一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法.pdf

《一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法.pdf（11页完整版）》请在专利查询网上搜索。

1、(10)申请公布号 CN 103737999 A (43)申请公布日 2014.04.23 CN 103737999 A (21)申请号 201410008955.1 (22)申请日 2014.01.06 B32B 9/04(2006.01) B32B 17/00(2006.01) C03C 17/34(2006.01) (71)申请人 天津南玻节能玻璃有限公司 地址 301700 天津市武清区新技术产业园区 武清开发区泉丰路 12 号 (72)发明人 王勇 黄成德 王烁 刘双 胡冰 宋宇 (74)专利代理机构 天津滨海科纬知识产权代理 有限公司 12211 代理人 韩敏 (54) 发明名称 。

2、一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备 方法 (57) 摘要 本发明提供一种具有红外反射功能的镀膜玻 璃， 包括 ： 玻璃基片和镀膜， 以所述玻璃基片为基 板， 所述镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介 质组合层膜， 第二电介质组合层膜， 第三层膜， 第 四层电介质组合膜， 第五层膜， 第六层膜。这种镀 膜玻璃的加工方法是 ： 提供玻璃基片 ； 在该玻璃 基片上沉积第一层电介质组合层膜 ； 在第一层上 沉积第二层电介质组合层膜 ； 在第二层上沉积第 三层透明氧化物导电层膜 ； 在第三层上沉积第四 层电介质组合层膜 ； 在第四层上沉积第五层膜 ； 在第五层上沉积第六层膜。本发明一种镀膜玻璃 膜。

3、层， 该膜层具有良好的红外反射功能外， 还具有 抗氧化、 抗酸碱腐蚀、 可钢化且可暴露在大气环境 下。 (51)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 7 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书7页 附图1页 (10)申请公布号 CN 103737999 A CN 103737999 A 1/2 页 2 1. 一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 包括 ： 玻璃基片和镀膜， 其特征在于 ： 以所述玻 璃基片为基板， 所述镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介质组合层膜， 所述第一电介质组合层膜为折射率 n 在 2.0 2.7 之间的。

4、电介 质材料 ； 第二电介质组合层膜， 所述第二电介质组合层膜为折射率 n 在 1.4 1.8 之间的电介 质材料 ； 第三层膜， 所述第三层膜为折射率 n 在 2.0 2.5 透明氧化物导电膜层 ； 第四电介质组合层膜， 所述第四电介质组合层膜为折射率 n 在 1.4 1.8 之间的电介 质材料 ； 第五层膜 ； 第六层膜， 所述第六膜层为最外层硬质保护层。 2. 根据权利要求 1 所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征在于 ： 所述的第 一电介质组合层膜为 SiNx、 TiOx 或 ZrOx 中的一种或几种组合。 3. 根据权利要求 1 所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特。

5、征在于 ： 所述的第 二电介质组合层膜为 SiOx、 SiOxNy 或 ZrSiOx 中的一种或几种组合。 4. 根据权利要求 1 所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征在于 ： 所述第三 膜层为 ITO、 TNO 或 AZO 中的一种或几种组合。 5. 根据权利要求 1 所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征在于 ： 所述的第 四电介质组合层膜为 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 或 ZrSiNx 中的一种或几种组合。 6. 根据权利要求 1 所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征在于 ： 所述的第 五膜层为 SiNx 或 TiOx。 7. 根据权利要求 1 。

6、所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征在于 ： 所述的第 六膜层为 SiC、 ZrOx 或 SiNx。 8. 根据权利要求 1-7 任一权利要求所述的一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 其特征 在于 ： 该第一电介质组合层膜厚度为 15-35nm， 第二电介质组合层膜厚度为 10-40nm， 第三 层膜厚度为 80-500nm， 第四电介质组合层膜厚度为 15-45nm， 第五层膜厚度为 10-35nm ； 第 六层膜厚度为 5-30nm。 9. 一种权利要求 1-8 任一权利要求所述的具有红外反射功能的镀膜玻璃的制备方法， 其特征在于包括如下步骤 ： 步骤 1 ： 提供玻璃基片 ； 步。

7、骤 2 ： 在该玻璃基片上沉积第一层电介质组合层膜SiNx、 TiOx 或 ZrOx 一种或几 种组合 ； 步骤 3 ： 在第一层上沉积第二层电介质组合层膜SiOx、 SiOxNy 或 ZrSiOx 中的一种 或几种组合 ； 步骤 4 ： 在第二层上沉积第三层透明氧化物导电层膜如 ITO、 TNO 或 AZO 中的一种 或几种组合 ； 步骤 5 ： 在第三层上沉积第四层电介质组合层膜SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 或 ZrSiNx 中的一种或几种组合 ； 步骤 6 ： 在第四层上沉积第五层膜SiNx 或 TiOx ； 权 利 要 求 书 CN 103737999 A 2 2/2 页 。

8、3 步骤 7 ： 在第五层上沉积第六层膜SiC、 ZrOx 或 SiNx ； 其中， 第一层电介质组合层中的 SiNx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其 中工作气体是 Ar, 反应气体是 N2， TiOx 同样用中频电源旋转阴极溅射沉积， 工作气体为 Ar 气， ZrOx 用直流或中频电源反应溅射沉积， 工作气体 Ar， 反应气体 O2， 该层的沉积后的范围 是 15-35nm， 优选 20 30nm ； 其中， 第二层电介质组合层中的 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 的加工方法为中频电源加旋转 阴极溅射沉积， 其中 SiOx、 ZrSiOx 工作气体是 Ar, 反应气体。

9、是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl 靶溅 射 ； SiOxNy 工作气体为 Ar， 反应气体为 O2和 N2， 靶材使用 SiAl 靶 ； 该组合层的沉积厚度范 围是 10-40nm， 优选 15-25nm ； 其中， 第三层透明氧化物导电膜中的 ITO、 TNO、 AZO 中的一种或组合的加工方法为 ITO、 TNO 为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体是 Ar 溅射， ITO、 TNO 为直流电源溅射， 工作气体为纯 Ar 溅射， 沉积厚度范围是 80-500nm， 优选 100-350nm ； 其中， 第四层电介质组合层中的 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 的。

10、加工方法为中频电源加旋转 阴极溅射沉积， 其中 SiOx、 ZrSiOx 工作气体是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl 靶溅 射， SiOxNy 工作气体为 Ar， 反应气体为 O2和 N2， 靶材使用 SiAl 靶， 该组合层的沉积厚度范 围是 15-45nm， 优选 20-30nm ； 其中， 第五层的SiNx或TiOx的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气 体是 Ar， 反应气体是 N2或 O2， SiNx 的沉积后的范围是 10-35nm， 优选 20-30nm ； 其中， 第六层的 ZrOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作。

11、气体是 Ar， 反应气体是O2， SiC膜层制备方法为平面靶直流溅射， 溅射气体为纯Ar， 该层的沉积厚度 的范围是 5-30nm， 优选 7-20nm。 10. 一种使用权利要求 1-8 任一权利要求所述具有红外反射功能的镀膜玻璃的中空玻 璃， 其特征在于， 所述中空玻璃中空腔体抽真空或充 10% 95% 惰性气体， 腔体厚度范围为 6 24mm， 所述中空玻璃二号面是 low-e 膜层， 四号面是镀膜玻璃的镀膜。 权 利 要 求 书 CN 103737999 A 3 1/7 页 4 一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法 技术领域 0001 本发明涉及一种镀膜玻璃， 更具体的涉及具有红。

12、外反射功能的镀膜玻璃及其制备 方法。 背景技术 0002 玻璃是主要用于门窗、 幕墙和汽车挡风的一种透明、 隔热保温的主要材料， 它是建 筑物或汽车中最薄、 最易传热的部分， 所以中空玻璃目前被广泛采用， 它是在玻璃与玻璃之 间留有一定的空腔 ； 因此， 具有良好的保温、 隔热、 隔声等性能。 但是这种中空玻璃热工性能 不强， 受到强烈震动或者冲击容易破碎， 也不具有净化室内空气功能。 目前热工性能最好的 low-e 中空玻璃产品， 其传热系数 U 值为 1.6W/m2.K 左右， 遮阳系数 Sc 为 0.3 上下 ； 在常规 中空玻璃结构情况下， 其热传导系数 U 值及遮阳系数 Sc 都很难。

13、再进一步降低。为了进一步 降低产品的 U 值， 通常的做法是通过改变中空厚度及在中空结构中充入惰性气体或增加基 片厚度等方式来降低其热传导系数， 但这无疑会增加产品的成本， 提高成品价格， 且对产品 性能提高有限， 不符合主流市场需求， 很难实现规模化生产。 另外一种提高产品热工性能的 做法是在中空玻璃二号面镀 low-e 膜层， 在 3# 面镀制热反射膜， 但此种方法仅对遮阳系数 Sc有所贡献， 对传热系数U值没有任何降低， 且只适合于南方夏季时间较长的地区使用。 而 在中空玻璃二号面和三号面都镀制 low-e 膜， 相对于只在二号面镀膜的产品， 仅对遮阳系 数Sc和传热系数U稍有贡献 （都。

14、只提高0.010.03） ， 对产品整体性能几乎没有影响， 根本 不具备现实生产意义。 通常情况下， 中空玻璃包括四个面， 由室外面至室内面依次包括一号 面、 二号面、 三号面和四号面。 发明内容 0003 本发明的目的是针对现有技术的技术缺陷， 本发明旨在提供一种具有红外反射功 能的镀膜玻璃， 为实现以上技术目标， 本发明采用以下技术方案 ： 0004 一种具有红外反射功能的镀膜玻璃， 包括 ： 玻璃基片和镀膜， 以所述玻璃基片为基 板， 所述镀膜由内向外的膜层结构为 ： 0005 第一电介质组合层膜， 所述第一电介质组合层膜为折射率 n 在 2.0 2.7 之间的 电介质材料 ； 0006。

15、 第二电介质组合层膜， 所述第二电介质组合层膜为折射率 n 在 1.4 1.8 之间的 电介质材料 ； 0007 第三层膜， 所述第三层膜为折射率 n 在 2.0 2.5 透明氧化物导电膜层 ； 0008 第四电介质组合层膜， 所述第四电介质组合层膜折射率 n 在 1.4 1.8 之间的电 介质材料 ； 0009 第五层膜 ； 0010 第六层膜， 所述第六膜层为阻挡保护层。 0011 进一步， 所述的第一电介质组合层膜为 SiNx、 TiOx 或 ZrOx 中的一种或几种组合。 说 明 书 CN 103737999 A 4 2/7 页 5 0012 进一步， 所述的第二电介质组合层膜为SiO。

16、x、 SiOxNy或ZrSiOx中的一种或几种组 合。 0013 进一步， 所述第三膜层为 ITO、 TNO 或 AZO 中的一种或几种组合。 0014 进一步， 所述的第四电介质组合层膜为 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 或 ZrSiNx 中的一种 或几种组合。 0015 进一步， 所述的第五膜层为 SiNx 或 TiOx。 0016 进一步， 所述的第六膜层为 SiC、 ZrOx 或 SiNx。 0017 进一步， 该第一电介质组合层膜厚度为 15-35nm， 第二电介质组合层膜厚度为 10-40nm， 第三层膜厚度为 80-500nm， 第四电介质组合层膜厚度为 15-45nm。

17、， 第五层膜厚度 为 10-35nm， ； 第六层膜厚度为 5-30nm。 0018 本发明还公开了具有红外反射功能的镀膜玻璃的制备方法， 包括如下步骤 ： 0019 步骤 1 ： 提供玻璃基片 ； 0020 步骤 2 ： 在该玻璃基片上沉积第一层电介质组合层膜SiNx、 TiOx 或 ZrOx 一种 或组合 ； 0021 步骤 3 ： 在第一层上沉积第二层电介质组合层膜SiOx、 SiOxNy 或 ZrSiOx 中的 一种或几种 ； 0022 步骤 4 ： 在第二层上沉积第三层透明氧化物导电层膜如 ITO、 TNO 或 AZO 中的 一种或组合 ； 0023 步骤 5 ： 在第三层上沉积第四。

18、层电介质组合层膜SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 或 ZrSiNx ； 0024 步骤 6 ： 在第四层上沉积第五层膜SiNx 或 TiOx ； 0025 步骤 7 ： 在第五层上沉积第六层膜SiC、 ZrOx 或 SiNx。 0026 进一步， 其中， 第一层电介质组合层膜中的 SiNx 的加工方法为中频电源加旋转阴 极溅射沉积， 其中工作气体是Ar,反应气体是N2， TiOx同样用中频电源旋转阴极溅射沉积， 工作气体为 Ar 气， ZrOx 用直流或中频电源反应溅射沉积， 工作气体 Ar， 反应气体 O2， 该层 的沉积后的范围是 15-35nm， 优选 20 30nm ； 002。

19、7 其中， 第二层电介质组合层膜中的 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 的加工方法为中频电 源加旋转阴极溅射沉积， 其中 SiOx、 ZrSiOx 工作气体是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl靶溅射 ； SiOxNy工作气体为Ar， 反应气体为O2和N2， 靶材使用SiAl靶 ； 该组合层的 沉积厚度范围是 10-40nm， 优选 15-25nm。 0028 其中， 第三膜层透明氧化物导电膜中的 ITO、 TNO、 AZO 中的一种或组合的加工方法 为 ITO、 TNO 为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体是 Ar 溅射， ITO、 TNO 为直流电。

20、 源溅射， 工作气体为纯 Ar 溅射， 沉积厚度范围是 80-500nm， 优选 100-350nm ； 0029 其中， 第四电介质组合层膜中的 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 的加工方法为中频电源加 旋转阴极溅射沉积， 其中 SiOx、 ZrSiOx 工作气体是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl 靶溅射， SiOxNy 工作气体为 Ar， 反应气体为 O2 和 N2， 靶材使用 SiAl 靶， 该组合层的沉积厚 度范围是 15-45nm， 优选 20-30nm ； 0030 其中， 第五膜层的SiNx或TiOx的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 。

21、其中 工作气体是 Ar, 反应气体是 N2 或 O2， SiNx 的沉积后的范围是 10-35nm， 优选 20-30nm。 说 明 书 CN 103737999 A 5 3/7 页 6 0031 其中， 第六膜层的 ZrOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气 体是 Ar, 反应气体是 O2， SiC 膜层制备方法为平面靶直流溅射， 溅射气体为纯 Ar， 该层的沉 积厚度的范围是 5-30nm， 优选 7-20nm。 0032 第三层膜为具有红外反射且具有低辐射性能的透明导电氧化物层， 且可以是组合 或三明治结构组合， 如 ITO+AZO+ITO 等。为了进一步降低辐射率，。

22、 提高红外反射， 根据所选 透明导电氧化物膜层的不同， 该组合层可以经过热处理来提高导电性， 降低辐射率。 0033 第五层膜主要是选择较高折射率材料， 并配合前面的膜层， 改善整体膜层的透过 率， 降低反射， 同时起到连接第四和第六层的作用， 增加膜层附着力及致密度。 0034 第六层膜， 主要是具有高硬度、 抗划伤、 耐酸碱腐蚀并对整体膜层具有保护性的膜 层。 0035 这种镀膜玻璃可以单层用于建筑物， 也可以作为中空玻璃， 室内层玻璃的面向室 内面， 也就是四号面。 通常中空玻璃包括四个面， 分别为一号面， 二号面， 三号面， 四号面， 一 号面是室外层玻璃的挨着空气的一面， 二号面是室。

23、外层玻璃的挨着中空腔体的一面， 三号 面是室内层玻璃挨着中空腔体的一面， 四号面是室内层玻璃挨着室内的一面。玻璃中空腔 体可以抽真空或充 10% 95% 的 Ar 气、 He 气等惰性气体。腔体厚度范围为 6 24mm。二 号面镀制 low-e 膜层， 该二号面 low-e 膜层辐射率 0.03 0.15， 可见光透过率 40% 87%， 四号面具有红外反射功能的镀膜玻璃的镀膜。 0036 作为中空玻璃四号面的镀膜， 配合二号面镀制 low-e 膜层， 将有效降低 Sc 及 U 值， 优化产品热工性能， 能满足和提升现有市场对建筑镀膜玻璃的需求。 0037 SC 值是节能指标， 也叫遮阳系数。。

24、 0038 遮阳系数 Sc ： 在相同条件下， 透过玻璃的太阳辐射能与透过 3 普通透明玻璃的 太阳辐射能之比 ( 透过 3 普通透明玻璃的太阳辐射能为 630W/m2)。遮阳系数 Sc 反映的 是太阳直接辐射透过玻璃的传热。不同遮阳系数的玻璃适合于不同气候的地区。 0039 遮阳系数 Sc= 太阳直接辐射能 630W/m2 0040 太阳直接辐射能 =630W/m2 遮阳系数 Sc 0041 遮阳系数Sc直接反映玻璃对阳光的遮蔽效果， 它体现的是玻璃的隔热性能。 Sc高 意味着透过玻璃进入室内的太阳辐射热多， 玻璃的隔热性能差。 0042 传热系数 ： 简称为 K 值或 U 值 （对于玻璃而。

25、言， 两者仅是简称不同而已） 。是建筑节 能设计标准对玻璃的重要限定值， 指在稳定传热条件下， 玻璃两侧空气温差为 1 度时， 单位 时间内， 通过 1 平方米玻璃的传热量， 以 W/m2K 或 W/m2表示。国外的 U 值以英制位表示为 Btu/hr/ft2/F， 英制单位 U 值乘以 5.678 的转换系数得到公制单位 U 值。传热系数越低， 说 明玻璃的保温隔热性能越好。单片普通玻璃的传热系数约为 5.8W/m2K。 0043 本发明一种镀膜玻璃膜层， 该膜层具有良好的红外反射功能外， 还具有抗氧化、 抗 酸碱腐蚀、 可钢化且可暴露在大气环境下， 实现可单片使用且具有红外反射特性的功能玻。

26、 璃产品， 同时可制成中空玻璃结构， 将有效降低 Sc 及 U 值， 优化产品热工性能， 能满足和提 升现有市场对建筑镀膜玻璃的需求。 0044 本发明的优点是 ： 本发明第一层电介质组为具有高折射率、 与玻璃基片结合力极 强且在钢化加热过程中能够阻挡 Na+ 扩散的电介质材料， 可以阻挡 Na+ 扩散的电介质材 料 ； 第二电介质组合层膜为具有较低折射率电介质材料， 如 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 中的一种 说 明 书 CN 103737999 A 6 4/7 页 7 或几种， 折射率范围为 1.4 1.8 ； 第三膜层为具有较高折射率的透明氧化物导电膜层， 如 ITO、 TN。

27、O、 AZO 中的一种或几种的组合， 其折射率为 2.0 2.5. ； 第四层电介质组合层膜， 为具有相对较低折射率的电介质材料， 如 SiOx、 SiOxNy、 ZrSiOx 或 ZrSiNx 中的一种或几种 的组合， 第六膜层为具有极强耐酸碱腐蚀性、 耐高温及极高硬度、 抗机械划伤的材料或组合 层， 如 SiC、 ZrOx、 SiNx 中的一种。由于采用了高 - 低 - 高折射率膜层结构搭配设计， 有效提 高整体膜层的透过率。该膜层具有良好的红外反射功能外， 还具有抗氧化、 抗酸碱腐蚀、 可 钢化且可暴露在大气环境下。 附图说明 ： 0045 图 1 是本发明的结构示意图 0046 图 2。

28、 是本发明应用的示意图 具体实施方式 0047 为了阐明本发明的技术方案及技术目的， 下面结合附图及具体实施方式对本发明 做进一步的介绍。 0048 如图所示， 本发明的具有红外反射功能的镀膜玻璃的结构为 ： 玻璃基片和镀膜， 以 所述玻璃基片为基板， 所述镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介质组合层膜， 第二电介质 组合层膜， 第三层膜， 第四层电介质组合膜， 第五层膜， 第六层膜。 0049 实施例 1 0050 本实施例镀膜玻璃的结构为包括 ： 玻璃基片和镀膜， 以所述玻璃基片为基板， 所述 镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介质组合层膜为 SiNx ； 第二电介质组合层膜为 SiO。

29、x ； 第三层膜为 ITO ； 第四层电介质组合膜为 SiOxNy ； 第五层膜为 SiNx ； 第六层膜为 ZrOx。 0051 所述的第一电介质组合层膜是 15nm ； 0052 所述的第二电介质组合层膜厚度是 25nm ； 0053 所述的第三层膜厚度是 80nm ； 0054 所述的第四层电介质组合膜厚度是 45nm ； 0055 所述的第五层膜厚度是 10nm ； 0056 所述的第六层膜厚度是 30nm ； 0057 其中， 第一层的 SiNx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2， SiNx 的沉积后的厚度是 15nm ； 0058。

30、 其中， 第二层的 SiOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶溅射， SiOx 的沉积后的厚度是 25nm ； 0059 其中， 第三层的 ITO 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2 和 O2， ITO 的沉积后的厚度是 80nm ； 0060 其中， 第四层的 SiOxNy 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气 体是 Ar, 反应气体是 N2 和 O2， SiOxNy 的沉积后的厚度是 40nm ； 0061 其中， 第五层的 SiNx 的加工方法为中频电。

31、源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2， SiNx 的沉积后的厚度是 10nm ； 0062 其中， 第六层的 ZrOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 说 明 书 CN 103737999 A 7 5/7 页 8 是 Ar, 反应气体是 O2， ZrOx 的沉积后的厚度是 30nm。 0063 实施例 2 0064 本实施例镀膜玻璃的结构为包括 ： 玻璃基片和镀膜， 以所述玻璃基片为基板， 所述镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介质组合层膜为 TiOx ； 第二电介质组合层膜为 SiOxNy ； 第三层膜为 TNO ； 第四层电介质组合膜。

32、为 ZrSiOx ； 第五层膜为 TiOX ； 第六层膜为 ZrOx。 0065 所述的第一电介质组合层膜是 35nm ； 0066 所述的第二电介质组合层膜厚度是 40nm ； 0067 所述的第三层膜厚度是 500nm ； 0068 所述的第四层电介质组合膜厚度是 15nm ； 0069 所述的第五层膜厚度是 20nm ； 0070 所述的第六层膜厚度是 5nm ； 0071 其中， 第一层的 TiOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2， TiOx 的沉积后的厚度是 35nm ； 0072 其中， 第二层的 SiOxNy 的加工方法为中频。

33、电源加旋转阴极溅射沉积， 其中， 作气 体为 Ar， 反应气体为 O2和 N2， 靶材使用 SiAl 靶， SiOxNy 沉积后的厚度为 40nm ； 0073 其中， 第三层的 TNO 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2 和 O2， TNO 的沉积后的厚度是 500nm ； 0074 其中， 第四电介质组合层膜中的 ZrSiOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射 沉积， 其中工作气体是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl 靶溅射， 沉积后的厚度是 15nm ； 0075 其中， 第五层的 TiOX的加工方法为中频电。

34、源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 N2， TiOX的沉积后的厚度是 20nm ； 0076 其中， 第六层的 ZrOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar, 反应气体是 O2， ZrOx 的沉积后的厚度是 5nm。 0077 实施例 3 0078 本实施例镀膜玻璃的结构为包括 ： 玻璃基片和镀膜， 以所述玻璃基片为基板， 所述 镀膜由内向外的膜层结构为 ： 第一电介质组合层膜为 ZrOx ； 第二电介质组合层膜为 SiOx ； 第三层膜为 ITO ； 第四层电介质组合膜为 SiOx ； 第五层膜为 SiNx ； 第六层膜为 SiC。 0。

35、079 所述的第一电介质组合层膜是 35nm ； 0080 所述的第二电介质组合层膜厚度是 15nm ； 0081 所述的第三层膜厚度是 100nm ； 0082 所述的第四层电介质组合膜厚度是 20nm ； 0083 所述的第五层膜厚度是 35nm ； 0084 所述的第六层膜厚度是 30nm ； 0085 其中， 第一层的 ZrOx 用直流或中频电源反应溅射沉积， 工作气体 Ar， 反应气体 O2， 该层的沉积后的范围是 35nm ； 0086 其中， 第二层的SiOx的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中SiOx工作 气体是 Ar， 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrS。

36、iAl 靶溅射 15nm ； 说 明 书 CN 103737999 A 8 6/7 页 9 0087 其中， 第三层的 ITO 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar 溅射， ITO 为直流电源溅射， 工作气体为纯 Ar 溅射， 沉积厚度范围是 100-nm ； 0088 其中， 第四电介质组合层膜中的 SiOx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉 积， 其中 SiOx 工作气体是 Ar, 反应气体是 O2， 用 SiAl 靶及 ZrSiAl 靶溅射 20nm ； 0089 其中， 第五层的 SiNx 的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积， 其中工作气体 是 Ar。

37、, 反应气体是 N2， SiNx 的沉积后的厚度是 35nm ； 0090 其中， 第六层的 SiC 膜层制备方法为平面靶直流溅射， 溅射气体为纯 Ar， 该层的沉 积厚度的范围是 30nm。 0091 实施例 4-6 单层镀膜玻璃检测指标 0092 说 明 书 CN 103737999 A 9 7/7 页 10 0093 实施例 7 0094 如图 2 所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 1 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 12nm。 0095 实施例 8 0096 如图 2 。

38、所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 2 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 12nm。 0097 实施例 9 0098 如图 2 所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 3 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 12nm。 0099 实施例 10 0100 如图 2 所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 。

39、1 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 9nm。 0101 实施例 11 0102 如图 2 所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 2 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 9nm。 0103 实施例 12 0104 如图 2 所述的中空玻璃的结构， 与室外接触的室外玻璃层的二号面镀一层 low-e 膜层， 与室内接触的室内玻璃使用实施例 3 的镀膜玻璃， 镀膜面接触室内空气， 两层玻璃之 间的中空腔体的厚度是 9nm。 0105 以上对本发明的实施例进行了详细说明， 但所述内容仅为本发明的较佳实施例， 并不用以限制本发明。 凡在本发明的申请范围内所做的任何修改、 等同替换和改进等， 均应 包含在本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 103737999 A 10 1/1 页 11 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103737999 A 11 。