核辐射屏蔽装置以及核辐射屏蔽方法技术领域
本发明涉及核辐射屏蔽技术领域，具体而言，尤其涉及一种核辐射屏蔽
装置，以及核辐射屏蔽方法。
背景技术
核辐射主要指α射线、β射线、γ射线和中子以能量形式传播，来源于
放射源、自然环境和宇宙射线等。在加速器实验，工业，放射医疗中都涉及
放射源的使用，必须通过有效的屏蔽手段减小辐射对人体的伤害。
现有技术中，多数的屏蔽材料中都含铅，因为对放射性射线的防护主要
是对穿透能力强的γ射线的屏蔽防护，γ射线是一种比紫外线波长短得多的
电磁波，通常由重核裂变、裂变产物衰变、辐射俘获、非弹性散射、活化产
物衰变产生。γ光子不带电，与物质相互作用机制不同于带电粒子，主要以
光电效应、康普顿效应和电子对效应为主，与物质发生一次相互作用会导致
其损失大部分或全部能量。而铅是目前已知防护材料中除金外对于γ射线的
吸收系数最强的材料，考虑到铅比金的成本低得多，在生产过程中便于加工
的因素，通常选用铅作为防辐射的基本防护材料，比如铅玻璃、铅板、铅砖
等。
现有的防辐射做法一般为，根据实际的需要，考虑到铅的密度很大，将
铅熔铸成所需屏蔽结构，或和砖块尺寸相仿的铅砖，再用这些固定尺寸的铅
砖搭建出所需的辐射屏蔽结构，比如方形的屏蔽墙，这样的结构比较规整。
现有的块状屏蔽材料都有一个共同缺点，那就是不具有可塑性，由于其
结构固定，所能构造出的屏蔽结构也相对单一，比如铅砖只能构建规整的矩
形立方体结构，矩形立方体结构的边角位置造成了材料的浪费。并且现有屏
蔽材料或屏蔽装置无法搭建弧形结构，不能对放射源部分进行致密包裹屏蔽，
且铅块的重量较大，对运输也造成一定影响。
发明内容
本发明的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一
种体积较小且屏蔽效果较好的和辐射屏蔽装置。
本发明的另一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供
一种节省材料且保证屏蔽效果的核辐射屏蔽方法。
为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
根据本发明的一个方面，提供一种核辐射屏蔽装置，用于屏蔽一放射源
设备，其中，所述核辐射屏蔽装置包括屏蔽容器以及多个屏蔽颗粒；所述屏
蔽容器包罩于所述放射源设备外，所述屏蔽容器与所述放射源设备之间形成
屏蔽空间；所述多个屏蔽颗粒填充于所述屏蔽容器与所述放射源设备之间，
而充满所述屏蔽空间，所述屏蔽颗粒的材质为核辐射屏蔽材料。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽容器包括开口以及启闭件；
所述开口开设于所述屏蔽容器下部，或者底部，用于将所述屏蔽空间中填充
的所述屏蔽颗粒排出；所述启闭件设于所述开口，用于控制所述开口的启闭。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽颗粒的材质为能够吸收γ射
线的核辐射屏蔽材料。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽颗粒的材质为铅或钨铜合金。
根据本发明的另一个方面，提供一种核辐射屏蔽装置，用于屏蔽一放射
源设备，所述放射源设备放置于一设备平台上，其中，所述核辐射屏蔽装置
包括屏蔽壳体以及多个屏蔽颗粒；所述屏蔽壳体包罩于所述放射源设备外，
所述屏蔽容器、所述放射源设备与所述设备平台之间形成屏蔽空间；所述多
个屏蔽颗粒填充于所述屏蔽容器与所述放射源设备之间，而充满所述屏蔽空
间，所述屏蔽颗粒的材质为核辐射屏蔽材料。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽容器包括开口以及启闭件；
所述开口开设于所述屏蔽容器下部，用于将所述屏蔽空间中填充的所述屏蔽
颗粒排出；所述启闭件设于所述开口，用于控制所述开口的启闭。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽颗粒的材质为能够吸收γ射
线的核辐射屏蔽材料。
根据本发明的其中一个实施方式，所述屏蔽颗粒的材质为铅或钨铜合金。
根据本发明的又一个方面，提供一种核辐射屏蔽方法，用于在一放射源
设备外部形成屏蔽，其中，所述屏蔽方法包括以下步骤：
设置屏蔽容器，设置一屏蔽容器，并将所述放射源设备设置于所述屏蔽
容器内，使所述屏蔽容器与所述放射源设备之间形成屏蔽空间；
设置屏蔽颗粒，利用核辐射屏蔽材料制造多个屏蔽颗粒，并根据所需的
屏蔽效率，确定所述屏蔽颗粒的半径；以及
填充屏蔽颗粒，将多个所述屏蔽颗粒填充至所述屏蔽容器与所述放射源
设备之间，而填满所述屏蔽空间。
根据本发明的其中一个实施方式，所述核辐射屏蔽方法还包括以下步骤：
设置开口，于所述屏蔽容器的下部或者底部开设至少一个开口；以及
设置启闭件，于每个所述开口处设置一个启闭件，以分别控制各所述开
口的启闭。
由上述技术方案可知，本发明提出的核辐射屏蔽装置以及核辐射屏蔽方
法的优点和积极效果在于：
本发明提出的核辐射屏蔽装置，其屏蔽容器能够根据所包罩的放射源设
备的形状灵活选择对应的形状，从而缩小了屏蔽装置的体积，也避免了材料
的浪费。通过将多个屏蔽颗粒填充入屏蔽容器与放射源设备之间的屏蔽空间
中，使得屏蔽空间中形成较为致密的屏蔽层，从而在缩小屏蔽装置体积的基
础上，能够保证较佳的屏蔽效果。
本发明提出的核辐射屏蔽方法，通过设置屏蔽容器，使得该屏蔽方法能
够对任意结构的放射源设备进行屏蔽。在屏蔽容器与放射源设备之间填充多
个屏蔽颗粒而形成致密的屏蔽层，相比于例如铅砖的屏蔽结构，屏蔽颗粒更
加便于加工和运输，且屏蔽颗粒可以选择各种形状，丰富了屏蔽颗粒的结构
选择。
附图说明
通过结合附图考虑以下对本发明的优选实施方式的详细说明，本发明的
各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本发明的示范性图解，
并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的
部件。其中：
图1是本发明提出的核辐射屏蔽装置的屏蔽颗粒辐射吸收剖面原理图；
图2是本发明提出的核辐射屏蔽装置的屏蔽颗粒的半径与吸收厚度的关
系示意图；
图3是本发明提出的核辐射屏蔽装置的屏蔽颗粒的半径与填充列数的关
系示意图；
图4是一种现有的低本底反康普顿HPGeγ谱仪的剖视图；
图5是根据一示例性实施方式示出的核辐射屏蔽装置的立体透视图；
图6是根据一示例性实施方式示出的核辐射屏蔽装置的平面透视图。
其中，附图标记说明如下：
100.低本底反康普顿HPGeγ谱仪；110.N型高纯锗探测器；120.环形探
测器；130.堵头探测器；141.钢屏蔽结构；142.钢屏蔽结构；143.钢屏蔽结构；
144.钢屏蔽结构；150.钢屏蔽环；161.铅屏蔽结构；162.铅屏蔽结构；200.屏
蔽容器；210.上部；220.下部；301.第一颗粒；302.第二颗粒；303.第三颗粒；
400.铅块。
具体实施方式
体现本发明特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理
解的是本发明能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本发明的
范围，且其中的说明及附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本发明。
在对本发明的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，所述
附图形成本发明的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本发明的多个
方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解，可以使用部件、结构、示例
性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本发明范围的情况下
进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“下部”、“之
间”、等来描述本发明的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中
仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都
不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本发明的范围内。
核辐射屏蔽装置实施方式一
参阅图1至图3，图1中代表性地示出了能够体现本发明的原理的核辐
射屏蔽装置的屏蔽颗粒辐射吸收剖面原理图；图2中代表性地示出了能够体
现本发明的原理的核辐射屏蔽装置的屏蔽颗粒的半径与吸收厚度的关系示意
图；图3中代表性地示出了能够体现本发明的原理的核辐射屏蔽装置的屏蔽
颗粒的半径与填充列数的关系示意图。在该示例性实施方式中，本发明提出
的核辐射屏蔽装置是以屏蔽于正电子源系统为例进行说明的。本领域技术人
员容易理解的是，为将本发明提出的核辐射屏蔽装置应用于对其他放射源设
备进行屏蔽，而对下述的具体实施方式做出多种改型、添加、替代、删除或
其他变化，这些变化仍在本发明提出的核辐射屏蔽装置的原理的范围内。
上述正电子源系统具体可以例如为正电子束流的放射源22Na，放射源
22Na衰变产生正电子，同时伴生出1.28MeV伽马射线。伽马射线是放射源的
副产物，其剂量超过人体的安全范围，对实验人员生命威胁，此外，正电子
谱学技术是通过探测正电子在材料中湮没产生的伽马射线来实现的，由于
1.28MeV伽马射线存在，被γ探测器探测到，会增加实验结果的本底，严
重实验测量结果的准确性与精确性，因此，十分有必要对22Na放射产生的
伽马进行屏蔽。
如图所示，表示上述正电子源系统的内部结构，其主要包括赫姆霍兹线
圈、放射源管道和放射源固定装置等不规则的形状，而放射源处于这样的异
型结构中，如采用现有例如铅块400的屏蔽结构，则导致多个屏蔽材料的浪
费，或无法达到良好的屏蔽效果。利用本发明提出的核辐射屏蔽装置，则可
以以较少的材料实现较佳的屏蔽效果，具体参见以下描述。
如图所示，在本实施方式中，本发明提出的核辐射屏蔽装置，可以用于
屏蔽一放射源设备，例如本实施方式中的正电子源系统。其中，该核辐射屏
蔽装置主要包括屏蔽容器200以及多个屏蔽颗粒。以下结合附图，对本发明
提出的核辐射屏蔽装置的各主要结构进行详细说明。
如图所示，在本实施方式中，屏蔽容器200呈一圆柱筒型，或称一圆桶
型。具体而言，可以放射源设备的中心为屏蔽容器200的圆心，将所有的结
构用屏蔽容器200密封。该屏蔽容器200可大致分为环绕于正电子源系统外
周的侧板(截面呈例如圆形的封闭形状)以及盖设于侧板上的顶板，屏蔽容
器200与正电子源系统之间形成屏蔽空间。圆柱筒型的屏蔽容器200的内壁
到放射源设备的距离即是形成的屏蔽层的厚度，该厚度决定了吸收伽马射线
的强度，圆柱筒型的屏蔽容器200的尺寸可根据屏蔽要求设计调整，而加工
该屏蔽容器200与现有技术中对铅的熔铸加工更加简单。
需要说明的是，由于正电子源系统通常设置在一系统平台上，因此本实
施方式中的屏蔽容器200采用以上描述的结构即可实现屏蔽作用。同时可以
引申至其他类似的设置在一设备平台上的放射源设备。另外，屏蔽容器200
可根据正电子源系统的外形采用对应的形状，并与正电子源系统之间形成屏
蔽空间，从而节省屏蔽容器200及屏蔽颗粒的材料。本领域技术人员容易理
解的是，为将本发明提出的核辐射屏蔽装置应用于对其他放射源设备进行屏
蔽，而对上述屏蔽容器200的结构做出多种改型、添加、替代、删除或其他
变化，这些变化仍在本发明提出的核辐射屏蔽装置的原理的范围内。例如，
在本发明的另一示例性实施方式中，当放射源设备独立设置而不具有设备平
台时，可将屏蔽容器200设计为罐体的结构，即具有侧板、顶板以及底板，
并将放射源设备设置于底板上。
在本实施方式中，多个屏蔽颗粒填充于屏蔽容器200与正电子源系统之
间，而充满上述屏蔽空间，且屏蔽颗粒的材质优选为为铅或钨铜合金。另外，
屏蔽颗粒的形状优选为球体，也可以选择立方体等规则形状，亦可选择其他
不规则形状，并不以此为限。本领域技术人员容易理解的是，为将多个屏蔽
颗粒填充并充满于屏蔽空间内，而对上述屏蔽颗粒的材质、形状、数量或尺
寸做出多种改型、添加、替代、删除或其他变化，这些变化仍在本发明提出
的核辐射屏蔽装置的原理的范围内。例如，在本发明提出的核辐射屏蔽装置
的其他实施方式中，屏蔽颗粒的材质可以选择不限于铅或钨铜合金的其他能
够吸收γ射线的核辐射屏蔽材料，或者，根据放射源设备的辐射类型，还可
以将屏蔽颗粒的材质选择为能够吸收其他类型射线或辐射的核辐射屏蔽材
料。
另外，当屏蔽空间充满屏蔽颗粒时，由于屏蔽颗粒之间存在空隙，所以
存在一定的占空比，该占空比决定了核辐射屏蔽装置的辐射吸收效率，因此
屏蔽颗粒的尺寸大小与屏蔽的效果密切相关。对于屏蔽颗粒的尺寸选择，将
在下述的实施方式中具体说明，在此不予赘述。
在此应注意，附图中示出而且在本说明书中描述的核辐射屏蔽装置仅仅
是能够采用本发明原理的许多种核辐射屏蔽装置中的一个示例。应当清楚地
理解，本发明的原理绝非仅限于附图中示出或本说明书中描述的核辐射屏蔽
装置的任何细节或核辐射屏蔽装置的任何部件。
举例来说，并非为了符合本发明的原理，在本实施方式中，屏蔽容器200
包括至少一个开口以及可启闭地封闭上述开口的启闭件(图未示出)，其中，
开口开设于屏蔽容器200下部，或者底部(屏蔽容器200具有底板时)，用
于将屏蔽空间中填充的屏蔽颗粒排出。启闭件设于开口，用于控制开口的启
闭。当正电子源系统需要搬移或者对内部进行检修时，可以十分便捷将屏蔽
颗粒排出并进行搬移或检修操作，减少额外的操作负担。
然而，并非在本发明的每一个实施方式中，都必须设置上述开口和启闭
件。本领域技术人员容易理解的是，为将屏蔽颗粒由屏蔽空间排出，而对上
述开口或启闭件的结构或屏蔽容器200的结构做出多种改型、添加、替代、
删除或其他变化，这些变化仍在本发明提出的核辐射屏蔽装置的原理的范围
内。例如，在本发明的提出的核辐射屏蔽装置的其他实施方式中，以类似于
本实施方式的屏蔽容器200的结构为例，可将屏蔽容器200的顶板设计为可
启闭地设置在侧板上的结构，而通过打开顶板即可实现将屏蔽空间内的屏蔽
颗粒取出的目的。
另外，由于部分放射源设备具有与其他设备连接的管线结构，可根据其
分布情况对应地在屏蔽容器200上开设供这些管线结构穿过的通孔或管道。
由于上述管线结构通常具有屏蔽特性，因此不会破坏核辐射屏蔽装置的屏蔽
效果。
综上所述，本发明提出的核辐射屏蔽装置，其屏蔽容器200能够根据所
包罩的放射源设备的形状灵活选择对应的形状，从而缩小了屏蔽装置的体积，
也避免了材料的浪费。通过将多个屏蔽颗粒填充入屏蔽容器200与放射源设
备之间的屏蔽空间中，使得屏蔽空间中形成较为致密的屏蔽层，从而在缩小
屏蔽装置体积的基础上，能够保证较佳的屏蔽效果。
核辐射屏蔽装置实施方式二
参考图4至图6，图4中代表性地示出了一种现有的低本底反康普顿
HPGeγ谱仪100的剖视图；图5代表性地示出了能够体现本发明的原理的核
辐射屏蔽装置的立体透视图；图6代表性地示出了能够体现本发明的原理的
核辐射屏蔽装置的平面透视图。以下结合附图对本发明提出的核辐射屏蔽装
置的另一示例性实施方式进行详细说明。
如图4至图6所示，低本底反康普顿HPGeγ谱仪100在核环境监测、放
射性生物学和核医学领域有广泛应用，多数情况下测量样品的比活度低于
40Bq/kg，这一数值与周围环境土壤中微量天然放射性核素的比活度为同一数
量级。这种情况下，需要降低系统的本底，包括来自宇宙射线和环境本底和
康普顿效应带来的本底，低本底反康普顿HPGeγ谱仪100就是用于解决这一
问题。低本底反康普顿HPGeγ谱仪100由N型高纯锗探测器110(主探测器)、
环形探测器120、堵头探测器130、谱学电子学系统、复合屏蔽室等部分组成。
如图所示，其工作原理为，堵头探测器130与主探测器构成符合或反符合工
作方式，降低康普顿效应带来的本底，主探测器再加上环形反符合，则构成
阱型反符合工作方式，进一步压低本底和抑制康普顿散射。现有低本底反康
普顿HPGeγ谱仪100的屏蔽层一般是由钢-铅-钢构成的复合屏蔽室，具体而
言，上述复合屏蔽室结构大致包括多个钢屏蔽结构141,142,143,144和多个铅
屏蔽结构161,162以及例如钢屏蔽环150的其他屏蔽结构，用于屏蔽宇宙线
和周围环境的天然辐射。对应于上述复合屏蔽室的结构，加工一个和该复合
屏蔽室结构一致的具有复合结构的屏蔽容器200，然后使用屏蔽颗粒(包括
例如铅颗粒和钢颗粒)填充满屏蔽容器200与低本底反康普顿HPGeγ谱仪
100之间的屏蔽空间，即形成一个复合屏蔽装置，操作简单易行。其中，如
图4所示，由于该低本底反康普顿HPGeγ谱仪100具有环形探测器120、主
探测器以及堵头探测器130，环形探测器120中部形成有通道，以供主探测
器由其底部伸入通道，且堵头探测器130堵塞于通道的上端开口处，并向下
伸入通道。基于上述结构，对应地调整核辐射屏蔽装置的屏蔽容器200，而
可以设计为具有上下两部分的结构的复合容器，分别包括上部210和下部
220。
核辐射屏蔽方法实施方式
以下结合图1至图3，对本发明提出的核辐射屏蔽方法的一示例性实施
方式进行详细说明。
在本实施方式中，本发明提出的核辐射屏蔽方法可以用于在一放射源设
备外部形成屏蔽，该核辐射屏蔽方法主要包括以下步骤：
设置屏蔽容器200，设置一屏蔽容器200，并将放射源设备设置于屏蔽容
器200内，使屏蔽容器200与放射源设备之间形成屏蔽空间；
设置屏蔽颗粒，利用核辐射屏蔽材料制造多个屏蔽颗粒，并根据所需的
屏蔽效率，确定屏蔽颗粒的半径；
填充屏蔽颗粒，将多个屏蔽颗粒填充至屏蔽容器200与放射源设备之间，
而填满屏蔽空间。
其中，在设置屏蔽颗粒的步骤中，原则上屏蔽颗粒的体积越小，屏蔽辐
射的效果越好，但加工难度也随之增大，且多个屏蔽颗粒填充入屏蔽空间后
的流动性也随之变差，因此在实际加工过程中应权衡使用条件做出合理选择。
其中，图1中的各I0为辐射射线未经过现有屏蔽体(铅块400)或屏蔽
颗粒时的初始辐射剂量，I为辐射射线经过现有屏蔽体(铅块400)吸收后的
辐射剂量，各Imin为辐射射线经过不同直径或排列方式的屏蔽颗粒吸收后的
最小辐射剂量，各Imax为辐射射线经过不同直径或排列方式的屏蔽颗粒吸收
后的最大辐射剂量。辐射射线在屏蔽体内的剂量减弱规律为I＝I0e-μx，其中μ
为射线的线性减弱系数，其值与射线种类，射线能量和屏蔽体物质构成有关，
x为射线在屏蔽体内穿过的距离(吸收厚度)，1-e-μx即是屏蔽效率。基于
上述事实方式，当采用例如铅作为单一物质吸收特定能量的射线，μ是固定
值，因此，其x越大屏蔽效果越好。
以方形屏蔽体比较进行说明，厚度均为L的屏蔽体由均匀铅块400和半
径为R的球形铅颗粒填充，由铅块400填充的屏蔽体其对辐射的吸收厚度为
L，由球形铅颗粒填充的屏蔽体其对辐射的吸收厚度不统一，与填充的铅颗
粒数量和半径R有关。假定L＝100mm，若填充的铅颗粒为图中紧凑型排布，
列数n为整数，则R与n之间的关系见图3曲线，x与n的关系为：
x＝(n-1)R～30.5nR，此时n为奇数，或x＝nR～30.5nR，此时n为偶数。因此，对
于铅颗粒(即屏蔽颗粒)，其吸收厚度不固定，存在一个范围，其平均吸收
厚度可参见图2。将上述计算公式应用于图1的铅块400和三种不同半径的
屏蔽颗粒(第一颗粒301，第二颗粒302和第三颗粒303)中，可以计算出铅
块400的吸收厚度为L(铅块400)，第一颗粒301的吸收厚度范围为2R～2
×30.5R，第二颗粒302的吸收厚度范围为4R～4×30.5R，第三颗粒303的吸收
厚度范围为4R～5×30.5R，其中R的取值分别为由上至下各屏蔽颗粒的半径。
因此，可以看出，根据所需的屏蔽效率而确定屏蔽颗粒的半径，可以优选采
用上述公式进行计算对比。并且，在选用尺寸不大于现有铅块400厚度的屏
蔽颗粒时，通过对屏蔽颗粒半径的设计，能够得到大于现有铅块400的屏蔽
厚度，从而通过上述方法提高核辐射屏蔽装置的屏蔽效果。
在此应注意，在本说明书中描述的核辐射屏蔽方法仅仅是能够采用本发
明原理的许多种核辐射屏蔽方法中的一个示例。应当清楚地理解，本发明的
原理绝非仅限于附图中示出或本说明书中描述的核辐射屏蔽方法的任何细节
或核辐射屏蔽方法的任何部件。
举例来说，并非为了符合本发明的原理，在本实施方式中，本发明提出
的核辐射屏蔽方法还包括以下步骤：
设置开口，于屏蔽容器200的下部或者底部开设至少一个开口；
设置启闭件，于每个开口处设置一个启闭件，以分别控制各开口的启闭。
其中，上述设置开口和设置启闭件的步骤主要用于实现屏蔽颗粒的排出，
基于上述关于核辐射屏蔽装置的实施方式的说明，以上步骤亦可由其他步骤
替换或删除，在此不予赘述。
综上所述，本发明提出的核辐射屏蔽方法，通过设置屏蔽容器200，使
得该屏蔽方法能够对任意结构的放射源设备进行屏蔽。在屏蔽容器200与放
射源设备之间填充多个屏蔽颗粒而形成致密的屏蔽层，相比于例如铅块400
的屏蔽结构，屏蔽颗粒更加便于加工和运输，且屏蔽颗粒可以选择各种形状，
丰富了屏蔽颗粒的结构选择。
以上详细地描述和/或图示了本发明提出的核辐射屏蔽装置以及核辐射
屏蔽方法的示例性实施方式。但本发明的实施方式不限于这里所描述的特定
实施方式，相反，每个实施方式的组成部分和/或步骤可与这里所描述的其它
组成部分和/或步骤独立和分开使用。一个实施方式的每个组成部分和/或每
个步骤也可与其它实施方式的其它组成部分和/或步骤结合使用。在介绍这里
所描述和/或图示的要素/组成部分/等时，用语“一个”、“一”和“上述”
等用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等。术语“包含”、“包括”和
“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成
部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
虽然已根据不同的特定实施例对本发明提出的核辐射屏蔽装置以及核辐
射屏蔽方法进行了描述，但本领域技术人员将会认识到可在权利要求的精神
和范围内对本发明的实施进行改动。