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1、(10)申请公布号 CN 103765172 A (43)申请公布日 2014.04.30 CN 103765172 A (21)申请号 201280037663.X (22)申请日 2012.06.29 1111211.7 2011.07.01 GB G01F 23/288(2006.01) (71)申请人 庄信万丰股份有限公司 地址 英国伦敦 (72)发明人 ER桑切斯加利西亚 K詹姆斯 SJ洛 (74)专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专 利商标事务所 11038 代理人 罗银燕 (54) 发明名称 液位测量方法和装置 (57) 摘要 本发明涉及一种用于确定容器中的诸如填充 液位的相界。
2、的位置的方法和装置。该方法包括 以下步骤 : 提供至少一个能够发射通过容器的内 部的一部分的辐射的辐射源 ; 提供多个辐射检测 器, 每个检测器能够在一部分所述测量范围内检 测由源所发射的辐射 ; 以及提供用于从由检测器 所检测的辐射量来计算相界的位置的数据处理设 备, 其特征在于, 所述数据处理设备是从由检测器 通过以下步骤所检测的辐射量来计算相界的位置 的 : (i) 在第一步骤中, 确定相界所位于的检测器 级, 以及然后, (ii) 在第二步骤中, 确定在 (i) 中 所确定的检测器级内的相界的位置。 (30)优先权数据 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2014.01.27 (86。
3、)PCT国际申请的申请数据 PCT/GB2012/051530 2012.06.29 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2013/005011 EN 2013.01.10 (51)Int.Cl. 权利要求书 3 页 说明书 7 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书7页 附图1页 (10)申请公布号 CN 103765172 A CN 103765172 A 1/3 页 2 1. 一种确定容器内两个材料相之间的边界的测量范围内的位置的方法, 每个相具有不 同的辐射衰减特性, 所述方法包括以下步骤 : a) 提供至少一个能够发射通。
4、过容器的内部的一部分的辐射的辐射源, b) 提供多个辐射检测器, 每个检测器能够在一部分所述测量范围内检测由源所发射的 辐射, c) 提供用于从由检测器所检测的辐射量来计算相界的位置的数据处理设备 ; 其特征在于, 所述数据处理设备是从由检测器通过以下步骤所检测的辐射量来计算相 界的位置的 : (i) 在第一步骤中, 确定相界所位于的检测器级, 以及然后 (ii) 在第二步骤中, 确定在 (i) 中所确定的检测器级内的相界的位置。 2. 根据权利要求 1 所述的方法, 其中, 所述材料相包括液相和气相。 3. 根据权利要求 1 所述的方法, 其中, 所述材料相包括具有不同密度的两种液体。 4.。
5、 根据前述权利要求中的任意一项的方法, 其中, 在步骤 (i) 中, 将由每个检测器在方 法的正常操作期间测量产生的平滑的计数率与由相同的检测器在它恰好被更密的相覆盖 时以及在它未被覆盖时所产生的计数率相比较。 5. 根据权利要求 4 所述的方法, 其中, 在步骤 (i) 中, 在两个相邻的检测器级中进行所 述比较。 6. 根据权利要求 5 所述的方法, 其中, 通过使用包括以下步骤的方法来执行步骤 (i) : a) 对于每个检测器 n, 获取当前平滑和衰变校正的计数率 Qn, 其中, n 从 1 到 N 变化, N 是检测器的数量, b) 对于所有的 n 个级, 计算 : 其中, Qnf是密。
6、相恰好覆盖第 n 级时的平滑的计数率, Tc是时间常数, X 是范围为 0 5 的数, 其依赖于系统的精度和响应时间而被选择, c) 从最低的级 (n 1) 开始, 确立是否 : ( 算法 A) d) 如果算法 A 不被满足, 那么增加 n 直到达到最低的级 p, 其中, 算法 A 被满足以侦得 : e) 确定相界舍在检测器级 p 中。 7. 根据权利要求 5 所述的方法, 其中, 通过使用包括以下步骤的方法来执行步骤 (i) : a) 对于每个检测器 n, 获取当前平滑和衰变校正的计数率 Qn, 其中, n 从 1 到 N 变化, N 是检测器的数量, b) 对于所有的 n 个级, 计算 :。
7、 权 利 要 求 书 CN 103765172 A 2 2/3 页 3 其中, Qnf是密相恰好覆盖第 n 级时的平滑的计数率, Tc是时间常数, X 是范围为 0 5 的数, 其依赖于系统的精度和响应时间而被选择, c) 从最低的级 (n 1) 开始, 确立是否 : 和 ( 算法 B) d) 如果算法 B 不被满足, 那么增加 n 直到达到最低的级 p, 其中, 算法 B 被满足以使得 : 和 e) 确定相界舍在检测器级 p 中。 8. 根据权利要求 6 或 7 所述的方法, 其中, X 0。 9. 根据前述权利要求中的任意一项的方法, 其中, 所述步骤 (ii) 是通过包括将由检测 器在方。
8、法的正常操作期间测量检测的计数率与当检测器级恰好被覆盖时的计数率进行比 较的方法来执行的。 10. 根据权利要求 9 所述的方法, 其中, 在步骤 (i) 中所确定的含有相界的检测器级 p 内的相界的位置是通过求解算法 C 来确定的 : * 检测器级 p 的长度 ( 算法 C) 其中 : h 检测器级 p 的底部之上的相界的高度, Qpe是当密相在检测器级 p 之下时的计数率, Qp是检测器级 p 中的当前平滑和衰变校正的计数率, Qpf是当密相恰好覆盖检测器级 p 时的计数率。 11. 根据权利要求 9 所述的方法, 其中, 所述测量范围内的相界的液位为检测器级 p 内 的相界的液位与检测器。
9、级 p 之下的测量范围的长度之和, 该方法提供将由于计数率中自然 的、 统计上可预测的波动所产生的误差最小化的手段, 并因此相对于现有技术的等同的传 统仪器提供增强的精度。 12. 根据前述权利要求中的任意一项的方法, 进一步包括校准步骤, 在该校准步骤中, 当容器仅含有较低密度的相时对于每个检测器 n 测量每个检测器级上的计数率 Qne, 当形成 相界的更密的相恰好覆盖检测器级 n 时对于每个检测器 n 测量每个检测器级上的计数率 Qnf。 13. 根据权利要求 1-12 中的任意一项的方法, 其中, 通过计算获得 Qne和 Qnf。 14. 根据前述权利要求中的任意一项的方法, 进一步包括。
10、第三步骤, 在该第三步骤中, a)容器的壁上的密相的沉积、 或者b)相位密度的变化、 或者c)容器内泡沫的存在对计数率 的影响被应用到步骤 (i) 和 (ii) 中的计算。 15. 根据权利要求 14 所述的方法, 其中, 所述第三步骤包括 : 对于被计算含有相界的检 测器级的液位之上的所有检测器级, 将校准计数率 Qne重置为当前测量的计数率 Qn。 16. 根据前述权利要求中的任意一项的方法, 其中, 在方法的正常操作期间所测量的 Qn和当容器为空时所测量的初始值 Qne之间的差被用于计算存在于容器壁上的沉积物的特 权 利 要 求 书 CN 103765172 A 3 3/3 页 4 性。。
11、 17. 一种用于测量容器内两个相之间的边界的测量范围内的位置的装置, 每个相具有 不同的辐射衰减特性, 所述装置包括 : 至少一个辐射源, 其能够发射通过容器的内部的一部分的辐射, 多个辐射检测器, 每个检测器能够在部分所述测量范围内检测由源所发射的辐射, 数据处理设备, 其用于从由检测器所检测的辐射量来计算相界的位置 ; 其特征在于, 所述数据处理设备被编程以从由检测器通过以下步骤所检测的辐射量来 计算相界的位置 : (i) 在第一步骤中, 确定相界所位于的检测器级, 以及然后 (ii) 在第二步骤中, 确定在 (i) 中所确定的检测器级内的相界的位置。 18. 根据权利要求 17 所述的。
12、装置, 其中, 所述数据处理设备被编程以根据权利要求 1-16 中的任意一项的方法执行计算以定位所述边界。 权 利 要 求 书 CN 103765172 A 4 1/7 页 5 液位测量方法和装置 0001 本发明涉及一种用于测量器皿或容器内的容物的液位 (level) 的方法以及适于 在执行本发明方法中有用的装置。特别地, 该方法是一种通过测量由辐射 (radiation) 源 发射并在其穿过可存在容物的器皿的一部分之后被辐射检测器检测的辐射来测量器皿内 特别是液体的液位的方法。 0002 通过辐射的手段测量器皿中的液位是公知的, 并且已广泛应用了多年。例如, US-A-3654458 描述。
13、了通过使用电离辐射源和多个检测器来检测和控制海底容器中的液位。 0003 存在对于提供优于现有技术的装置和方法的优势的改进的液位测量系统的需求。 0004 根据本发明, 我们提供一种确定容器内两个相(phase)之间的边界(boundary)的 测量范围内的位置的方法, 每个相具有不同的辐射衰减特性, 所述方法包括以下步骤 : 0005 (a) 提供至少一个能够发射通过容器的内部的一部分的辐射的辐射源, 0006 (b) 提供多个辐射检测器, 每个检测器能够在一部分所述测量范围内检测由源所 发射的辐射, 0007 (c) 提供用于从由检测器所检测的辐射量来计算相界的位置的数据处理设备 ; 00。
14、08 其特征在于, 所述数据处理设备是从由检测器通过以下步骤所检测的辐射量来计 算相界的位置的 : 0009 (i) 确定相界所位于的检测器级, 以及然后 0010 (ii) 确定在 (i) 中所确定的检测器级内的相界的位置。 0011 当沉积物 (deposit) 在容器壁上聚集时, 当压力变化时, 或者当泡沫在液体上方 的蒸汽空间中产生时, 该方法精确地确定相界 (phase boundary) 位置。即使当没有泡沫或 者沉积物存在时, 该方法也相对于现有技术的传统液位或界面测量系统提供改善的精度。 0012 根据本发明的进一步方面, 我们提供一种用于测量容器内两个相之间的边界的测 量范围。
15、内的位置的装置, 每个相具有不同的辐射衰减特性, 包括以下步骤 : 0013 (a) 提供至少一个能够发射通过容器的内部的一部分的辐射的辐射源, 0014 (b) 提供多个辐射检测器, 每个检测器能够在一部分所述测量范围内检测由源所 发射的辐射, 0015 (c) 提供用于从由检测器所检测的辐射量来计算相界的位置的数据处理设备 ; 0016 其特征在于, 所述数据处理设备是从由检测器通过以下步骤所检测的辐射量来计 算相界的位置的 : 0017 (i) 确定相界所位于的检测器级, 以及然后 0018 (ii) 确定在 (i) 中所确定的检测器级内的相界的位置。 0019 期望边界被定位的容器中存。
16、在的相的辐射衰减特性是不同的。 这意味着通过相中 的一个从源传输到检测器的辐射少于通过相中的另一个从源传输相同距离到检测器的辐 射。以这种方式, 在源和 ( 或者每个 ) 检测器之间的每个相的材料 (material) 的量影响通 过疏松 (bulk) 材料的辐射的传输。因此比较所检测的被传输的辐射允许介质的密度的变 化被测量, 使得相界可被定位。 0020 在现有技术的传统液位测量系统中, 辐射源被布置为朝向沿形成液位测量系统的 说 明 书 CN 103765172 A 5 2/7 页 6 测量范围的路径而布置的一个或多个检测器发射通过容器的内部的辐射。例如, 当容器含 有液体和顶空 (he。
17、adspace) 气体时, 一个或多个检测器可位于液位之下, 并且一个或多个 检测器可定位在液位之上, 即, 在顶空内。在许多现有技术系统中, 以闪烁材料的长度的形 式的单个延长 (elongate) 检测器被使用, 使得闪烁体的部分位于液位之上, 部分位于液位 之下。辐射被它经过的介质衰减, 使得小于源发射的辐射的 100被检测器检测, 在通过介 质传播后由检测器所检测的由源发射的辐射量与它经过的介质的量和密度成比例。 容器内 的液位例如因此通过确定由源发射和由检测器检测的辐射总量并将总的检测的辐射的变 化识别为液位变化来传统地测量。 相对低的液位总体提供较小密度的介质以用于辐射的传 播, 。
18、因此比液位较高时检测相对多的辐射。 在现有技术的传统的液位测量仪器中, 来自完整 的检测器系统的总的累积计数率 (eount rate) 被用于计算液位。任何例如由容器壁上的 固体的沉积、 蒸汽空间内泡沫的产生或压力变化引起的计数率的降低, 将导致错误高的液 位测量。在此描述的方法和装置的一个优点在于, 尽管聚集沉积物或者在蒸汽空间中产生 泡沫, 但它允许精确的液位测量。 本发明的第二个优点在于, 即使当没有泡沫或者沉积物存 在时, 它仍允许改进的测量精度。这第二个优点的产生是由于当与由传统的现有技术系统 所产生的那些相比时, 由计数率中自然的、 统计上可预测的波动所引起的测量误差降低, 所 。
19、以出现了所述第二个优点。 0021 测量范围是其中相界可通过方法和装置检测的容器的界限。装置通常被设计为 具有覆盖 (cover) 相界位置的预期变化的测量范围。这通常覆盖容器的实际高度的大部 分或者全部, 尽管在一些应用中当容器的填充物的相界不期望变化那么大时测量范围可 设计得更小。每个检测器能够检测辐射的测量范围的部分将被称为检测器级 (detector stage)。总之, 检测器级覆盖整个测量范围。相邻检测器的检测器级优选地被布置为邻近 的(contiguous)。 测量范围通常沿着覆盖期望液位变化的高度的容器的一部分延伸。 检测 器可直接地浸入容器容物内, 但优选地位于容器外部或定位。
20、在容器内的保护壳、 腔室或汲 取管内。当检测器位于容器外部时, 它们通常与容器壁相邻或者安装在容器壁上。检测器 被定向, 使得它们检测来自源的辐射。检测器可屏蔽从源方向以外的方向到达的辐射。 0022 尽管不排除其应用于含有固相的容器, 但本发明的方法和装置特别适于确定两个 液相之间的相界的容器中的位置。这种装置的广泛应用在于确定含有液相和气相 ( 其可以 是例如空气、 真空或者顶空蒸汽 ) 的容器中的液位。通过本发明的方法确定的相界则为液 位。容器可替代地含有多于一种液相, 例如, 水相和有机相, 诸如油和水。 0023 在优选的形式中, 辐射包括诸如 X 射线或者更优选为伽马射线的电离辐射。
21、。可 替代地, 可以使用微波、 无线电波或者声波。通过容器和 / 或其容物的辐射的可透性 (transparency)( 即, 介质的衰减系数 ) 和合适的源和检测器的可用性来选择所使用的辐 射。可以使用来自可见或近可见 (near-visible) 光谱的辐射, 但其使用将非常有限。为了 扫描诸如处理容器的大的固体结构, 伽马辐射是大大地优选的。合适的伽马源包括 60Co 和 137Cs、133Ba、241Am、24Na 和182Ta, 然而, 足够穿透力的任意伽马发射同位素可被使用, 并且许多 这样的同位素已经在液位测量设备中常规使用。对于固定装置, 放射性同位素源应当选择 为具有相对长的。
22、半衰期以给予设备满意的服务期限。通常, 所使用的放射性同位素的半衰 期将至少为 2 年, 并且期望地, 至少为 10 年。以上所提到的放射性同位素的半衰期为 : 137Cs 伽马 ca, 30 年, 133Baca, 10 年, 以及241Amca, 430 年。合适的源通常以大约 40 与 1500keV 之 说 明 书 CN 103765172 A 6 3/7 页 7 间的能量发射辐射, 并且合适的检测器可以足够的灵敏度检测这样的辐射, 使得所检测的 辐射根据传输介质的密度变化。 0024 在液位测量方法和装置中可使用一个或多个源。 通常所使用的源的数量不多于10 个, 优选地为 1-4 。
23、个。每个源可朝向多于 1 个的检测器发射一束辐射, 多于 1 的检测器通常 为 4-10 个检测器, 但也可以使用 2-40 个检测器, 这取决于每个检测器的尺寸 / 检测面积以 及装置所需的分辨率。 0025 尽管在实际中通常选择紧凑的设备, 但在装置和方法中所使用的特定检测器 本身并不关键。检测器可以是电动的, 例如与诸如光电倍增器或者光电二极管链接的 Geiger-Muller(GM) 管或者闪烁检测器, 或者如在简单的闪烁设备中那样可以是无动力的。 在电动检测器之中, GM 管是优选的, 原因在于它们具有电和热鲁棒性 (robust), 并且以机 械鲁棒的形式可用。在无动力检测器之中,。
24、 通过光纤链路链接到计数器的闪烁检测器 ( 可 选地, 对于测试下的介质利用在容器外部的诸如光电倍增器或者光电二极管的光检测器 ) 是特别有用的。 当使用电动检测器, 特别是当在燃烧或者爆炸风险的环境中使用装置时, 期 望的是在发生系统故障的情况下 ( 特别是导致燃烧或者爆炸材料与任何带电元件之间的 直接接触 ), 与检测器相关联的总的电能和功率足够低以不能成为明显的火源 (source of ignition)。 0026 用于这些检测器中的任意一个的计数设备将通常是电子的, 并且每个检测器将与 通常被链接到数据处理器的计数器相关联。为每个检测器提供计数器通常是实用的, 但是 可以使用计数器。
25、的时分多蹈复用, 尽管伴随着计算所需的时间的增加以及因此测量之间的 最小时间间隔的增加。 0027 数据处理器可以是任意的商业处理器, 其能够操作来自计数器的数据以产生所需 的信息。处理器可包括标准计算机, 或者可以是作为边界位置系统的一部分而安装的专用 设备。处理器链接到计数器, 使得计数数据可被传送到处理器。该链接可以是有线的或者 无线的, 这取决于系统的环境和需求。处理器能够以预定的时间间隔并对于预定的持续时 间询问计数器, 并因此包括定时设备。 处理器计算由每个检测器产生的计数率, 并根据时间 常数 Tc 或者另一个滤波算法来平滑 (smoothe) 计数率值。Tc 是校准参数, 其通。
26、常用于核 应用。合适的平滑算法在仪器设计的领域是众所周知的。如果稳定的计数率应当突然变化 Q, 那么, 在时间 t 过去之后, 所测量的计数率的变化将为 : 0028 对于固定的辐射强度, 检测器将产生平滑的计数率Q, 其波动 量(+/- 一个标准差 )。 0029 处理器还可以根据在应用中所使用的同位素的半衰期来对于源衰变的影响校正 平滑的计数率值。 0030 处理器还可以链接到诸如显示器、 控制系统或报警器的接口, 通过该接口关于相 界位置的信息如果需要的话可被用于控制容器处理参数。 合适的数据处理装置是广泛可用 的, 并且在传统的液位测量系统中是已知的并且被使用。技术人员可容易地选择适当。
27、的设 备。尽管装置的操作形成本发明的一部分, 但数据处理装置的选择并不形成本发明的一部 分。 说 明 书 CN 103765172 A 7 4/7 页 8 0031 数据处理设备适于在两步法中从检测器检测的辐射量计算相界的位置, 在两步法 中, 在第一步中确定相界位于哪个检测器级中, 然后, 在第二步中计算相关的检测器级内的 相界的位置。 0032 第一步优选地通过比较测量时来自每个检测器的计数率与当它恰好被覆盖时即 当检测器级恰好充满更密的相时以及当它未被覆盖时即当检测器级缺少更密的相和 / 或 充满较低密度 (less-dense) 的相时由相同的检测器所检测的计数率来完成。如果来自特 定。
28、的检测器级的计数率明显地大于当相同的检测器恰好被覆盖时所测量的计数率, 那么该 检测器级非常可能舍有一些较低密度的相, 并且相界可能存在于该检测器级中。在这种情 况下, 在该检测器级之上的所有检测器级也应当含有一个或多个较低密度的相。 因此, 通过 比校来自相邻的更高的检测器级的计数率与其自己恰好被覆盖的计数率来确认含有相界 的检测器级是优选的。在特定优选的方法中, 通过数据处理器执行以下方法来确定相界所 位于的检测器级 : 0033 a) 对于每个检测器 n, 获取当前被平滑和衰变校正 (decay corrected) 的计数率 Qn, 其中, n 从 1 到 N 变化, N 是检测器的数。
29、量。 0034 b) 对于所有的 n 个级计算 : 0035 0036 其中, Qnf是当密相 (dense phase) 恰好覆盖第 n 级时的计数率, Tc是时间常数。X 是范围为 0 5 的数, 其依赖于系统的精度和响应时间被选择。X 优选为 0, 但当系统的稳 定性是关键时在应用中可以大于 0。 0037 c) 从最低的级 (n 1) 开始, 确立是否 : 0038 ( 算法 A) 0039 d) 如果算法 A 不被满足, 那么增加 n 直到达到最低的级 p, 其中, 算法 A 被满足, 即 : 0040 0041 级 p 是算法 A 被满足的检测器中的最低的级。我们认为相界舍在检测器。
30、级 p 中。 如果对于从1到N-1的所有n算法A都不被满足, 并且关系也不被满足, 那么假定相界在检测器级 N 之上。 0042 在可替代的方法中, 其提供另外的鲁棒性, 可以遵循以下步骤 : 0043 a)对于每个检测器n, 获取当前被平滑和衰变校正的计数率Qn, 其中, n从1到N变 化, N 是检测器的数量 ; 0044 b) 对于所有的 n 个级计算 : 0045 0046 其中 Qnf、 Tc、 X 为以上给出的 Qnf、 Tc、 X。 0047 c) 从最低的级 (n 1) 开始, 确立是否 : 说 明 书 CN 103765172 A 8 5/7 页 9 0048 和 ( 算法 。
31、B) 0049 d) 如果算法 B 不被满足, 那么增加 n 直到达到最低的级 p, 其中, 算法 B 被满足, 即 : 0050 和 0051 级 p 是算法 B 被满足的检测器中的最低的级。我们认为相界舍在检测器级 p 中。 如果对于从 1 到 N-1 的所有 n 算法 B 都不被满足, 并且关系也不被满 足, 那么假定相界在检测器级 N 之上。 0052 优选地, 检测器被布置, 使得级 N 在容器的顶部, 并且最高的相界位置落在检测器 级 N 内。通过使用该优选的布置, 对于 n 增加算法 B, 直到 n (N-1)。如果算法 B 没有被 满足, 那么检查来自级 (N-1) 和 N 的。
32、计数率。如果容器是满的, 而算法 B 不被满足, 那么相 界位置在级 (N-1) 之上。对数据处理器编程, 假定当 n 从 (N-1) 增加到 N 时液位在级 N 中。 如果容器是满的, 以下描述的第二步将确认液位 100。 0053 在第二步中, 计算被发现含有相界的检测器级内的相界的位置。这优选地通过计 算由检测器所检测的计数率与当检测器级恰好被覆盖时的计数率的比率来完成。 在优选的 方法中, 通过数据处理器求解算法C来确定被发现含有相界的检测器级p内的相界的位置。 0054 * 检测器级 p 的长度 ( 算法 C) 0055 其中 : 0056 h 是检测器级 p 的底部之上的相界的高度。
33、。 0057 Qpe是当密相在检测器级 p 之下时的计数率。 0058 Qp是检测器级 p 中的当前被平滑和衰变校正的计数率。 0059 Qpf是当密相恰好覆盖检测器级 p 时的计数率。 0060 为了确定相界的测量范围内的液位, 将检测器级 p 之下的测量范围的长度相加到 算法 C 的结果, 以给出测量范围的底部之上的相界的总高度。当所有的检测器级是相同的 长度并且检测器被线性地布置时 : 0061 0062 0063 其中, N 检测器级的总数。 0064 当检测器级不是相同的长度, 或者不被线性布置, 例如在鼓状容器上时, 则等式需 要被适当地修改。如图 2 所示, 如果检测器没有处于与。
34、容器壁直接接触, 那么对这些等式进 说 明 书 CN 103765172 A 9 6/7 页 10 行另外的修改是必须的。 在这种情况下, 由于辐射路径的几何考虑, 容器中的液位稍微不同 于检测器上的液位。所有的这些修改是简单的改变, 对于在这些事情上熟练的人员将是清 楚的。 0065 为了进一步改进精度, 用于确定级内的相界位置的可替代方法是在每级内校准作 为液位的函数的计数率。这可以通过实验或者建模来完成。 0066 Qne、 Qnf在校准步骤中获得。当容器为空或者仅含有较低密度的相时, 对于每个检 测器 n 测量 Qne。当容器已填充密相至密相恰好覆盖检测器或恰好填满检测器级的液位时, 。
35、对于每个检测器级测量 Qnf。可替代地, 通过使用来自源和检测器之间的蹈径长度、 源辐射 的能量、 密相和较低密度的相的密度以及材料的质量吸收系数的适当模型进行计算, 可获 得 Qne、 Qnf。当校准仪器时, 应当测量延长周期上的计数率以提供时间平均的计数率以确定 尽可能为代表性数值的 Qne和 Qnf。 0067 在一些应用中, 容器的容物的性质引起固体或者厚的液体材料在容器的壁上沉 积, 从而导致由与沉积物相对的检测器所检测的辐射的降低。 理想地, 沉积物被从容器壁清 除, 但在这些沉积物的存在下操作液位检测器通常是必须的, 这些沉积物的厚度可能是未 知的。因此, 优选的方法进一步包括第。
36、三步骤, 在第三步骤中, 在计算相界的位置时可考虑 在容器壁上的诸如固体或厚的液体的密相的沉积的影响。第三步骤包括对于级 p 之上的所 有检测器级将空的计数校准值 Qne重置为当前测量的计数 Qn, 所计算的检测器级的液位含 有相界。在方法的正常操作期间测量的 Qn和当容器为空时测量的初始值 Qne之间的差还可 以被用于计算存在于容器壁上的沉积物的近似密度。当沉积物的性质已知时, 可以近似地 计算这些沉积物的厚度。当相界之上的辐射的降低已达到可能影响测量方法的值时, 可对 容器清除沉积物。 当聚集在容器壁上的沉积物具有当潮湿时其大于形成相界的更密的相的 密度的密度时, 该第三步可能是有用的。 。
37、0068 在附图中进一步描述本发明, 其中 : 0069 图 1 : 通过融合根据本发明的液位测量系统的容器的截面 ; 0070 图 2 : 通过融合根据本发明的液位测量系统的可替代实施例的容器的截面。 0071 在图 1 中示意性地示出的液位测量系统中, 辐射源 “S” 被布置为朝向 4200mm 长 的 Geiger 管 D1、 D2、 D3、 &D4 发射通过容器 10 的内部的辐射, Geiger 管 D1、 D2、 D3、 &D4 被 线性布置以产生沿容器的相对壁近似垂直向下布置的800mm长的检测器。 容器舍有液体12 和气体 14。D1 和 D2 在液位之下, D4 在液位之上。。
38、该系统已被校准, 使得当在液位之上时 每个检测器上的计数率 Qne和恰好被液体覆盖时每个检测器上的计数率 Qnf是已知的。 0072 对于检测器 D1 和 D2,和不被满足。 0073 因此, 液体12和气体14之间的相界, 即液体12的液位16被计算为在D2之上。 算 法 B 被满足的最低的检测器级为 D3。因此, 液体 12 的液位被确定为在检测器级 3 内。 0074 因此, 液体 12 的其中, LDn检测器级 n 的长 度。 0075 当利用上述方法来确定相界的位置时, 测量不受容器壁上的固定沉积物的集聚或 说 明 书 CN 103765172 A 10 7/7 页 11 者液位之上。
39、泡沫的存在的影响。即使当没有沉积或者没有泡沫存在时, 该方法相对于现有 技术的传统仪器提供增强的精度。例如, 假定存在 N 个检测器级, 每个具有长度 LD。为简单 起见, 假定每个级在未被覆盖时产生计数率 Qne, 在被液体覆盖时产生零计数率。 0076 根据此处描述的方法, 确定在特定的级内含有液位, 并且检测器级内的相界的位 置然后被计算。 最大的级计数率为Qne(对应于级中的最小液位), 最小的级计数率为零(对 应于级中的最大液位 )。因此, 随着液位变化 LD, 级计数率变化 Qne。 0077 最大的级计数率的不确定度为( 一个标准差 ) 0078 由于随着液位变化 LD级计数率变。
40、化 Qne,的计数率的不确定度导致 的相界位置的最大不确定度, 即 : 0079 注意, 这是当液位处于任意级时的最大误差。 0080 为了比较, 在现有技术系统中, 来自完整的检测器系统的总的累积计数率被用 于计算液位。在这种现有技术情况下, 当液位接近于测量范围的底部时, 总的检测器计 数率为 NQne, 与该计数率相关联的不确定度为随着液位变化 NLD( 即在测 量范围上 ), 总的计数率变化 NQne。因此,的总的计数率的不确定度导致 的液位测量值的不确定度, 即 0081 (1) 和 (2) 的比交表明, 对于低的液位, 根据本发明的液位测量比利用来自整个检 测器系统的总的累积计数率的现有技术系统所提供的测量更精确 ( 系数)。随着液位 升高, 精度的改进变得更小, 但对于直到范围的顶部的所有液位, 根据本发明的方法进行的 测量比由所述现有技术系统所提供的测量更精确。 说 明 书 CN 103765172 A 11 1/1 页 12 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103765172 A 12 。