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1、(10)申请公布号 CN 102978568 A (43)申请公布日 2013.03.20 CN 102978568 A *CN102978568A* (21)申请号 201210569638.8 (22)申请日 2012.12.25 C23C 14/04(2006.01) C23C 14/24(2006.01) H01L 51/56(2006.01) (71)申请人 唐军 地址 518000 广东省深圳市沙井和一村蚝一 西部工业区 A12 栋 3 楼 申请人 钱超 (72)发明人 唐军 (74)专利代理机构 广州市南锋专利事务所有限 公司 44228 代理人 张志醒 (54) 发明名称 OL。
2、ED 蒸镀罩及其加工方法 (57) 摘要 本发明涉及一种 OLED 蒸镀罩及其加工方法， 包括蒸镀板， 蒸镀板包括 ITO 接触面和蒸镀面， 蒸 镀板上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔， 蒸镀 孔自蒸镀面贯穿至所述 ITO 接触面， 且截面呈逐 渐缩小态势。本发明克服了传统工艺中出现的死 角区域， 使得在应用于蒸镀时， 有机发光颗粒可以 较大限度地到达玻璃基板上的预定位置， 从而提 高了 OLED 显示屏的质量， 提高了有机发光材料 的使用率和成膜率， 降低了 OLED 显示屏的制造成 本， 并可有效延长蒸镀罩的使用寿命。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 1 页。
3、 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 1 页 1/1 页 2 1. 一种 OLED 蒸镀罩， 包括蒸镀板， 所述蒸镀板包括 ITO 接触面和蒸镀面， 所述蒸镀板 上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔， 其特征在于 ： 所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述 ITO 接触面， 且截面呈逐渐缩小态势。 2. 如权利要求 1 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述蒸镀孔包括同轴的第一段和第 二段， 所述第一段呈喇叭状， 第二段呈喇叭状或锥形。 3. 如权利要求 2 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述蒸镀板的厚度为 18 。
4、190m。 4. 如权利要求 2 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述蒸镀孔在第一段的倾角为 3545 度。 5. 如权利要求 2 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述第二段为锥形， 且锥角为 410 度。 6. 如权利要求 5 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述第二段的垂直深度为 8 20m。 7. 如权利要求 6 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述第二段的垂直深度不大于第一 段的垂直深度。 8. 如权利要求 2 所述的 OLED 蒸镀罩， 其特征在于 ： 所述蒸镀板的材料为镍钴合金、 镍 铁合金、 铟瓦合金中的任意一种， 厚度为 18 4。
5、5m。 9. 一种 OLED 蒸镀罩的加工方法， OLED 蒸镀罩包括蒸镀板， 蒸镀板包括 ITO 接触面和蒸 镀面， 所述蒸镀板上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔， 其特征在于 ： 所述蒸镀孔自所述蒸 镀面贯穿至所述 ITO 接触面， 包括第一段和第二段， 所述加工方法包括以下步骤 ： 采用蚀刻工艺在所述蒸镀面上加工出所述蒸镀孔的第一段 ； 采用激光工艺在所述第一段末端向所述 ITO 接触面加工出所述第二段， 并使所述第一 段与第二段同轴设置。 10.如权利要求9所述的加工方法， 其特征在于 ： 所述蒸镀板的厚度为18190m ； 所 述蒸镀孔在第一段的倾角为 3545 度， 所述第二段为锥形。
6、， 且锥角为 410 度。 权 利 要 求 书 CN 102978568 A 2 1/3 页 3 OLED 蒸镀罩及其加工方法 技术领域 0001 本发明涉及OLED显示屏制造技术领域， 特别涉及一种OLED蒸镀罩及其加工方法。 背景技术 0002 有机电致发光器件， 具有自发光、 反应时间快、 视角广、 成本低、 制造工艺简单、 分辨率佳及高亮度等多项优点， 被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在 OLED （Organic Light-Emitting Diode， 有机电致发光二极管） 技术中， 真空蒸镀中的掩模板技 术是一项非常重要和关键的技术， 该技术的等级直接影响 OLED 产。
7、品的质量和制造成本。 0003 在应用于蒸镀时， 传统工艺的蒸镀用掩模板一般采用正反同时蚀刻工艺， 虽然可 以制作出带有一 定锥度的开口， 但由于侧蚀的原因， 使得掩模板贴紧蒸镀 ITO 玻璃基板 的铟锡氧化物接触面 的铟锡氧化物接触面开口存在倒锥度， 该种倒锥角的存在， 产生死角 区域 ， 由于该死角区域的存在， 无法达到蒸镀厚度要求， 导致蒸镀材料的成膜均匀性降低， 影响蒸镀质量， 延长了蒸镀时间， 增加制造成本。 0004 一般蒸镀用荫罩 （即掩模板） 的厚度在 100m 左右， 而需蒸镀的有机材料膜的厚 度在 100nm 左右， 荫罩上的开口尺寸最小可以是 10m， 所以无锥度开口的侧。
8、壁势必会在 蒸镀过程中产生遮挡。 另一方面， 如果通过减薄荫罩的厚度的方法来降低荫罩的遮挡程度， 又会影响荫罩的使用寿命， 因为荫罩过薄， 易变形， 影响的荫罩的使用， 降低蒸镀质量。 发明内容 0005 本发明的主要目的在于， 针对上述现有技术中的不足， 提供一种 OLED 蒸镀罩及其 加工方法， 具有能提高有机发光材料的使用率和成膜率， 延长蒸镀罩的使用寿命和节约制 造成本等优点。 0006 为实现上述发明目的， 本发明采用以下技术方案。 0007 本发明提供一种OLED蒸镀罩， 包括蒸镀板， 所述蒸镀板包括ITO接触面和蒸镀面， 所述蒸镀板上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔， 所述蒸镀孔自。
9、所述蒸镀面贯穿至所述 ITO 接触面， 且截面呈逐渐缩小态势。 0008 优选地， 所述蒸镀孔包括同轴的第一段和第二段， 所述第一段呈喇叭状， 第二段呈 喇叭状或锥形。 0009 优选地， 所述蒸镀板的厚度为 18 190m。 0010 优选地， 所述蒸镀孔在第一段的倾角为 3545 度。 0011 优选地， 所述第二段为锥形， 且锥角为 410 度。 0012 优选地， 所述第二段的垂直深度为 8 20m。 0013 优选地， 所述第二段的垂直深度不大于第一段的垂直深度。 0014 优选地， 所述蒸镀板的材料为镍钴合金、 镍铁合金、 铟瓦合金中的任意一种， 厚度 为 18 45m。 0015。
10、 本发明还提供一种OLED蒸镀罩的加工方法， 所述OLED蒸镀罩包括蒸镀板， 蒸镀板 说 明 书 CN 102978568 A 3 2/3 页 4 包括 ITO 接触面和蒸镀面， 所述蒸镀板上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔， 所述蒸镀孔 自所述蒸镀面贯穿至所述 ITO 接触面， 包括第一段和第二段， 所述加工方法包括以下步骤 ： 采用蚀刻工艺在所述蒸镀面上加工出所述蒸镀孔的第一段 ； 采用激光工艺在所述第一段末端向所述 ITO 接触面加工出所述第二段， 并使所述第一 段与第二段同轴设置。 0016 优选地， 所述蒸镀板的厚度为 18 190m ； 所述蒸镀孔在第一段的倾角为 3545 度， 所。
11、述第二段为锥形， 且锥角为 410 度。 0017 本发明先采用蚀刻工艺在蒸镀面上加工出第一段蒸镀孔， 再采用激光工艺沿着第 一段的末端向 ITO 接触面继续加工出第二段蒸镀孔， 并使第一段和第二段同轴设置， 使蒸 镀孔的尺寸在蒸镀板上呈现出逐渐缩小的态势， 克服了传统工艺中出现的死角区域， 使得 在应用于蒸镀时， 有机发光颗粒可以较大限度地到达玻璃基板上的预定位置， 从而提高了 OLED 显示屏的质量， 提高了有机发光材料的使用率和成膜率， 降低了 OLED 显示屏的制造成 本， 并可有效延长蒸镀罩的使用寿命。 附图说明 0018 图 1 是本发明实施例中 OLED 蒸镀罩的结构示意图。 0。
12、019 图 2 是本发明实施例中 OLED 蒸镀罩的实施效果图。 0020 本发明目的的实现、 功能特点及优点将结合实施例， 参照附图做进一步说明。 具体实施方式 0021 以下将结合附图及具体实施例详细说明本发明的技术方案， 以便更清楚、 直观地 理解本发明的发明实质。 0022 图 1 是本发明实施例中 OLED 蒸镀罩的结构示意图 ； 图 2 是本发明实施例中 OLED 蒸镀罩的实施效果图。 0023 参照图 1 和图 2 所示， 本实施例提供一种 OLED 蒸镀罩， 其包括蒸镀板 1， 蒸镀板 1 包括 ITO 接触面 11 和蒸镀面 12， 蒸镀板 1 上设置有多个呈中心对称状的蒸镀。
13、孔 2， 蒸镀孔 2 自蒸镀面 12 贯穿至 ITO 接触面 11， 且截面呈逐渐缩小态势。 0024 具体地， 蒸镀孔 2 包括同轴设置的第一段 21 和第二段 22， 其中， 第一段 21 呈喇叭 状， 并位于蒸镀面 12 的一侧 ； 第二段 22 呈喇叭状或锥形， 位于 ITO 接触面 11 的一侧。 0025 在蒸镀时， ITO 接触面 11 朝上， 与需要蒸镀有机发光材料的玻璃基板贴合， 蒸镀面 12 朝下， 面对蒸发源 3， 蒸发源 3 内的有机发光材料颗粒从各种方向进入蒸镀孔 2， 并经该 蒸镀孔 2 沾附于玻璃基板的 ITO（氧化铟锡） 层上， 形成蒸镀膜。蒸镀膜的形状和厚薄均。
14、匀 度直接影响 OLED 显示屏的辉度和分辨率， 因此， 对蒸镀孔 2 的形状和规格都有非常严格的 要求。本实施例的蒸镀孔 2 设计为截面尺寸自蒸镀面 12 向 ITO 接触面 11 呈逐渐缩小的态 势， 使蒸镀孔 2 的整体形状为上窄下宽的喇叭状， 有利于以更宽的角度接收有机发光材料 颗粒， 从而能使蒸镀膜的厚薄均匀度和形状都能满足设计要求。 0026 此外， 本实施例的蒸镀板1的厚度为18190m， 既可保证蒸镀罩的强度， 避免因 过薄导致蒸镀孔 2 变形而缩短蒸镀罩的使用寿命， 又可避免因过厚影响蒸镀膜的成膜率。 0027 本实施例的蒸镀孔 2 在第一段 21 的倾角为 3545 度， 。
15、同时， 蒸镀罩为镍钴合金、 镍 说 明 书 CN 102978568 A 4 3/3 页 5 铁合金、 铟瓦合金中的任意一种材料制成， 且厚度设置为 18 45m。为保证良品率、 提高 加工效率、 降低加工成本， 最好将第一段 21 的倾角设置为 3545 度， 将第二段 22 的锥角设 置为 410 度， 在满足实际生产要求的情况下， 最大限度地降低生产成本。 0028 而且， 本实施例的第二段 22 的垂直深度为 8 20m， 且第二段 22 的垂直深度不 大于第一段 21 的垂直深度。由于第一段 21 呈喇叭状， 第二段 22 呈喇叭状或锥形状， 而且， 第二段 22 在 ITO 接触面。
16、 11 上的尺寸精度要求非常高， 因此， 可以采用蚀刻工艺加工第一段 21， 再利用激光工艺加工出第二段 22。由于激光工艺的加工精度高， 但激光工艺加工的孔， 其倾角较小， 故第二段 22 的垂直深度不宜过大。考虑到蒸镀罩的精度和强度， 第二段 22 的 垂直深度又不宜过小， 以免影响蒸镀孔 2 在 ITO 接触面 11 上的形状和尺寸。 0029 此外， 本实施例还提供一种 OLED 蒸镀罩的加工方法， 该加工方法是可以加工出图 1 所示实施例中的 OLED 蒸镀罩， 即本实施例的 OLED 蒸镀罩包括蒸镀板， 蒸镀板包括 ITO 接 触面和蒸镀面， 蒸镀板上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔。
17、， 蒸镀孔自蒸镀面贯穿至 ITO 接触面， 包括第一段和第二段。且蒸镀板的厚度为 18 190m ； 蒸镀孔在第一段的倾角为 3545 度， 第二段为锥形， 锥角为 410 度。 0030 本实施例的加工方法包括以下步骤 ： 1 ： 采用蚀刻工艺在蒸镀面上加工出蒸镀孔的第一段 ； 2 ： 采用激光工艺在第一段末端向 ITO 接触面加工出第二段， 并使第一段与第二段同轴 设置。 0031 由于蚀刻药水的浓度不断减小， 采用蚀刻工艺可以侵蚀出倾角较大的开口壁， 使 得在蒸镀面一侧的蒸镀孔的尺寸较大， 而越往内部尺寸就越小， 形成喇叭状。 而采用激光工 艺刻制蒸镀孔时， 由于激光能量强度的衰减较小，。
18、 可以形成 410 度的锥度， 因此， 第一段采 用蚀刻工艺加工， 第二段采用激光工艺沿第一段的加工方向继续加工， 且第二段的垂直深 度应越小越好。 但考虑到蒸镀罩的强度要求， 第二段的垂直深度不宜过小， 以免因第二段过 薄导致在 ITO 接触面上所加工出的蒸镀孔发生变形， 故第二段的垂直深度为 8 20m 为 佳。 0032 采用上述工艺所加工出的蒸镀孔的形状基本接近于理想的八字形或在锥角的锥 形形状， 因而可以蒸镀出质量较好的蒸镀膜， 从而生产出较高质量的 OLED 显示屏。 0033 综上所述， 本发明先采用蚀刻工艺在蒸镀面上加工出第一段蒸镀孔， 再采用激光 工艺沿着第一段的末端向 IT。
19、O 接触面继续加工出第二段蒸镀孔， 并使第一段和第二段同轴 设置， 使蒸镀孔的尺寸在蒸镀板上呈现出逐渐缩小的态势， 克服了传统工艺中出现的死角 区域， 使得在应用于蒸镀时， 有机发光颗粒可以较大限度地到达玻璃基板上的预定位置， 从 而提高了OLED显示屏的质量， 提高了有机发光材料的使用率和成膜率， 降低了OLED显示屏 的制造成本， 并可有效延长蒸镀罩的使用寿命。 0034 以上所述仅为本发明的优选实施例， 并非因此限制其专利范围， 凡是利用本发明 说明书及附图内容所作的等效结构和流程变换， 直接或间接运用在其他相关的技术领域， 均同理包括在本发明的专利保护范围内。 说 明 书 CN 102978568 A 5 1/1 页 6 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 102978568 A 6 。