磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 103343322 A (43)申请公布日 2013.10.09 CN 103343322 A *CN103343322A* (21)申请号 201310274710.9 (22)申请日 2013.07.02 C23C 14/35(2006.01) C23C 14/56(2006.01) (71)申请人 南昌欧菲光科技有限公司 地址 330000 江西省南昌市南昌经济技术开 发区黄家湖路 申请人 深圳欧菲光科技股份有限公司 苏州欧菲光科技有限公司 (72)发明人 李晨光 徐少东 (74)专利代理机构 广州华进联合专利商标代理 有限公司 44224 代理人 邓云鹏 (5。

2、4) 发明名称 磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 (57) 摘要 一种磁控溅射靶材护罩， 包括绝缘柱、 第一护 罩和至少一第二护罩， 第一护罩通过绝缘柱固定 于镀膜腔室内壁， 第一护罩开设有第一通孔以引 导沉积物等杂质通过落入镀膜腔室内壁， 第二护 罩可拆卸地安装于第一护罩端部， 与第一护罩形 成收容腔以收容阴极靶材 ； 上述磁控溅射靶材护 罩， 镀膜过程中产生的沉积物等杂质从第一通孔 落入镀膜腔室内壁， 降低了清洁难度 ； 第二护罩 可拆卸下来进行清洁， 也降低了清洁难度， 从而避 免了阴极靶材打火现象， 提高了产品的品质。 同时 提供一种应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷 绕镀膜设备。

3、。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 6 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 (10)申请公布号 CN 103343322 A CN 103343322 A *CN103343322A* 1/1 页 2 1. 一种磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 包括 ： 绝缘柱， 所述绝缘柱的一端固定于镀膜腔室内壁 ； 第一护罩， 呈板状结构， 所述第一护罩与所述绝缘柱的另一端连接， 以使所述第一护罩 固定于所述镀膜腔室内壁， 所述第一护罩开设有第一通孔， 所述第一通孔可引导沉积物等 杂质通过以落入所述镀膜腔室。

4、内壁 ； 第二护罩， 呈板状结构， 所述第二护罩的数量为至少一个， 所述第二护罩可拆卸地安装 于所述第一护罩端部， 所述第一护罩和所述第二护罩形成收容腔， 所述收容腔用于收容阴 极靶材。 2. 根据权利要求 1 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第一通孔为长条形孔。 3. 根据权利要求 2 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第一通孔位于所述第 一护罩的边缘。 4. 根据权利要求 3 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第一护罩的侧面为长 方形， 所述第一通孔沿长方形的长边延伸。 5. 根据权利要求 1 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第一护罩上还开设有 。

5、第二通孔， 所述绝缘柱穿设所述第二通孔连接于所述阴极靶材。 6. 根据权利要求 1 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第二护罩通过螺纹紧 固件安装于所述第一护罩的端部。 7. 根据权利要求 1 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 还包括楔形条， 所述楔形条 可拆卸地安装于所述第二护罩远离所述第一护罩的一端， 所述阴极靶材位于所述楔形条和 所述第一护罩之间。 8. 根据权利要求 1 所述的磁控溅射靶材护罩， 其特征在于， 所述第一护罩和所述第二 护罩均为金属护罩。 9. 一种磁控溅射卷绕镀膜设备， 用于在柔性基材上溅射镀膜， 其特征在于， 包括 ： 镀膜辊， 所述镀膜辊用于卷绕基材。

6、 ； 至少两个阴极靶材， 相邻两个所述阴极靶材呈预定角度设置， 所述阴极靶材包括溅射 面和与所述溅射面相对的背面， 所述阴极靶材通过所述溅射面溅射靶原子至基材 ； 定位装置， 为直三棱柱形， 所述定位装置位于相邻两个所述阴极靶材之间， 所述定位装 置的两相邻侧面分别垂直于相邻两个所述阴极靶材所在的平面 ； 至少两个阴极靶材底座， 所述阴极靶材卡嵌于所述阴极靶材底座， 以支撑所述阴极靶 材， 及 至少两个如权利要求 1 至 8 中任意一项所述的磁控溅射靶材护罩， 所述相邻两个磁控 溅射靶材护罩分别位于所述定位装置两侧， 相邻两个所述第一护罩的一端固定于所述定位 装置的一侧。 10. 根据权利要求。

7、 9 所述的磁控溅射卷绕镀膜设备， 其特征在于， 所述定位装置的底部 设有定位装置底座， 所述定位装置底座为楔形块状， 所述定位装置底座的两相对侧面凹设 有凹槽， 相邻两个所述第一护罩分别插设于定位装置底座两侧的凹槽。 权 利 要 求 书 CN 103343322 A 2 1/6 页 3 磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 技术领域 0001 本发明涉及磁控溅射领域， 特别是涉及一种磁控溅射靶材护罩及应用该磁控溅射 靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备。 背景技术 0002 触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备， 具有直观、 简单、 快捷的优点。 触摸屏在许多电子产品中已经获得了广泛的应用。

8、， 比如手机、 个人数字助理 （Personal Digital Assistant， PDA） 、 多媒体、 公共信息查询系统等。 0003 触摸屏的导电膜可以通过磁控溅射卷绕镀膜设备来制备。 磁控溅射是在阴极靶材 的表面上方形成一个正交电磁场。 当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电 子后， 并不直接飞向阳极， 而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。 高能电 子不断与气体分子发生碰撞并向气体分子转移能量使之电离， 而高能电子本身变成低能电 子。这些低能电子最终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收， 避免高能电子对极 板的强烈轰击， 消除了二极溅射中极板被轰击加热和。

9、被电子辐照引起损伤的根源， 体现磁 控溅射中极板 “低温” 的特点。 0004 然而在磁控溅射镀膜过程中， 容易产生沉积物等杂质， 产生的沉积物等杂质落入 靶材下方积累于水平护罩表面， 溅射时间越长， 沉积物越多， 清洁时该沉积物很难被清洁彻 底。 这些沉积物等杂质颗粒在溅射镀膜的过程中放电， 放电时产生电火花， 极易造成阴极靶 材打火现象， 严重影响产品品质。 发明内容 0005 基于此， 有必要针对沉积物难以被清洁容易造成阴极靶材打火现象的问题， 提供 一种沉积物容易被清洁的磁控溅射靶材护罩及应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕 镀膜设备。 0006 一种磁控溅射靶材护罩， 包括 ： 00。

10、07 绝缘柱， 所述绝缘柱的一端固定于镀膜腔室内壁 ； 0008 第一护罩， 呈板状结构， 所述第一护罩与所述绝缘柱的另一端连接， 以使所述第一 护罩固定于所述镀膜腔室内壁， 所述第一护罩开设有第一通孔， 所述第一通孔可引导沉积 物等杂质通过以落入所述镀膜腔室内壁 ； 0009 第二护罩， 呈板状结构， 所述第二护罩的数量为至少一个， 所述第二护罩可拆卸地 安装于所述第一护罩端部， 所述第一护罩和所述第二护罩形成收容腔， 所述收容腔用于收 容阴极靶材。 0010 在其中一个实施例中， 所述第一通孔为长条形孔。 0011 在其中一个实施例中， 所述第一通孔位于所述第一护罩的边缘。 0012 在其。

11、中一个实施例中， 所述第一护罩的侧面为长方形， 所述第一通孔沿长方形的 长边延伸。 说 明 书 CN 103343322 A 3 2/6 页 4 0013 在其中一个实施例中， 所述第一护罩上还开设有第二通孔， 所述绝缘柱穿设所述 第二通孔连接于所述阴极靶材。 0014 在其中一个实施例中， 所述第二护罩通过螺纹紧固件安装于所述第一护罩的端 部。 0015 在其中一个实施例中， 还包括楔形条， 所述楔形条可拆卸地安装于所述第二护罩 远离所述第一护罩的一端， 所述阴极靶材位于所述楔形条和所述第一护罩之间。 0016 在其中一个实施例中， 所述第一护罩和所述第二护罩均为金属护罩。 0017 一种磁。

12、控溅射卷绕镀膜设备， 用于在柔性基材上溅射镀膜， 包括 ： 0018 镀膜辊， 所述镀膜辊用于卷绕基材 ； 0019 至少两个阴极靶材， 相邻两个所述阴极靶材呈预定角度设置， 所述阴极靶材包括 溅射面和与所述溅射面相对的背面， 所述阴极靶材通过所述溅射面溅射靶原子至基材 ； 0020 定位装置， 为直三棱柱形， 所述定位装置位于相邻两个所述阴极靶材之间， 所述定 位装置的两相邻侧面分别垂直于相邻两个所述阴极靶材所在的平面 ； 0021 至少两个阴极靶材底座， 所述阴极靶材卡嵌于所述阴极靶材底座， 以支撑所述阴 极靶材， 及 0022 至少如以上所述的磁控溅射靶材护罩， 所述相邻两个磁控溅射靶材。

13、护罩分别位于 所述定位装置两侧， 相邻两个所述第一护罩的一端固定于所述定位装置的一侧。 0023 在其中一个实施例中， 所述定位装置的底部设有定位装置底座， 所述定位装置底 座为楔形块状， 所述定位装置底座的两相对侧面凹设有凹槽， 相邻两个所述第一护罩分别 插设于定位装置底座两侧的凹槽。 0024 上述磁控溅射靶材护罩工作时， 溅射镀膜过程中产生的大部分沉积物等杂质随时 落在第一护罩上， 落下时大部分经由第一护罩的第一通孔掉落于镀膜腔室内壁 ； 同时在溅 射过程中， 偏离预定方向而不向基材方向运动的粒子沉积于第二护罩上 ； 在镀膜完成后， 可采用吸尘器等对镀膜腔室内壁进行清洁， 溅射阴极采用气。

14、枪由阴极靶材旁边的狭缝内吹 入， 将沉积物等杂质清洁干净 ； 因沉积物等杂质通过第一护罩的第一通孔落入镀膜腔室内 壁， 而清洁镀膜腔室内壁的难度低于直接清洁第一护罩 ； 又第二护罩可拆卸地安装于第一 护罩的端部， 故而清洁时可将第二护罩拆卸下来 ； 故而上述磁控溅射靶材护罩使沉积物等 杂质容易被清洁， 从而避免了阴极靶材打火现象， 提高了产品的品质。 0025 上述应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备工作时， 溅射镀膜过程中 定位装置正对于镀膜辊， 位于定位装置两侧的阴极靶材呈预定角度， 保证阴极靶材正对于 需要被镀膜的基材表面 ； 镀膜时产生的沉积物等杂质随时落在第一护罩上， 落下时。

15、大部分 经由第一护罩的第一通孔掉落于镀膜腔室内壁 ； 同时溅射镀膜过程中， 偏离预定方向而不 向基材方向运动的粒子沉积于第二护罩上 ； 在镀膜完成后， 可采用吸尘器等对镀膜腔室内 壁进行清洁， 溅射阴极采用气枪由靶材旁边的狭缝内吹入， 将沉积物等杂质清洁干净 ； 因沉 积物等杂质通过第一护罩的第一通孔落入镀膜腔室内壁， 而清洁镀膜腔室内壁的难度低于 直接清洁第一护罩 ； 又第二护罩可拆卸地安装于第一护罩的端部， 故而清洁时可将第二护 罩拆卸下来 ； 故而上述应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备使沉积物等杂质 容易被清洁， 从而避免了阴极靶材打火现象， 提高了产品的品质。 说 明 书 C。

16、N 103343322 A 4 3/6 页 5 附图说明 0026 图 1 为磁控溅射卷绕镀膜设备的结构示意图 ； 0027 图 2 为图 1 中磁控溅射靶材护罩的结构示意图 ； 0028 图 3 为图 2 中第一护罩的结构示意图。 具体实施方式 0029 为使本发明的上述目的、 特征和优点能够更加明显易懂， 下面结合附图对本发明 的具体实施方式做详细的说明。 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发 明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施， 本领域技术人员可以在不 违背本发明内涵的情况下做类似改进， 因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。 0030 需要说明的是，。

17、 当元件被称为 “固定于” 另一个元件， 它可以直接在另一个元件上 或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是 “连接” 另一个元件， 它可以是直接连接 到另一个元件或者可能同时存在居中元件。 0031 除非另有定义， 本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的 技术人员通常理解的含义相同。 本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具 体的实施例的目的， 不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语 “及或” 包括一个或多个 相关的所列项目的任意的和所有的组合。 0032 一实施方式的磁控溅射卷绕镀膜设备 100， 包括镀膜辊 110、 至少两个阴极靶材 120、 定位装置 。

18、130、 至少两个阴极靶材底座 140 及至少两个磁控溅射靶材护罩 200。请参阅 图 1， 为包括镀膜辊 110、 两个阴极靶材 120、 定位装置 130、 两个阴极靶材底座 140 及两个磁 控溅射靶材护罩 200 的的结构示意图。 0033 具体地， 镀膜辊 110 用于卷绕基材 300， 可位于阴极靶材 120 上方。镀膜辊 110 可 为圆柱形。基材 300 可为 PET 薄膜。镀膜时基材 300 卷绕于镀膜辊 110， 阴极靶材 120 的溅 射面 122 正对于基材 300 表面。当然， 在其它的实施例中， 镀膜辊 110 也可以位于阴极靶材 120 下方， 只要保证阴极靶材 。

19、120 的溅射面 122 正对与镀膜辊 110 即可， 即阴极靶材 120 的 溅射面 122 正对基材 300 表面。 0034 两个阴极靶材120呈预定角度设置， 阴极靶材120包括溅射面122及与溅射面122 相对的背面 124， 阴极靶材 120 通过溅射面 122 溅射靶原子至待镀膜的基材 300。在镀膜过 程中， 基材 300 的一部分卷绕于镀膜辊 110， 故基材 300 呈圆弧形状。因为阴极靶材 120 正 对基材 300， 故而位于定位装置 130 两侧的阴极靶材 120 呈一定角度设置， 角度随基材 300 形成的弧度大小而定。基材 300 形成的弧度越大， 则两阴极靶材 。

20、120 形成的角度越大 ； 基材 300 形成的弧度越小， 两阴极靶材 120 形成的角度越小。 0035 阴极靶材底座 140 用以支撑阴极靶材 120。阴极靶材 120 卡嵌于阴极靶材底座 140。 可在阴极靶材120背面124周缘凸设凸边1242， 在阴极靶材底座140凹设收容槽142， 收容槽的侧壁凹设卡槽 1422。当阴极靶材 120 安装于阴极靶材底座 140 时， 阴极靶材 120 周缘的凸边 1242 卡嵌于卡槽 1422， 阴极靶材 120 收容于收容槽 142。当然， 也可以在阴极 靶材底座 140 表面凹设凹槽， 在阴极靶材背面 124 凸设凸起， 凸起插设于凹槽中， 使。

21、阴极靶 材 120 卡嵌于阴极靶材底座 140 上。 0036 具体地， 定位装置 130 为直三棱柱形。定位装置 130 的横截面可以为等腰三角形， 说 明 书 CN 103343322 A 5 4/6 页 6 三角形顶角的角平分线延长线相交于镀膜辊 110 的中心轴。即定位装置 130 正对于镀膜 辊 110。当然， 在其它的实施例中， 定位装置 130 的横截面还可以为等边三角形。定位装置 130位于相邻两个阴极靶材120之间， 且定位装置130的两相邻侧面132分别垂直于相邻两 个阴极靶材 120 所在的平面。设置定位装置 130 的目的是为了保证阴极靶材 120 的溅射面 122 正。

22、对基材 300， 从而保证阴极靶材 120 溅射出的靶原子均匀地沉积于基材 300 表面。 0037 具体地， 还可以在定位装置 130 的底部设有定位装置底座 160， 定位装置底座 160 为楔形块状， 定位装置底座 160 的两相对侧面凹设有凹槽 162， 两个第一护罩 220 分别插设 于定位装置底座 160 两侧的凹槽 162。凹槽 162 的开口方向与第一护罩 220 的角度相同， 保 证第一护罩 220 正对于阴极靶材 120 的背面。 0038 与至少两个阴极靶材 120 对应， 磁控溅射靶材护罩 200 也可以设置至少两个。请 参阅图 2 和图 3， 分别为设置两个磁控溅射靶。

23、材护罩 200 时， 磁控溅射靶材护罩 200 和第一 护罩 220 的结构示意图。 0039 磁控溅射靶材护罩 200 包括绝缘柱 210、 第一护罩 220 及第二护罩 230。 0040 绝缘柱 210 的一端固定于镀膜腔室内壁 150。 0041 第一护罩 220 呈板状结构， 可正对于阴极靶材 120 的背面 124。第一护罩 220 与绝 缘柱 210 的另一端连接， 以使第一护罩 220 固定于镀膜腔室内壁 150。第一护罩 220 开设有 至少一第一通孔 222。第一通孔 222 可引导沉积物等杂质通过以落入镀膜腔室内壁 150。 0042 具体地， 第一通孔 222 可以为长。

24、条形孔， 长条形孔的开口面积大， 有利于引导沉积 物等杂质通过第一通孔 222 落入镀膜腔室内壁 150 上， 减小了沉积物沉积在第一护罩 220 表面的概率， 从而减小了清洁的难度。 当然， 在其它的实施例中， 还可以为其它形状的孔， 只 要有利于沉积物等杂质通过即可。 0043 具体地， 第一通孔 222 位于第一护罩 220 的边缘。因为阴极靶材 120 在溅射镀膜 的过程中产生的沉积物等杂物一般落在第一护罩 220 上， 而一般第一护罩 220 的横截面积 要稍大于阴极靶材120的横截面积， 故而沉积物等杂质一般落在第一护罩220的边缘部分， 故而将第一通孔 222 设置在第一护罩 2。

25、20 的边缘， 有利于提高沉积物等杂质通过第一通孔 222的概率， 从而减小了清洁难度。 当然， 在其它的实施例中， 还可以在第一护罩220的中间 部分也开设有第一通孔 222。 0044 具体地， 第一护罩 220 的侧面为长方形， 第一通孔 222 沿长方形的长边延伸。因为 第一护罩 220 的侧面大致为长方形， 以第一护罩 220 的一条边为例， 长条形的第一通孔 222 沿长方形的长边延伸， 形成与该边平行的长条形孔。 在需要同等开口面积的情况下， 有利于 降低第一通孔 222 的个数， 从而降低工艺要求。当然， 在其它的实施例中， 第一通孔还可以 沿任意方向延伸设置。 0045 具体。

26、地， 可在第一护罩 220 开设第二通孔 224， 绝缘柱 210 穿设第二通孔 224 连接 于阴极靶材。第二通孔 224 可以为圆形孔， 绝缘柱 210 为圆柱体状。在其他的实施例中， 第 二通孔 224 还可以为其它形状如矩形、 正方形、 长方形等， 而绝缘柱 210 的横截面为与第二 通孔 224 相同的形状， 使绝缘柱 210 与第二通孔 224 形状匹配即可。当然， 还可以不设置第 二通孔 224， 而使绝缘柱 210 与第一护罩 220 一体成型， 也能实现将第一护罩 220 固定于镀 膜腔室内壁 150。 0046 第二护罩230具体地可为板状结构， 第二护罩230的数量可为至。

27、少一个。 第二护罩 说 明 书 CN 103343322 A 6 5/6 页 7 230 可拆卸地安装于第一护罩 220 的端部， 可垂直于阴极靶材 120 所在的平面， 也可以与阴 极靶材 120 所在的平面呈其它角度设置。当第一护罩 220 平行正对于阴极靶材 120 时， 也 垂直第一护罩 220 所在的平面。第一护罩 220 和第二护罩 230 形成一收容腔， 阴极靶材 120 收容于该收容腔内。 当第二护罩230的数量为一个时， 可位于第一护罩220的左面、 右面、 前 面或后面中的任意一面， 且第二护罩 230 与阴极靶材 120 位于第一护罩 220 的同一侧。第 二护罩 230。

28、 可使偏离预定方向而不向基材 300 方向运动的粒子沉积于第二护罩 230 上， 是 为了防止溅射出的粒子往边缘扩散。第二护罩 230 的数量当然还可以为两个或三个。当第 二护罩 230 的数量为大于一个时， 第二护罩 230 间可以可拆卸地连接， 也可以一体成型。 0047 当第二护罩230的数量为三个时， 三个第二护罩230可位于三个不同的面， 第二护 罩230、 第一护罩220及位于第一护罩220侧面的定位装置130围绕成一具有开口面的盒状 结构， 阴极靶材 120 与阴极靶材底座 140 收容于盒状结构中。 0048 第二护罩 230 可拆卸地安装在第一护罩 220 的周缘， 当清洁时。

29、， 可将第二护罩 230 拆卸下来清洁， 降低了清洁难度。 0049 具体地， 第二护罩 230 可通过螺纹紧固件安装于第一护罩 220 的一端。当第二护 罩 230 的数量为大于一个时， 第二护罩 230 间也可以通过螺纹紧固件连接。螺纹紧固件可 以为螺钉， 当然也可以为铆钉、 销等。当然， 当第二护罩 230 的数量为大于一个时， 第二护罩 230 间也可以一体成型。 0050 具体地， 磁控溅射靶材护罩 200 还可以包括楔形条 240， 楔形条 240 可拆卸地安装 于第二护罩 230 远离第一护罩 220 的一端， 阴极靶材 120 位于楔形条 240 和第一护罩 220 之间。具体。

30、到本实施例中， 楔形条 240 可通过螺纹紧固件安装于第二护罩 230 远离第一护 罩 220 的一端， 安装方便。螺纹紧固件可以为螺钉， 当然也可以为铆钉、 销等。楔形条 240 可以卡在阴极靶材 120 安装座上， 以避免第二护罩 230 发生倾斜。 0051 在其它的实施例中， 还可以设置三个或三个以上阴极靶材 120， 对应地， 每个阴极 靶材 120 位于一个阴极靶材底座 140 上， 相邻两个阴极靶材 120 之间设置定位装置 130。相 邻两个阴极靶材 120 呈一定角度设置， 角度随基材 300 所成弧度大小而定。对应地， 设有三 个或三个以上磁控溅射靶材护罩 200。每个阴极。

31、靶材 120 收容于由第一护罩 220 和第二护 罩 230 所形成的收容腔。 0052 上述磁控溅射靶材护罩200和应用该磁控溅射靶材护罩200的磁控溅射卷绕镀膜 设备 100 工作时， 因为第一护罩 220 开设有第一通孔 222， 在溅射镀膜过程中产生的沉积物 等杂质落在第一护罩 220 上， 落下时大部分经由第一护罩 220 的第一通孔 222 掉落于镀膜 腔室内壁 150 ； 同时在溅射过程中， 偏离预定方向而不向基材 300 方向运动的粒子沉积于第 二护罩 230 上 ； 在镀膜完成后， 可采用吸尘器等对镀膜腔室内壁 150 进行清洁， 溅射阴极采 用气枪由靶材旁边的狭缝内吹入， 。

32、将沉积物等杂质清洁干净 ； 因沉积物等杂质通过第一护 罩220的第一通孔222落入镀膜腔室内壁150， 而清洁镀膜腔室内壁150的难度低于直接清 洁第一护罩 220 ； 又第二护罩 230 可拆卸地安装于第一护罩 220 的端部， 故而清洁时可将第 二护罩 230 拆卸下来 ； 故而沉积物等杂质容易被清洁， 从而避免了阴极靶材 120 打火现象， 提高了产品的品质。 0053 请参阅图 3， 具体到本实施例中， 相邻两第一通孔 222 可轴对称地位于第二通孔 224 的两侧。第二通孔 224 用来穿设绝缘柱 210 以使第一护罩 220 固定于镀膜腔室内壁 说 明 书 CN 103343322。

33、 A 7 6/6 页 8 150， 第一通孔 222 对称地设置在第二通孔 224 两侧， 从而使第一通孔 222 均匀地分布， 有利 于镀膜过程中产生的沉积物等杂质均匀地通过第一通孔 222。 0054 具体到本实施例中， 所述第一护罩 220 和第二护罩 230 均可以为金属护罩。利用 了金属具有良好导电性这一特征。具体地， 可以为铝等金属。 0055 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式， 其描述较为具体和详细， 但并 不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是， 对于本领域的普通技术人员 来说， 在不脱离本发明构思的前提下， 还可以做出若干变形和改进， 这些都属于本发明的保 护范围。因此， 本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。 说 明 书 CN 103343322 A 8 1/2 页 9 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103343322 A 9 2/2 页 10 图 3 说 明 书 附 图 CN 103343322 A 10 。