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光学触控校正方法及光学触控面板.pdf

  • 上传人:bo****18
  • 文档编号:5897132
  • 上传时间:2019-03-30
  • 格式:PDF
  • 页数:14
  • 大小:2.14MB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN201310424336.6

    申请日:

    2013.09.17

    公开号:

    CN104423725A

    公开日:

    2015.03.18

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情:

    授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G06F3/042申请日:20130917|||公开

    IPC分类号:

    G06F3/042

    主分类号:

    G06F3/042

    申请人:

    纬创资通股份有限公司

    发明人:

    吕帼闲; 陈裕彦

    地址:

    中国台湾新北市

    优先权:

    102131346 2013.08.30 TW

    专利代理机构:

    北京市柳沈律师事务所11105

    代理人:

    史新宏

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    内容摘要

    本发明揭示一种光学触控校正方法及光学触控面板,光学触控校正方法用于光学触控面板其包含投射光源以及线性光感测器,光学触控校正方法包含下列步骤:以投射光源产生投射光线,投射光线经反射至线性光感测器;利用线性光感测器量测反射后的投射光线,以得到相对于线性座标的反射强度曲线;计算反射强度曲线与基准强度曲线的强度差异;以及,若强度差异高于一阈值,调整投射光源的发射功率以进行校正。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种光学触控校正方法,用于一光学触控面板包含一投射光源以及一线性光感测器,该光学触控校正方法包含:
    以该投射光源产生一投射光线,该投射光线经反射至该线性光感测器;
    利用该线性光感测器量测反射后的该投射光线,以得到相对于线性座标的一反射强度曲线;
    计算量测到的该反射强度曲线与一基准强度曲线的一强度差异;以及
    若该强度差异高于一第一阈值,调整该投射光源的发射功率以进行校正。

    2.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,还包含:
    若该强度差异低于该第一阈值,利用该线性光感测器感测到的该反射强度曲线,执行触控点判断功能。

    3.  如权利要求2所述的光学触控校正方法,还包含:
    若该强度差异高于一第二阈值,停止触控点判断功能并维持先前的触控状态,其中该第二阈值大于该第一阈值。

    4.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中计算该强度差异的步骤包含:
    由该反射强度曲线与该基准强度曲线之间的差距,在线性座标上取样得到多个差异值;以及
    由这些差异值平均得到该强度差异。

    5.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中计算该强度差异的步骤包含:
    将线性座标区分为多个区间;
    由这些区间中选择至少一指定区间;
    计算在该至少一指定区间内该反射强度曲线与该基准强度曲线在线性座标上的多个差异值;以及
    由这些差异值平均得到该强度差异。

    6.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中计算该强度差异的步骤包含:
    将线性座标区分为多个区间;
    针对每一个区间,计算每一个区间内该反射强度曲线与该基准强度曲线在线性座标上的多个差异值,以得到每一个区间的一区间差异;以及
    将这些区间差异加权平均得到该强度差异。

    7.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中计算该强度差异的步骤包含:
    若在线性座标上的一座标范围内,该反射强度曲线上呈现一剧烈梯度变化,则将该座标范围内的该反射强度曲线排除计算。

    8.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中当该光学触控面板无形变时,利用该线性光感测器量测反射后的该投射光线以得到相对于线性座标的一强度曲线作为该基准强度曲线。

    9.  如权利要求1所述的光学触控校正方法,其中该反射强度曲线与该基准强度曲线的该强度差异,对应该光学触控面板上的一形变弯曲程度。

    10.  一种光学触控面板,包含:
    一边框;
    一投射光源,设置于该边框上,用以产生一投射光线;
    一反射单元,设置于该边框上,用以反射该投射光线;
    一线性光感测器,设置于该边框的一第一侧边上,用以接收经反射的该投射光线,并量测反射后的该投射光线,以得到相对于线性座标的一反射强度曲线;
    一控制单元,与该投射光源以及该线性光感测器耦接,用以计算量测到的该反射强度曲线与一基准强度曲线的一强度差异,若该强度差异高于一第一阈值,调整该投射光源的发射功率以进行校正。

    11.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中该反射单元至少设置于该边框的一第二侧边上,且位置相对该线性光感测器。

    12.  如权利要求11所述的光学触控面板,其中该反射单元设置于该边框的该第二侧边以及一第三侧边上,且位置相对该线性光感测器与该投射光源。

    13.  如权利要求10所述的光学触控面板,还包含:
    一触控单元,与该线性光感测器以及该控制单元耦接,若该强度差异低于该第一阈值,该触控单元利用该线性光感测器感测到的该反射强度曲线,执行触控点判断功能。

    14.  如权利要求13所述的光学触控面板,其中若该强度差异高于一第二阈值,该触控单元停止触控点判断功能并维持先前的触控状态,该第二阈值大于该第一阈值。

    15.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中该控制单元藉由该反射强度曲线与该基准强度曲线之间的差距,在线性座标上取样得到多个差异值,并由这些差异值平均得到该强度差异。

    16.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中该控制单元将线性座标区分为多个区间,由这些区间中选择至少一指定区间,计算在该至少一指定区间内该反射强度曲线与该基准强度曲线在线性座标上的多个差异值,该控制单元由这些差异值平均得到该强度差异。

    17.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中该控制单元将线性座标区分为多个区间,针对每一个区间,计算每一个区间内该反射强度曲线与该基准强度曲线在线性座标上的多个差异值,以得到每一个区间的一区间差异,该控制单元将这些区间差异加权平均得到该强度差异。

    18.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中若在线性座标上的一座标范围内,该反射强度曲线上呈现一剧烈梯度变化,该控制单元将该座标范围内的该反射强度曲线排除计算。

    19.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中当该光学触控面板无形变时,该控制单元利用该线性光感测器量测反射后的该投射光线以得到相对于线性座标的一强度曲线作为该基准强度曲线。

    20.  如权利要求10所述的光学触控面板,其中该控制单元计算得到的该强度差异,对应该光学触控面板上的一形变弯曲程度。

    说明书

    说明书光学触控校正方法及光学触控面板
    技术领域
    本发明涉及触控面板,特别是涉及一种光学触控面板及其控制方法。
    背景技术
    在光学触控系统下,光学感测器固定于触控区的左右上角位置,因为外力会改变触控的平面,造成触控面板的形变,可能影响光学感测器(optical sensor)固定在左右上角平面的位置,使光学感测器的收光角度因此改变,导致接收的光讯号强度不足,进而产生杂讯或触控失准(如触控感测时发生触控讯号跳点等现象)。
    目前市面上所有的光学触控模块大多采用使用平面型光学感测器(area optical sensor)来克服上述面板形变问题。由于,平面型光学感测器的可视角度为多角度,当触控平面发生形变时,平面型光学感测器可重新选择其他最佳的可视角度。然而,平面型光学感测器在制造工艺上较为复杂、成本较高、占用体积也较大且消耗功率较高。再者,由于平面型光学感测器需要选择最佳可视角度(例如挑选对应不同角度的讯号线)的额外步骤,在运算上也需要较多时间取像。
    发明内容
    有鉴于此,本发明提供一种光学触控校正方法及光学触控面板,其光学触控面板中设置线性光感测器(line optical sensor),藉由线性光感测器得到相对于线性座标的反射强度曲线,当光学触控面板上发生形变时,计算反射强度曲线与基准强度曲线的强度差异,调整光源的强度来校正光学触控面板的形变误差,以解决上述问题。
    依据本发明的一实施态样,其揭示一种光学触控校正方法,用于光学触控面板其包含投射光源以及线性光感测器,光学触控校正方法包含:以投射光源产生投射光线,投射光线经反射至线性光感测器;利用线性光感测器量测反射后的投射光线,以得到相对于线性座标的反射强度曲线;计算量测到 的反射强度曲线与基准强度曲线的强度差异;以及,若强度差异高于第一阈值,调整投射光源的发射功率以进行校正。
    依据本发明的另一实施态样,其揭示一种光学触控面板,包含边框、投射光源、反射单元、线性光感测器以及控制单元。投射光源设置于边框上,并用以产生投射光线。反射单元设置于边框上,并用以反射投射光线。线性光感测器设置于边框的第一侧边上,用以接收经反射的投射光线,并量测反射后的投射光线,以得到相对于线性座标的反射强度曲线。控制单元与投射光源以及线性光感测器耦接,用以计算量测到的反射强度曲线与基准强度曲线的强度差异,若强度差异高于第一阈值,调整投射光源的发射功率以进行校正。
    附图说明
    为使本发明能更明显易懂,本发明附图说明如下:
    图1示出了根据本发明中一种光学触控校正方法的方法流程图;
    图2A示出了根据本发明中一种光学触控面板的上视示意图;
    图2B示出了图2A中光学触控面板的功能方块图;
    图3A示出了当光学触控面板的面板区域未发生板弯形变时的侧视示意图;
    图3B示出了当光学触控面板的面板区域发生板弯形变时的侧视示意图;
    图4A至图4D示出了各种不同情况下线性光感测器感测的反射强度曲线的示意图;以及
    图4E示出了图4C中的反射强度曲线经校正后的反射强度曲线的示意图。
    附图符号说明
    为让本发明内容能更明显易懂,附图符号的说明如下:
    100:光学触控校正方法
    S100~S112:步骤
    200:光学触控面板
    201:面板区域
    210:边框
    211、212、213:侧边
    220:投射光源
    230:反射单元
    240:线性光感测器
    250:控制单元
    260:触控单元
    DIF:强度差异
    RF1:第一阈值
    RF2:第二阈值
    具体实施方式
    以下将以附图及详细叙述清楚说明本发明内容的精神,本领域技术人员在了解本发明内容的较佳实施例后,可由本发明内容所教示的技术,加以改变及修饰,其并不脱离本发明内容的精神与范围。
    请参阅图1,其示出了根据本发明中一种光学触控校正方法100的方法流程图。于本实施例中,光学触控校正方法100适用于光学触控面板上,其至少包含投射光源以及线性光感测器。请一并参阅图2A与图2B,图2A示出了根据本发明中一种光学触控面板200的上视示意图,图2B示出了图2A中光学触控面板200的功能方块图。于此实施例中,光学触控校正方法100可配合光学触控面板200使用。
    如图2A所示,光学触控面板200包含边框210、投射光源220、反射单元230以及线性光感测器(line optical sensor)240。投射光源220设置于边框210上。与图2A的实施例来说,投射光源220可设置在边框210的左上角,用以产生投射光线EL投射向光学触控面板200的面板区域201,但本发明的投射光源220并不限于设置于左上角,亦可设置于边框210的其他位置上。
    如图1所示,光学触控校正方法100,首先执行步骤S100,以投射光源220产生投射光线EL,投射光线EL经反射至线性光感测器240。
    反射单元230设置于边框210上,用以将投射光线EL反射至线性光感测器240。线性光感测器240其本身感测光线的感应部位为长条形直线区块, 于此实施例中,线性光感测器240设置于边框210其中一侧的侧边上,于图2A的实施例中,线性光感测器240设置于边框210的左侧侧边211上,用以接收经反射的投射光线EL。
    此外,如图2B所示,光学触控面板200还包含控制单元250以及触控单元260。控制单元250耦接至投射光源220、线性光感测器240及触控单元260。触控单元260耦接至控制单元250及线性光感测器240。
    光学触控校正方法100接着执行步骤S102,利用线性光感测器240量测反射后的投射光线EL,以得到相对于线性座标的反射强度曲线。于此实施例中,线性座标对应左侧侧边211的纵向座标,也就是说,线性光感测器240可得到相对左侧侧边211的纵向座标的反射强度曲线。
    为将投射光线EL反射至线性光感测器240,反射单元230至少设置于位置相对线性光感测器240的右侧侧边212上。于实际应用中,为了达到较完整的反射效果,反射单元230设置于边框210的右侧侧边212以及底部侧边213上,且位置相对线性光感测器240与投射光源220。
    请一并参阅图3A、图3B、图4A至图4D。图3A示出了当光学触控面板200的面板区域201未发生板弯形变时的侧视示意图。图3B示出了当光学触控面板200的面板区域201发生板弯形变时的侧视示意图。图4A至图4D示出了各种不同情况(是否发生形变与是否有触控事件)下线性光感测器240感测的反射强度曲线的示意图。
    如图3A及图3B所示,投射光源220产生的投射光线EL具有一定的投射范围(自投射光线ELL1起往下至投射光线ELL2)及特定的投射中轴,在投射中轴上的投射光线ELH通常具有最高的投射强度,相对地,投射中轴两侧的投射光线ELL1与ELL2具有较低的投射强度。
    如图3A所示,当光学触控面板200的面板区域201未发生板弯形变时,通常投射光源220设定为将投射中轴上的投射光线ELH正对反射单元230。如此一来,线性光感测器240可量测讯号较佳(如反射强度较高、讯号较完整)的反射强度曲线,如图4A所示的反射强度曲线RCref即是当面板区域201未发生板弯形变且无触控事件时量测到的反射强度曲线RC1,控制单元250可将此时的反射强度曲线RC1储存并作为基准强度曲线RCref。
    另一方面,如图3B所示,当光学触控面板200的面板区域201发生一定程度内的板弯形变时,导致投射光源220产生的投射光线EL的投射中轴 偏离原轴向,因此,投射中轴上的投射光线ELH并未正对反射单元230,而是较低投射强度的投射光线ELL1正对反射单元230,并反射至线性光感测器240。如此一来,将影响到线性光感测器240所量测的的反射强度曲线。
    如图4C所示的反射强度曲线RC3即是当面板区域201发生板弯形变且无触控事件时量测到的反射强度曲线RC3,控制单元250可将此时的反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref,判断目前的板弯形变情况的严重程度,作法细节详述于下列段落。
    如图1所示,光学触控校正方法100接着执行步骤S104,计算量测到的反射强度曲线(例如图4A至图4D中的反射强度曲线RC1~RC4)与基准强度曲线RCref的强度差异DIF。
    以图4A所例,当未发生板弯形变且无触控事件时,反射强度曲线RC1与基准强度曲线RCref并无强度差异。也就是说,此时反射强度曲线RC1的强度差异趋近于0。
    以图4B所例,当未发生板弯形变且有触控事件时,反射强度曲线RC2与基准强度曲线RCref的差异仅发生在触控事件区间PTE,除此之外,反射强度曲线RC2与基准强度曲线RCref并无强度差异。当存在触控点时,有物体阻隔在反射光线与线性光感测器240之间,将导致在线性座标上的座标范围(即触控事件区间PTE)内,反射强度曲线RC2上呈现剧烈梯度变化。于此情况下,控制单元250则可将座标范围内的反射强度曲线RC2排除在计算范围之外,藉此排除真实的触控事件影响用以抗形变的计算结果。也就是说,若排除触控事件区间PTE,此时反射强度曲线RC2的强度差异DIF趋近于0。
    以图4C所例,当发生板弯形变且无触控事件时,反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref随着线性座标有不同程度的差异。
    其中一种实施例中,计算反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref之间强度差异DIF的作法为,控制单元250取出两者的平均差距相对比例,首先,基于反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref之间的差距在线性座标上均匀地取样得到多个差异值,接着,由将上述多个差异值平均以得到强度差异,举例来说,图4C平均得出的强度差异DIF为反射强度曲线RC3相对基准强度曲线RCref下降了16.25%。
    计算的方式并不以平均为限,另一种实施例中,控制单元250首先将将 线性座标区分为多个区间(如图4C所示的四个区间P1~P4);由四个区间中选择至少一指定区间,例如可选择影响较大的区间P2与P3、排除两侧的区间P1与P4;接着,计算指定区间(区间P2与P3)内反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref在线性座标上的多个差异值;并由差异值平均得到强度差异DIF。举例来说,此种计算方法得到的强度差异DIF为反射强度曲线RC3相对基准强度曲线RCref下降了27%。
    再一种实施例中,控制单元250将线性座标区分为多个区间(如图4C所示的四个区间P1~P4);针对每一个区间,计算每一个区间内反射强度曲线RC3与基准强度曲线RCref在线性座标上的多个差异值,以得到每一个区间的区间差异;将区间差异加权平均得到强度差异DIF。每个区间可具有不同的权重。
    以图4D所例,当发生板弯形变且有触控事件时,反射强度曲线RC4与基准强度曲线RCref随着线性座标有不同程度的差异。控制单元250可由反射强度曲线RC4与基准强度曲线RCref计算其间的强度差异DIF(可参考上述图4C实施例所介绍的各种方法)。同理,当在线性座标上的座标范围(即触控事件区间PTE)内,反射强度曲线RC4上呈现剧烈梯度变化。于此情况下,控制单元250则可将座标范围内的反射强度曲线RC4排除在计算范围之外,藉此排除真实的触控事件影响用以抗形变的计算结果(可参考上述图4B实施例)。
    如图1所示,光学触控校正方法100执行步骤S106,判断上述强度差异DIF的大小。
    若强度差异DIF小于第一阈值RF1(例如5%或其他可容许的差异值),则表示目前面板区域201未发生板弯形变(可参考图3A)或是形变情况并不严重,此时,光学触控校正方法100执行步骤S108,控制单元250将线性光感测器240感测到的反射强度曲线(可参考图4B中的反射强度曲线RC2)传送至触控单元260,触控单元260可执行触控点判断功能,藉此完成光学触控的功能。
    若强度差异DIF大于第一阈值RF1(例如5%或其他可容许的差异值)且小于第二阈值RF2(例如70%或其他难以校正的过大差异值),则表示目前面板区域201已发生板弯形变(可参考图3B),此时,光学触控校正方法100执行步骤S110,控制单元250调整投射光源220的发射功率以进行校正。
    举例来说,假设发生板弯形变,且线性光感测器量测到如图4C所示的反射强度曲线RC3,此状况下,强度差异DIF为反射强度曲线RC3相对基准强度曲线RCref下降了16.25%,于步骤S110中,控制单元250调整投射光源220的发射功率提高相对应的比例,尽可能使得校正后的反射强度曲线贴近基准强度曲线RCref。请一并参阅图4E,其示出了图4C中的反射强度曲线RC3经校正后的反射强度曲线RC3c的示意图。如图4E所示,控制单元250调整投射光源220与原先感测到的强度差异DIF成比例,使校正后的反射强度曲线RC3c其强度上升一定程度并贴近基准强度曲线RCref。校正后的强度曲线RC3c其强度差异DIF将大幅降低至第一阈值RF1之下,便可恢复进行一般的光学触控感测。
    若强度差异DIF大于第二阈值RF2(例如70%或其他难以校正的过大差异值),则表示目前面板区域201已发生板弯形变(可参考图3B)且板弯形变已过于严重,使得反射单元230已脱离投射光源220产生的投射光线EL的投射范围。如此一来,投射光线EL已难以经由反射单元230反射至线性光感测器240,即使调整投射光源220的发射功率亦难以进行校正。此时,光学触控校正方法100执行步骤S112,停止触控点判断功能并维持先前的触控状态,并且控制单元250产生错误讯息通知使用者。
    综上所述,本发明提供一种光学触控校正方法及光学触控面板,其光学触控面板中设置线性光感测器(line optical sensor),藉由线性光感测器得到相对于线性座标的反射强度曲线,当光学触控面板上发生形变时,计算反射强度曲线与基准强度曲线的强度差异,调整光源的强度来校正光学触控面板的形变误差。
    此外,本发明使用线性光感测器并提供一个抗变形的方法。线性光感测器的成本较低、体积较小、运算速度较快。若是有外力改变了光源的发射角度或光感测器的收光角度,本发明的光学触控校正方法及光学触控面板可判断此种情况为触控平面的变形,并对变形情况进行处理,避免错误的杂讯、跳点产生,使触控功能可正常操作。
    虽然本发明已以实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的前提下,可作各种的更动与润饰,因此本发明的保护范围是以本发明的权利要求为准。

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    光学 校正 方法 面板
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