导体层侧边的距离。
    13.如权利要求10所述的显示设备,其中,该第五距离为0.7um至
    2.0um。
    14.权利要求10所述的显示设备,其中,该第六距离为0.3um至1.5um。
    15.如权利要求11所述的显示设备,其中,该第七距离为1um至2um。
    16.如权利要求10所述的显示设备,其中,该第五距离与该第六距离
    的比值为1.2至1.6。
    17.如权利要求12所述的显示设备,其中,该些数据线的该第二侧
    边与其底层的该半导体层侧边轮廓形状相同。

    说明书

    显示设备

    技术领域

    本发明是关于一种显示设备,尤其指一种能够降低阻抗、并防止第一
    导电层和第二导电层间电性干扰的显示设备。

    背景技术

    随着显示器技术不断进步,所有的装置均朝体积小、厚度薄、重量轻
    等趋势发展,故目前市面上主流的显示器装置已由以往的阴极射线管发展
    成液晶显示设备。特别是,液晶显示设备可应用的领域相当多,举凡日常
    生活中使用的手机、笔记本电脑、摄影机、照相机、音乐播放器、行动导
    航装置、电视等显示设备,其显示面板多使用液晶显示面板。近年来,随
    着操作人性化、简洁化的发展趋势,带有触控面板的显示设备被越来越广
    泛地应用于生活中。

    薄膜晶体管液晶显示器(Thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay,
    TFT-LCD)是使用薄膜晶体管技术改善影像质量。简言之,TFT-LCD属于
    主动式矩阵LCD,TFT-LCD面板为两片玻璃基板中间夹设液晶层,上层
    为彩色滤光片基板、而下层为晶体管基板。当电流通过晶体管产生电场变
    化,造成液晶分子偏转,以改变光线的偏极性,再利用偏光片调整像素的
    明暗状态,再通过像素发出光线,构成影像画面。常见的TFT-LCD类型
    包含:扭转向列型(TN)、超级扭转向列型(STN)、垂直配向型(VA)、平面
    内切换型(IPS)、边缘电场切换型图样(FFS)等。

    现今液晶显示设备发展技术已渐趋成熟,而各家厂商仍致力于发展具
    有更高显示质量的显示设备,以满足消费者对显示质量的要求,因此,目
    前仍需发展一种提升显示质量的显示设备,期盼带给消费者更稳定的显示
    效果。

    发明内容

    本发明的目的是提供一种显示设备,以能降低阻抗、并防止第一导电
    层和第二导电层间电性干扰。

    为实现上述目的,本发明提供的显示设备,包含:一基板,包括一显
    示区及一非显示区,该非显示区位于该显示区外侧;一第一导电层,位于
    该基板上;一半导体层,位于该基板上并具有一第一部分及一第二部分,
    该第一部分与该基板间夹设有该第一导电层,该第二部分与该基板间不夹
    设该第一导电层;以及一第二导电层,迭置于该半导体层顶面且包括复数
    对应位于显示区中的数据线,该第一导电层、该半导体层与该第二导电层
    共同构成复数薄膜晶体管结构,其中每一数据线具有一第一侧边与一第二
    侧边,该第一侧边与该第二侧边间隔相对,且部分该第一侧边系与该至少
    一薄膜晶体管(TFT)结构中的载子通道(channel)相邻,其中,每一数据线的
    该第二侧边与其相邻近的该半导体层的第一部分侧边具有一第一距离,与
    其相邻近的该半导体层的第二部分侧边具有一第二距离,且该第一距离大
    于该第二距离。

    本发明提供的显示设备,还包含:一基板,包括一显示区及一非显示
    区,该非显示区位于该显示区外侧;一第一导电层,位于该基板上;一半
    导体层,位于该基板上并部份覆盖该第一导电层;以及一第二导电层,形
    成于该半导体层的顶面,其中,对应位于该非显示区中的该第二导电层的
    一侧边至该半导体层的相邻一侧边间隔一第五距离,对应位于该显示区中
    的该第二导电层的一侧边至该半导体层的相邻一侧边间隔一第六距离,且
    该第五距离大于该第六距离。

    据此,在本发明的显示设备中,由于显示区中,与基板间夹设有第一
    导电层的半导体层第一部分至相邻数据线的第二侧边的第一距离大于与
    基板间未夹设有第一导电层的半导体层第二部分至相邻数据线的第二侧
    边的第二距离,可确实避免第一导电层和第二导电层间的电性干扰,及避
    免无导电层存在的区域穿透率受到影响。并且,因对应位于非显示区中的
    第二导电层的一侧边至半导体层一相邻侧边的第五距离大于对应位于显
    示区中的第二导电层的一侧边至半导体层一相邻侧边的第六距离,可有效
    降低阻抗,并可避免寄生电容增加而影响液晶效率。

    附图说明

    图1是本发明一较佳实施例的显示设备示意图。

    图2A是本发明一较佳实施例的显示区像素结构示意图。

    图2B是图2A中a剖面线的剖视图。

    图2C是图2A中b剖面线的剖视图。

    图2D是图2A中c剖面线的剖视图。

    图3是本发明另一较佳实施例的显示区像素结构示意图。

    图4是本发明再一较佳实施例的显示区像素结构示意图。

    图5A是本发明一较佳实施例的非显示区像素结构示意图。

    图5B是图5A中d剖面线的剖视图。

    图5C是图5A中e剖面线的剖视图。

    图6是本发明又一较佳实施例的像素结构剖视图。

    图7是本发明再一较佳实施例的像素结构剖视图。

    附图中符号说明

    1第一导电层33第一接触边界

    2半导体层37,37’接触边界

    21第一部分35第二接触边界

    22第二部分4薄膜晶体管结构

    23轮廓侧边5基板

    3第二导电层51非显示区

    31数据线52显示区

    311第一侧边6绝缘层

    312第二侧边7载子通道

    32电极部100显示设备

    34,36,36’侧边

    具体实施方式

    以下是由特定的具体实施例说明本发明的实施方式,本领域技术人员
    可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明
    亦可由其他不同的具体实施例加以施行或应用,本说明书中的各项细节亦
    可针对不同观点与应用,在不悖离本发明的精神下进行各种修饰与变更。

    实施例1

    请参照图1,本发明提供一种显示设备100,包含一非显示区51及一
    显示区52,非显示区51位于显示区52外侧,其中显示区52的像素结构
    如图2所示,包括:一基板,包括对应的显示区52及非显示区51;一第
    一导电层1,位于该基板上;一绝缘层,位于该第一导电层1上且覆盖该
    第一导电层1;一半导体层2,位于该绝缘层上并具有一第一部分21及一
    第二部分22,该第一部分21与该基板间夹设有该第一导电层1,该第二
    部分22与该基板间不夹设该第一导电层1;以及一第二导电层3,迭置于
    该半导体层2顶面且包括复数对应位于显示区52中的数据线31和电极部
    32,每一数据线31具有一第一侧边311与一第二侧边312,该第一侧边
    311与该第二侧边312是间隔相对,该第一导电层1、该半导体层2与该
    第二导电层3共同构成复数薄膜晶体管(TFT)结构4,且部分该第一侧边
    311与至少一薄膜晶体管(TFT)结构4中的载子通道7相邻,该第二侧边
    312与该薄膜晶体管(TFT)结构4中的载子通道7不相邻,且该第二侧边
    312与该半导体层2的侧边轮廓23形状相同。

    请参照区域放大图,该些数据线31的该第二侧边312至该第一部分
    21的一相邻侧边间隔一第一距离,至该第二部分22的一相邻侧边间隔一
    第二距离,且第一距离大于第二距离。其中,a剖面线的剖视图如图2B
    所示,像素结构依序为:基板5、第一导电层1、绝缘层6、半导体层(在
    此剖面图中为第一部分21)、及第二导电层3。第二导电层3包含的该些数
    据线31的第二侧边312具有与半导体层2接触的一第一接触边界33,第
    一接触边界33至半导体层第一部分21的一相邻侧边间隔一第一距离D1,
    另外,b剖面线的剖视图如图2C所示,像素结构依序为:基板5、绝缘层
    6、半导体层(在此剖面图中为第二部分22)、及第二导电层3。第一接触边
    界33至半导体层第二部22的一相邻侧边间隔一第二距离D2,且第一距
    离D1大于第二距离D2。

    再者,请参照图2D,是图2A中c剖面线的剖视图,是对薄膜晶体管
    结构4作更详细的说明。像素结构依序为:基板5、第一导电层1(包含栅
    极(Gate))、绝缘层6、半导体层2(包含载子通道7)、及第二导电层3(包含
    分别由数据线31与电极部32构成的源极(Source)、漏极(Drain));其中第
    一侧边311即该数据线31靠近载子通道7的一侧,该第二侧边312即是
    与该第一侧边311间隔相对的另一侧。

    于此实施例中,第一距离D1为0.7um至1.5um,较佳为0.8um至
    1.1um;第二距离D2为0.3um至1.0um,较佳为0.5um至0.7um。该第
    一距离D1与该第二距离D2的比值较佳为1.3至1.7,而本发明并未受限
    于此;该第一距离D1、该第二距离D2主要是考虑该第二导电层3的宽度
    而加以变化。若该第一距离D1、该第二距离D2大于上述范围,则相邻半
    导体层2(即,相邻像素中的相邻半导体层2)在工艺上的可行性不高。并且,
    当该第一距离D1与该第二距离D2的比值介于上述范围内,可达到本发
    明装置的电性干扰屏蔽的效果与数据线阻值的限制。

    然而,本发明的显示区52像素结构并不受限于此,可为本领域中常
    见的结构,例如图3、图4所示的像素结构。在图3、图4中,结构特征
    皆与上述图2A相同;该些数据线31的该第二侧边312至该第一部分21
    的一侧边间隔一第一距离D1,至该第二部分22的一侧边间隔一第二距离
    D2,且第一距离D1大于第二距离D2。

    此外,非显示区51的像素结构如图5A所示,第二导电层3还可包括
    复数字于非显示区51的走线33,该些走线33的一侧边34至半导体层2
    第一部分21的一相邻侧边间隔一第三距离D3,至半导体层2第二部分22
    的一相邻侧边间隔一第四距离D4,且第三距离D3大于第四距离D4。其
    中,d剖面线的剖视图如图5B所示,像素结构依序为:基板5、第一导电
    层1、绝缘层6、半导体层2、及第二导电层3。第二导电层3包含的该些
    走线的侧边34具有与半导体层2接触的一第二接触边界35,第二接触边
    界35至半导体层第一部分21的一相邻侧边间隔一第三距离D3,另外,e
    剖面线的剖视图如图5C所示,像素结构依序为:基板5、绝缘层6、半导
    体层2、及第二导电层3。第二接触边界35至半导体层第二部分22的一
    相邻侧边间隔一第四距离D4,且第三距离D3大于第四距离D4。于此实
    施例中,第三距离可为1um至2um,较佳为1.4um至1.7um。

    也就是说,本发明由控制蚀刻工艺,使第一距离D1大于第二距离D2、
    或第三距离D3大于第四距离D4,这是因为当半导体层2和基板5间夹设
    有第一导电层1时,该第一导电层1与该第二导电层3会产生寄生电容,
    进而干扰该第二导电层3原有的电讯号传递,因此,缩减位于半导体层2
    上方的第二导电层3,以减少寄生电容;而当半导体层2和基板5间无夹
    设第一导电层1时,可改善背光源通过时光线散射的影响,因此尽量缩短
    第二距离D2的宽度,避免在交界处产生的散射影响对比度。

    更进一步来说,本实施例中以显示区52和非显示区51相比,非显示
    区51中第二接触边界35至半导体层第一部分21的该第三距离D3大于显
    示区52中的该些数据线31的第二侧边312至半导体层第二部分22的该
    第二距离D2;或者,该第三距离D3大于显示区52中的该些数据线31的
    第二侧边312至该第一部分21的该第一距离D1;但本发明并未受限于此。

    非显示区51中该第二导电层3的该些走线33为降低阻值,因此令该
    些走线33与其底层的半导体层2有较大的距离(即,第三距离D3较大),
    以提高导线有效宽度、降低阻值;因此,于本实施例中除在显示区52中
    令第一距离D1大于第二距离D2外,亦令非显示区51中的第三距离大于
    显示区52中的第一距离D1,使得整体显示设备的电性能有所改善。

    实施例2

    本发明另提供一种显示设备(与图1相同,包含非显示区51及显示区
    52,该非显示区51位于该显示区52外侧),其中像素结构的部分剖视图如
    图6所示,包含:一基板5,包括对应的显示区52及非显示区51;一第
    一导电层1,位于该基板5上;一绝缘层6,位于该第一导电层1上且覆
    盖该第一导电层1;一半导体层2,位于该基板5上并部份覆盖该第一导
    电层1;以及一第二导电层3,形成于该半导体层2的顶面,其中,该第
    二导电层的侧边36,36’分别具有与该半导体层接触的接触边界37,37’,在
    该非显示区51中的该接触边界37至该半导体层2的一相邻侧边间隔一第
    五距离D5,在该显示区52中的该接触边界37’至该半导体层2的一相邻
    侧边间隔一第六距离D6,且第五距离D5大于第六距离D6。

    在此实施例中,第二导电层3可包括复数对应位于该显示区52的数
    据线,每一数据线具有一第一侧边与一第二侧边,该第一侧边与该第二侧
    边系间隔相对,且位于该显示区52中部分该第一侧边与一薄膜晶体管
    (TFT)结构中的载子通道相邻,该第二侧边与该薄膜晶体管(TFT)结构中的
    载子通道不相邻,该第二侧边与该半导体层2的一轮廓侧边形状相同;以
    及该第六距离D6可为该第二侧边的该接触边界37’至该半导体层2的该相
    邻侧边的距离。

    于此实施例中,第五距离D5可为0.7um至2.0um;第六距离D6可为
    0.3um至1.5um。该第五距离D5与该第六距离D6的比值较佳为1.2至1.6,
    而本发明并未受限于此。

    其中,像素结构的另一部分剖视图如图7所示,该半导体层可具有一
    第一部分21及一第二部分22,该第一部分21与该基板5间夹设有该第一
    导电层1,该第二部分22与该基板5间不夹设该第一导电层1,且该接触
    边界37至该第一部分21的一相邻侧边间隔一第七距离D7,该接触边界
    37’至该第二部分22的一相邻侧边间隔一第八距离D8,且第七距离D7大
    于第八距离D8。于此实施例中,第七距离D7可为1um至2um。

    据此,为了降低阻抗,非显示区中第二导电层与半导体层的相邻侧边
    的距离需大于显示区中第二导电层与半导体层的相邻侧边的距离。并且,
    在显示区中,若半导体层与其上层的数据线的距离(即,第六距离D6)增加,
    会令半导体层与其下层的第一导电层的电容增加,进而导致液晶效率变
    差,为了避免寄生电容增加而影响液晶效率,较佳的,在非显示区中的第
    七距离D7同时大于显示区中的第六距离D6与第八距离D8。

    本发明的显示设备,皆可由本技术领域常见的方法制备完成,于此不
    再赘述。第一导电层1、第二导电层2的材料可使用本技术领域常用的导
    电材料,如金属、合金、金属氧化物、金属氮氧化物、或其他本技术领域
    常用的电极材料;且较佳为金属材料。基板可使用本技术领域常用的基板,
    如玻璃基板、塑料基板、硅基板及陶瓷基板等。绝缘层的材料,则可采用
    本技术领域常用的栅极绝缘层材料,如氮化硅(SiN);而半导体层,亦可采
    用本技术领域常用的半导体层材料,包括:非晶硅、多晶硅、如P13、DH4T、
    五苯环的有机材料等;然而,本发明并不仅限于此。

    在上述实施例中,本领域技术人员均了解:省略绘示显示设备中的其
    他组件,例如:上述实施例的像素结构更可与彩色滤光片基板、液晶层、
    背光模块等组合形成液晶显示设备。本发明的显示设备可为各种平面显示
    器,例如可为液晶显示器(LCD)、或有机发光二极管显示器(OLED);实际
    应用例如:车用显示器、隔离电磁波玻璃、手机、太阳能电池、携带式液
    晶电玩、家电用品液晶面板、仪器用显示器、有机发光二极管显示器、液
    晶显示器、笔记本电脑、液晶电视、等离子体显示器、彩色滤镜用电极或
    以上的组合等。

    上述实施例仅为了方便说明而举例而已,本发明所主张的权利范围自
    应以申请的权利要求范围所述为准,而非仅限于上述实施例。

    关 键  词:
    显示 设备
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