《一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置.pdf（5页完整版）》请在专利查询网上搜索。
1、(10)申请公布号 CN 102986649 A (43)申请公布日 2013.03.27 CN 102986649 A *CN102986649A* (21)申请号 201210550808.8 (22)申请日 2012.12.18 A01N 1/02(2006.01) (71)申请人 武汉大学 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武 汉大学 (72)发明人 叶啟发 乔兵兵 彭贵主 元文勇 孙培龙 (74)专利代理机构 武汉科皓知识产权代理事务 所 ( 特殊普通合伙 ) 42222 代理人 温珊姗 沈林华 (54) 发明名称 一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置 (57) 摘要 一。
2、种用于自体肝移植术的离体连续灌注装 置， 包括用于存放和切除肝脏的切肝台、 储液罐 和 Y 形管， 所述 Y 形管一端包括位于切肝 台内的肝动脉灌注管和门静脉灌注管， 所 述 Y 形管另一端和储液罐相连通 ； 所述 Y 形 管上还设置有恒流泵。其优点是 ： 利用本发 明装置进行机器连续低温灌注， 既能供给肝脏在 低温下代谢所需的基本营养， 又能清除其代谢所 产生废物， 并可以随时往灌注液中加入各种所需 的药物， 能纠正单纯静态低温灌注法所带来的不 良因素， 可以明显改善残肝的功能， 从而延长保存 时间。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页 (19)中华人民。
3、共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页 1/1 页 2 1. 一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 包括用于存放和切除肝脏的切肝台 和储液罐， 其特征在于 ： 还包括 Y 形管， 所述 Y 形管一端包括位于切肝台内的肝动 脉灌注管和门静脉灌注管， 所述Y形管另一端和储液罐相连通 ； 所述Y形管上还 设置有恒流泵。 2. 如权利要求 1 所述的用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 其特征在于 ： 所述的 肝动脉灌注管、 门静脉灌注管上分别设有单向输液阀。 3. 如权利要求 1 或 2 所述的用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 其特征在于。
4、 ： 所 述的 Y 形管上设置有压力及阻力感应器， 所述的压力及阻力感应器与设置在储液罐 内的控制芯片相连。 4. 如权利要求 1 或 2 所述的用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 其特征在于 ： 所 述的储液罐上还设置有温度感应器， 所述的温度感应器与设置在储液罐内的控制芯片相 连。 权 利 要 求 书 CN 102986649 A 2 1/2 页 3 一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置 技术领域 0001 本发明涉及医疗器械技术领域， 具体的说是一种用于自体肝移植术的离体连续灌 注装置。 背景技术 0002 自体肝移植 （Auto liver transplantation， ALT。
5、） 技术是目前肝脏外科最尖端、 难度系数最大的一种外科技术， 它是在肝脏发生常规方法难以切除的占位性病变时， 将肝 脏半离体或全部移出体外， 在低温灌注条件下切除占位性病灶， 然后修整保留肝脏再植入 体内的一种外科技术。它是复杂肝切除技术、 器官低温灌注保存技术、 体外静脉转流技术、 肝移植血管吻合技术的结合。 与尸体肝移植相比， 自体肝移植术后不需免疫抑制剂治疗， 降 低了治疗费用， 并减少恶性肿瘤复发转移机会， 进一步提高了病人生活质量， 具有重要的社 会和经济效益。 术后发生残肝功能紊乱和肝功能衰竭都与术中静态低温灌注后的再灌注损 伤相关， 也是限制这种手术普及发展的瓶颈， 如何防治术后。
6、严重缺血再灌注损伤已成为自 体肝移植的目前研究的重要课题。 0003 传统的静态低温灌注法是目前自体肝移植术中灌注的主要方法， 但由于肝细胞内 氧自由基过量产生及钙离子超载等一系列原因， 会造成离体肝脏低温保存 - 再灌注过程中 肝功能恢复延迟， 甚至肝脏功能急性衰竭。国内目前尚且未见专用的自体肝移植术中离体 连续灌注装置。 发明内容 0004 本发明的目的是提供一种用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 该装置专用于 离体肝脏灌注保存， 使用方便， 结构简单， 能够延长保存时间。 0005 本发明用于自体肝移植术的离体连续灌注装置， 包括 ： 用于存放和切除肝脏的切 肝台 1、 储液罐 2 和。
7、 Y 形管 3， 所述 Y 形管 3 一端包括位于切肝台 1 内的肝动脉灌注管 4 和 门静脉灌注管 5， 所述 Y 形管 3 另一端和储液罐 2 相连通 ； 所述 Y 形管 3 上还设置有恒流泵 6。 0006 所述的肝动脉灌注管 4、 门静脉灌注管 5 上分别设有单向输液阀 7。 0007 所述的Y形管3上设置有压力及阻力感应器8， 所述的压力及阻力感应器与设置在 储液罐 2 内的控制芯片相连。 0008 所述的储液罐 2 上还设置有温度感应器， 所述的温度感应器与设置在储液罐内的 控制芯片相连。 0009 本发明用于自体肝移植术的离体连续灌注装置的优点是 ： 利用本发明装置进行机 器连续。
8、低温灌注， 既能供给肝脏在低温下代谢所需的基本营养， 又能清除其代谢所产生废 物， 并可以随时往灌注液中加入各种所需的药物， 能纠正单纯静态低温灌注法所带来的不 良因素， 可以明显改善残肝的功能， 从而延长保存时间。 说 明 书 CN 102986649 A 3 2/2 页 4 附图说明 0010 图 1 为用于自体肝移植术的离体连续灌注装置的结构示意图。 0011 其中 ： 1 为切肝台， 2 为储液罐， 3 为 Y 形管， 4 为肝动脉灌注管， 5 为门静脉灌注管， 6 为恒流泵， 7 为单向输液阀， 8 为压力及阻力感应器。 具体实施方式 0012 下面结合附图， 对本发明进行进一步说明。
9、 ： 如图 1 所示， 一种用于自体肝移植术的 离体连续灌注装置， 包括 ： 用于存放和切除肝脏的切肝台 1、 储液罐 2 和 Y 形管 3， 所述 Y 形 管 3 一端包括位于切肝台 1 内的肝动脉灌注管 4 和门静脉灌注管 5， 所述 Y 形管 3 另一端和 储液罐 2 相连通 ； 所述 Y 形管 3 上还设置有恒流泵 6。切肝台 1 和储液罐 2 内灌注有低温肝 脏保存液 （如 HTK 液） 。通过动脉灌注管 4、 门静脉灌注管 5 分别与腹腔干、 门静脉相连并通 过恒流泵 6 进行灌注， 恒流泵 6 对储液罐 2 持续供压， 保证储液罐 2 内的灌注液持续流动。 0013 所述的Y形管。
10、3上设置有压力及阻力感应器8， 所述的压力及阻力感应器8与设置 在储液罐内的控制芯片相连， 可在灌注压力异常、 阻力异常时提供报警， 及时发现存在的问 题。 0014 所述的储液罐 2 上设置有温度感应器， 所述的温度感应器与设置在储液罐内的控 制芯片相连， 可在温度超过 4时提供报警， 达到最理想的保存效果。 0015 作为优选， 所述的肝动脉灌注管 4、 门静脉灌注管 5 上分别设有单向输液阀 7。单 向输液阀 7 可确保对肝动脉和门静脉进行单向灌注， 输入的灌注液进入肝脏后从肝后下腔 静脉输出。 0016 所述控制芯片为现有技术中常用的， 可感应温度、 压力和阻力， 并能在超出临界值 时报警的控制芯片。 说 明 书 CN 102986649 A 4 1/1 页 5 图 1 说 明 书 附 图 CN 102986649 A 5 。