单轴取向聚酯薄膜、硬涂层薄膜、触摸面板用传感器薄膜、防飞散膜、防反射膜、触摸面板及单轴取向聚酯薄膜的制造方法技术领域
本发明涉及一种单轴取向聚酯薄膜、硬涂层薄膜、触摸面板用传感器薄膜、防飞散
膜、防反射膜、触摸面板及单轴取向聚酯薄膜的制造方法。更详细而言，涉及一种为能够抑
制彩虹状不均匀的发生，且能够消除触摸面板中所使用的各种薄膜在加工工序中的褶皱及
断裂等问题，并且尤其特别适合用作触摸面板用的各种薄膜的基材的厚度的单轴取向聚酯
薄膜、硬涂层薄膜、触摸面板用传感器薄膜、防飞散膜、防反射膜、触摸面板及单轴取向聚酯
薄膜的制造方法。
背景技术
近年来，在触摸面板中要求抑制带偏振光太阳镜时的彩虹状不均匀、或触摸面板
中所使用的各种薄膜基材的薄型化。由此，厚度薄的单轴取向聚酯薄膜开始使用于触摸面
板中所使用的各种薄膜(防飞散膜、防反射膜或透明导电性薄膜等)的基材。
专利文献1中公开有如下内容：使用将Re设为3000nm以上的高分子薄膜，并将高分
薄膜以其慢轴与偏振片的吸收轴倾斜45°的方式粘贴于液晶面板，由此抑制彩虹状不均匀。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012-230390号公报
专利文献2：日本特开2012-094699号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
触摸面板中所使用的各种薄膜在涂布、干燥、溅射等工序中暴露于高温或高张力
环境中的情况较多。本发明人等进行研究的结果，发现若将厚度薄的单轴取向聚酯薄膜用
作触摸面板的基材，则在涂布、干燥、溅射等工序中暴露于高温或高张力环境中，其结果，薄
膜上产生褶皱或引起断裂的情况较多。
专利文献1中没有有关薄型的单轴取向聚酯薄膜的褶皱及断裂的记载。因此，本发
明人等进行研究的结果，得知专利文献1的单轴取向聚酯薄膜虽然对彩虹状不均匀的抑制
有效，但偏振片加工工序及涂布工序等后工序中的薄膜断裂的抑制不充分，很难用作触摸
面板用薄膜。
另一方面，专利文献2中公开有如下内容：在聚酯薄膜的热定型温度Tm-35～65℃
下进行热定型，且在140～175℃进行热舒张处理，由此减少薄膜的热收缩，使其均匀化，从
而改善后工序中的褶皱等故障。专利文献2中示有薄膜的低热收缩化及其均匀化对褶皱等
的改善有效。但是，专利文献2中，仅对经双轴拉伸的双轴取向聚酯薄膜进行了研究，单轴取
向聚酯薄膜与双轴取向聚酯薄膜的物理性质完全不同，因此未能得到关于实现单轴取向聚
酯薄膜的偏振片加工工序及涂布工序等后工序中的薄膜断裂的抑制的方法的见解。
本发明所要解决的课题在于提供一种为能够抑制彩虹状不均匀的发生，且能够消
除触摸面板中所使用的各种薄膜在加工工序中的褶皱及断裂等问题，并且尤其特别适合用
作触摸面板用的各种薄膜的基材的厚度的单轴取向聚酯薄膜、硬涂层薄膜、触摸面板用传
感器薄膜、防飞散膜、防反射膜、触摸面板及单轴取向聚酯薄膜的制造方法。
用于解决技术课题的手段
为了解决上述课题而进行了深入研究的结果，本发明人等发现通过控制薄膜的厚
度、薄膜面内方向的双折射、薄膜面内方向与薄膜厚度方向的双折射的比例、MD方向的弹性
模量、MD方向与TD方向的弹性模量的比例、薄膜宽度方向的撕裂强度、薄膜长度方向的断裂
强度，能够解决上述课题，并完成了本发明。
作为用于实现上述课题的具体手段的本发明如下。
[1]一种单轴取向聚酯薄膜，其满足下述式1～7。
20μm≤t≤60μm……式1
2000nm≤Re≤6500nm……式2
0.7≤Re/Rth≤1.4……式3
2000MPa≤EMD……式4
2≤ETD/EMD≤3……式5
5g·cm/cm≤TRTD……式6
50MPa≤TBMD……式7
式1～7中，t表示薄膜厚度，单位为μm，
Re表示薄膜面内的延迟，单位为nm，
Rth表示薄膜厚度方向的延迟，单位为nm，
EMD表示薄膜长度方向的弹性模量，单位为MPa，
ETD表示薄膜宽度方向的弹性模量，单位为MPa，
TRTD表示薄膜宽度方向的撕裂强度，单位为g·cm/cm，
TBMD表示薄膜长度方向的断裂强度，单位为MPa。
[2]根据[1]所述的单轴取向聚酯薄膜优选，前述单轴取向聚酯薄膜在150℃下静
置30分钟之后的MD方向的热收缩率为0.8％以下，
前述单轴取向聚酯薄膜在150℃下静置30分钟之后的TD方向的热收缩率为0.8％
以下，
前述MD方向的热收缩率与前述TD方向的热收缩率之差的绝对值为0.6％以下。
[3]根据[1]或[2]所述的单轴取向聚酯薄膜优选，在前述单轴取向聚酯薄膜的至
少一面层叠有易粘接层。
[4]根据[3]所述的单轴取向聚酯薄膜优选，前述易粘接层含有粒子，
前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度大于或等于前述易粘接层的膜厚；
前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度为1mm见方的易粘接层中的5处的平
均值。
[5]一种硬涂层薄膜，其在[1]至[4]中任一个所述的单轴取向聚酯薄膜的至少一
面层叠有硬涂层。
[6]一种防飞散膜，其在[1]至[4]中任一个所述的单轴取向聚酯薄膜的至少一面
层叠有粘合层。
[7]一种防反射膜，其在[1]至[4]中任一个所述的单轴取向聚酯薄膜的至少一面
层叠有防眩层。
[8]一种触摸面板用传感器薄膜，其包含[1]至[4]中任一个所述的单轴取向聚酯
薄膜。
[9]一种触摸面板，其具备[1]至[4]中任一个所述的单轴取向聚酯薄膜、[5]所述
的硬涂层薄膜、[6]所述的防飞散膜、[7]所述的防反射膜及[8]所述的触摸面板用传感器薄
膜中的至少一个。
[10]根据[9]所述的触摸面板优选，具有：
液晶面板；及
偏振片，配置于前述液晶面板的出射面，
前述单轴取向聚酯薄膜、前述硬涂层薄膜、前述防飞散膜、前述防反射膜及前述触
摸面板用传感器薄膜中的至少一个的慢轴相对于前述的偏振片的吸收轴以45±25°的范围
配置。
[11]一种单轴取向聚酯薄膜的制造方法，其为[1]至[4]中任一个所述的单轴取向
聚酯薄膜的制造方法，所述制造方法中使用具有夹具的拉幅机式拉伸装置，所述夹具沿着
设置于薄膜传送路的两侧的一对导轨行走，所述制造方法包含如下工序：
一边利用前述夹具把持实质上未拉伸的聚酯薄膜一边进行横向拉伸的工序；及
将前述横向拉伸后的聚酯薄膜加热至前述拉幅机内的最高温度的热定型工序，
将前述横向拉伸工序中的横向拉伸倍率控制在3.3倍以上且4.8倍以下的范围，
将前述横向拉伸工序中的拉伸开始时的膜面温度保持在80℃以上且95℃以下的
范围，且将拉伸结束时的膜面温度保持在90℃以上且105℃以下，
从前述拉伸开始时至前述拉伸结束时为止，使膜面温度逐渐上升，
前述单轴取向聚酯薄膜的厚度为20μm以上且60μm以下。
[12]根据[11]所述的单轴取向聚酯薄膜的制造方法优选，在前述横向拉伸工序
中，
将拉伸倍率为1～2倍的范围的膜面温度保持在80℃以上且92℃以下，
将拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度保持在85℃以上且97℃以下，
将拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面温度保持在90℃以上且102℃以下；
其中，拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度不会小于或等于拉伸倍率为1～2倍的
范围的膜面温度，拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面温度不会小于或等于拉伸倍率为2～3
倍的范围的膜面温度。
[13]根据[11]或[12]所述的单轴取向聚酯薄膜的制造方法优选，包含对前述热定
型的聚酯薄膜进行加热且缩小前述聚酯薄膜的至少MD方向的长度的热缓和工序，
在前述热缓和工序中，将缩小前述热定型的聚酯薄膜MD方向的长度的比例即MD方
向的缓和率设为1～7％，将缩小前述热定型的聚酯薄膜的TD方向的长度的比例即TD方向的
缓和率设为0～6％。
[14]根据[13]所述的单轴取向聚酯薄膜的制造方法优选，将前述热定型及前述热
缓和工序的最高到达膜面温度保持在130℃以上且190℃以下的范围。
发明效果
根据本发明的结构，可提供一种为能够抑制彩虹状不均匀的发生，且能够消除触
摸面板中所使用的各种薄膜在加工工序中的褶皱及断裂等问题，并且尤其特别适合用作触
摸面板用的各种薄膜的基材的厚度的单轴取向聚酯薄膜、硬涂层薄膜、触摸面板用传感器
薄膜、防飞散膜、防反射膜、触摸面板及单轴取向聚酯薄膜的制造方法。
具体实施方式
以下对本发明进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于代表性实施
方式或具体例而进行，但本发明并不限定于这种实施方式。另外，本说明书中，用“～”表示
的数值范围是指将“～”前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
并且，后面详细叙述聚酯薄膜的制造方法，聚酯薄膜通常能够通过使用辊等传送
并进行拉伸而得到。此时，将薄膜的传送方向也称作MD(Machine Direction)方向。并且，薄
膜的MD方向也称作薄膜的长度方向。并且，所谓薄膜宽度方向为与长度方向正交的方向。在
一边传送薄膜一边制造出的薄膜中，薄膜宽度方向也称作TD(Transverse Direction)方
向。
[单轴取向聚酯薄膜]
本发明的单轴取向聚酯薄膜(以下，也简称为“薄膜”)满足下述式1～7。
20μm≤t≤60μm……式1
2000nm≤Re≤6500nm……式2
0.7≤Re/Rth≤1.4……式3
2000MPa≤EMD……式4
2≤ETD/EMD≤3……式5
5g·cm/cm≤TRTD……式6
50MPa≤TBMD……式7
式1～7中，t表示薄膜厚度，单位为μm，
Re表示薄膜面内的延迟，单位为nm，
Rth表示薄膜厚度方向的延迟，单位为nm，
EMD表示薄膜长度方向的弹性模量，单位为MPa,
ETD表示薄膜宽度方向的弹性模量，单位为MPa,
TRTD表示薄膜宽度方向的撕裂强度，单位为g·cm/cm,
TBMD表示薄膜长度方向的断裂强度，单位为MPa。
通过这种结构，本发明的单轴取向聚酯薄膜为能够抑制彩虹状不均匀的发生，且
能够消除触摸面板中所使用的各种薄膜在加工工序中的褶皱及断裂等问题，并且尤其特别
适合用作触摸面板用的各种薄膜的基材的厚度。
对于单轴取向聚酯薄膜，设为能够抑制彩虹状不均匀的发生，且能够消除触摸面
板中所使用的各种薄膜在加工工序中的褶皱及断裂等问题，并且尤其特别适合用作触摸面
板用的各种薄膜的基材的厚度，这是在现有的制造方法中无法实现的。相对于此，本发明中
发现通过将横向拉伸工序的拉伸开始～结束时的膜面温度设在特定的范围并且随着拉伸
倍率增大而提高拉伸温度，能够制造本发明中规定的物理性质的单轴取向聚酯薄膜。这种
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法与现有公知的制造方法完全不同。最初几乎未知在
横向拉伸工序中随着拉伸倍率增大而提高拉伸温度的方法。并且，本发明人等根据若在未
拉伸的状态下加热则产生微小的聚酯晶体(有时也称作球晶)的推断，着眼于抑制微小的聚
酯晶体的产生的结果，注意到在横向拉伸工序中将横向拉伸工序的拉伸开始～结束时的膜
面温度设在特定的范围并且随着拉伸倍率增大而提高拉伸温度，这对抑制微小的聚酯晶体
的产生有效，并发现了新型的制造方法，由此制造本发明中规定的物理性质的单轴取向聚
酯薄膜。因此，即使参考或组合日本特开2012-230390号公报及日本特开2012-094699号公
报等中所记载的制造方法、进而对通常的设计变更进行研究，也难以制造本发明中规定的
物理性质的单轴取向聚酯薄膜。
以下，对本发明的单轴取向聚酯薄膜的优选方式进行说明。
＜单轴取向聚酯薄膜的特性＞
(厚度)
本发明的单轴取向聚酯薄膜的厚度满足下述式1。
20μm≤t≤60μm……式1
式1～7中，t表示薄膜厚度，单位为μm。
薄膜厚度t更优选25μm以上且55μm以下，进一步优选30μm以上且50μm以下。若低于
20μm，则产生彩虹状不均匀，若超过60μm，则厚度过厚，不合适作为触摸面板用的薄膜基材。
关于单轴取向聚酯薄膜的厚度t，例如使用接触式膜厚测定仪，在纵向拉伸的方向
(长度方向)上的0.5m上以等间隔采样50处，进而在薄膜宽度方向(与长度方向正交的方向)
上的薄膜的整个宽度上以等间隔(在宽度方向上进行50等分)采样50处之后，测定了这些
100处的厚度。求出这些100处的平均厚度，作为单轴取向聚酯薄膜的厚度。
(相位差)
本发明的单轴取向聚酯薄膜的面内方向的延迟Re满足下述式2。
2000nm≤Re≤6500nm……式2
Re表示薄膜面内的延迟，单位为nm。
面内方向的延迟Re更优选2500nm以上且5500nm以下，进一步优选3000nm以上且
5000nm以下。若低于2000nm，则产生彩虹状不均匀，设为超过6500nm时，厚度过厚，不适合作
为触摸面板用的薄膜基材。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的厚度方向延迟Rth优选3000～30000nm以下，更优选
3500～25000nm，进一步优选4000～20000nm以下。在原理上难以制作Rth低于3000nm的薄
膜。若为30000nm以下，则作为面板时画面上不易产生颜色不均匀，因此优选。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的面内方向的延迟Re与厚度方向延迟Rth之比(Re/
Rth)满足下述式3。
0.7≤Re/Rth≤1.4……式3
Re表示薄膜面内的延迟，单位为nm，
Rth表示薄膜厚度方向的延迟，单位为nm。
Re/Rth更优选0.8以上且1.2以下，进一步优选0.85以上且1.1以下。若低于0.7，则
产生彩虹状不均匀，设为超过1.4时，与高Re化之间存在权衡关系，反而容易产生彩虹状不
均匀。
通过将表示Re、Rth的关系的Nz值设为适当的值也能够减少彩虹状不均匀，根据彩
虹状不均匀的减少效果及制造适应性，Nz值优选绝对值为2.0以下，更优选为0.5～2.0，进
一步优选为0.5～1.5。
彩虹状不均匀是因入射光而产生的，因此通常在白显示时被观察到。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的面内相位差值Re由下述式(14)表示。
Re＝(nx-ny)×y1……(14)
其中，nx为聚酯薄膜的面内慢轴方向的折射率，ny为聚酯薄膜的面内快轴方向(与
面内慢轴方向正交的方向)的折射率，y1为聚酯薄膜的厚度。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的厚度方向的延迟Rth由下述式(15)表示。
Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×y1……(15)
其中，nz为聚酯薄膜的厚度方向的折射率。
另外，聚酯薄膜的Nz值由下述式(16)表示。
Nz＝(nx-nz)/(nx-ny)……(16)
本说明书中，能够如下那样测定波长λnm下的Re、Rth及Nz。
使用两片偏振片，求出聚酯薄膜的取向轴方向，以取向轴方向正交的方式切出4cm
×2cm的长方形来作为测定用样品。对于该样品，通过阿贝折射率计(ATAGO CO.,LTD.制，
NAR-4T，测定波长589nm)求出正交的两轴的折射率(Nx，Ny)及厚度方向的折射率(Nz)，将所
述两轴的折射率差的绝对值(|Nx-Ny|)作为折射率的各向异性(ΔNxy)。聚酯薄膜的厚度y1
(nm)使用电测微计(Feinpruf GmbH公司制，Millitron1245D)进行测定，并将单位换算为
nm。由测定出的Nx、Ny、Nz、y1的值分别计算Re、Rth、Nz。
上述Re、Rth能够根据薄膜中所使用的聚酯树脂的种类、前述聚酯树脂与添加剂的
量、延迟显现剂的添加、薄膜的膜厚、薄膜的拉伸方向及拉伸率等进行调整。
将本发明的单轴取向聚酯薄膜控制在上述Re、Rth的范围内的方法并没有特别限
制，例如能够通过拉伸法来实现。
(弹性模量)
本发明的单轴取向聚酯薄膜的薄膜长度方向的弹性模量EMD满足下述式4。
2000MPa≤EMD……式4
EMD表示薄膜长度方向的弹性模量，单位为MPa。
薄膜长度方向的弹性模量EMD更优选2200MPa以上，进一步优选2400MPa以上。若薄
膜长度方向的弹性模量EMD低于2000MPa，则容易产生褶皱及断裂。薄膜长度方向的弹性模
量EMD不特别存在上限，为了制造兼顾EMD与Re及Re/Rth的单轴取向聚酯薄膜，实质上认为
3500MPa左右为上限。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的MD方向的弹性模量相对于TD方向的弹性模量之比
ETD/EMD满足下述式5。
2≤ETD/EMD≤3……式5
EMD表示薄膜长度方向的弹性模量，单位为MPa，
ETD表示薄膜宽度方向的弹性模量，单位为MPa。
TD方向的弹性模量相对于MD方向的弹性模量之比ETD/EMD更优选2.1以上且2.9以
下，进一步优选2.2以上且2.8以下。若TD方向的弹性模量相对于MD方向的弹性模量之比
ETD/EMD超过3，则容易产生纵向的褶皱。若TD方向的弹性模量相对于MD方向的弹性模量之
比ETD/EMD低于2，则难以兼顾ETD/EMD与Re及Re/Rth。
(撕裂强度)
本发明的单轴取向聚酯薄膜的薄膜宽度方向的撕裂强度TRTD满足下述式6。
5g·cm/cm≤TRTD……式6
TRTD表示薄膜宽度方向的撕裂强度，单位为g·cm/cm。
薄膜宽度方向的撕裂强度TRTD更优选6g·cm/cm以上进一步优选7g·cm/cm以上。
若薄膜宽度方向的撕裂强度TRTD低于5g·cm/cm，则在传送过程中容易发生断裂。薄膜宽度
方向的撕裂强度TRTD不特别存在上限，但当超过25g·cm/cm时，难以兼顾TRTD与厚度、Re及
Re/Rth。
(断裂强度)
本发明的单轴取向聚酯薄膜的薄膜长度方向的断裂强度TBMD满足下述式7。
50MPa≤TBMD……式7
TBMD表示薄膜长度方向的断裂强度，单位为MPa。
薄膜长度方向的断裂强度TBMD更优选60MPa以上，进一步优选65MPa以上。若薄膜
长度方向的断裂强度TBMD低于50MPa，则在传送过程中容易发生断裂。薄膜长度方向的断裂
强度TBMD不特别存在上限，但当超过100MPa时难以兼顾TBMD与Re及Re/Rth。
(热收缩率)
本发明的单轴取向聚酯薄膜在150℃下静置30分钟之后的MD方向的热收缩率优选
0.8％以下，更优选0.6％以下，进一步优选0.4％以下。若为0.8％以下，则薄膜上不易产生
褶皱。
本发明的单轴取向聚酯薄膜在150℃下静置30分钟之后的TD方向的热收缩率优选
为0.8％以下，更优选为0.6％以下，进一步优选为0.4％以下。若为0.8％以下，则薄膜上不
易产生褶皱。
本发明的单轴取向聚酯薄膜优选前述MD方向的热收缩率与前述TD方向的热收缩
率之差的绝对值为0.6％以下。MD方向的热收缩率与TD方向的热收缩率之差的绝对值更优
选0.4％以下，进一步优选0.3％以下。若MD方向的热收缩率与TD方向的热收缩率之差的绝
对值为0.6％以下，则薄膜上不易产生褶皱。
本发明中，如下那样定义在150℃下静置30分钟之后的MD方向的热收缩率(在150
℃下加热30分钟之后的薄膜长度方向的热收缩率(150℃、30分钟))。
在裁剪成TD方向30mm、MD方向120mm的聚酯薄膜的试样片M上，预先在MD方向上以
成为100mm间隔的方式形成两条基准线。将试样片M在无张力下于150℃的加热烘箱中放置
30分钟之后，进行将试样片M冷却至室温的处理，测定两条基准线的间隔。将此时测定的处
理后的间隔设为A〔mm〕。将使用“100×(100-A)/100”的式根据处理前的间隔100mm和处理后
的间隔Amm计算的数值〔％〕作为试样片M的MD热收缩率(S)。
将MD方向的热收缩也称为MD热收缩，将其比例称为MD热收缩率。因此，与薄膜宽度
方向正交的方向的热收缩率也表现为MD热收缩率。
本发明中，如下那样定义在150℃下静置30分钟之后的TD方向的热收缩率(在150
℃下加热30分钟之后的薄膜宽度方向的热收缩率(150℃、30分钟))。
在裁剪成MD方向30mm、TD方向120mm的聚酯薄膜的试样片M上，预先在TD方向上以
成为100mm间隔的方式形成2条基准线。将试样片M在无张力下于150℃的加热烘箱中静置30
分钟之后，进行将试样片M冷却至室温的处理，测定两条基准线的间隔。将此时测定的处理
后的间隔设为A〔mm〕。将使用“100×(100-A)/100”的式根据处理前的间隔100mm和处理后的
间隔Amm计算的数值〔％〕作为试样片M的TD热收缩率(S)。
将TD方向的热收缩也称为TD热收缩，将其比例称为TD热收缩率。因此，与薄膜宽度
方向正交的方向的热收缩率也表现为TD热收缩率。
(薄膜长度)
本发明的单轴取向聚酯薄膜优选薄膜长度为100m以上且被卷绕成卷形态。
薄膜长度优选100m以上，更优选300m以上，进一步优选500m以上。本发明的单轴取
向聚酯薄膜即使在为这种长度且被卷绕成卷形态的情况下，也能够抑制卷形态下的卷绕凹
陷及褶皱。
(折射率、结晶度)
本发明的单轴取向聚酯薄膜优选为单轴取向。具体而言，本发明的单轴取向聚酯
薄膜中，优选长度方向的折射率为1.590以下，且结晶度超过5％。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的长度方向的折射率的优选范围与未拉伸的聚酯薄
膜的长度方向的折射率的优选范围相同。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的结晶度优选为5％以上，更优选为20％以上，进一步
优选为30％以上。
＜单轴取向聚酯薄膜的材料、层结构、表面处理＞
本发明的单轴取向聚酯薄膜含有聚酯树脂。
本发明的单轴取向聚酯薄膜可以是以聚酯树脂为主成分的层的单层薄膜，也可以
是具有至少1层以聚酯树脂为主成分的层的多层薄膜。并且，还可以是对这些单层薄膜或多
层薄膜的两面或单面实施表面处理而得到的薄膜，该表面处理可以是通过电晕处理、皂化
处理、热处理、紫外线照射、电子射线照射等进行的表面改性，也可以通过高分子及金属等
的涂布或蒸镀等来形成薄膜。聚酯树脂在薄膜整体中所占的质量比例通常是50质量％以
上，优选为70质量％以上，更优选为90质量％以上。
优选本发明的单轴取向聚酯薄膜在前述单轴取向聚酯薄膜的至少一面层叠有易
粘接层。更优选前述易粘接层含有粒子，前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度大于
或等于前述易粘接层的膜厚；
前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度为1mm见方的易粘接层中的5处的平
均值。
若含于易粘接层的粒子从前述易粘接层的表面突出的高度低于易粘接层(优选为
涂布层)的膜厚，则滑动性下降，容易产生褶皱。
粒子的种类只要是满足本发明的目的的粒子，则并没有特别限定，作为具体例，例
如可以举出二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧
化钛、氧化锆等粒子，优选为二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆。并且，也可以使用日本特公
昭59-5216号公报、日本特开昭59-217755号公报等中所记载的耐热性有机粒子。作为其他
的耐热性有机粒子的例子，可以举出热固化性尿素树脂、热固化性酚醛树脂、热固化性环氧
树脂、苯并胍胺树脂等。
关于粒径，优选为前述易粘接层中前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度大
于或等于前述易粘接层的膜厚的粒径。优选使用一次平均粒径已被调整的粒子，其结果，可
以是凝聚成前述粒子从前述易粘接层的表面突出的高度大于或等于前述易粘接层的膜厚
的粒子。在所凝聚的粒子的情况下，通过测定二次平均粒径，能够确认前述粒子从前述易粘
接层的表面突出的高度。
(1-1)聚酯树脂
作为前述聚酯树脂，优选使用WO2012/157662号公报的[0042]的组成的聚酯树脂。
作为聚酯，可以使用聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚对苯
二甲酸丁二酯(PBT)、聚对苯二甲酸环己烷二甲酯(PCT)等，但从成本、耐热性的观点考虑，
更优选PET、PEN，进一步优选PET(PEN的Re/Rth稍微容易变小)。
聚酯最优选聚对苯二甲酸乙二酯，但还可以优选使用聚萘二甲酸乙二酯，例如可
以优选使用日本特开2008-39803号公报中所记载的聚酯树脂。
聚对苯二甲酸乙二酯是具有源自作为二羧酸成分的对苯二甲酸的结构单元和源
自作为二醇成分的乙二醇的结构单元的聚酯，优选总重复单元的80摩尔％以上为对苯二甲
酸乙二酯，也可以含有源自其他共聚成分的结构单元。作为其他共聚成分，可以举出间苯二
甲酸、对-β-氧基乙氧基苯甲酸、4,4’-二苯基二羧酸、4,4’-二羧基二苯甲酮、双(4-羧基苯
基)乙烷、己二酸、癸二酸、间苯二甲酸-5-磺酸钠、1,4-环己二羧酸等二羧酸成分、以及丙二
醇、丁二醇、新戊二醇、二甘醇、环己二醇、双酚A的环氧乙烷加成物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚
丁二醇等二醇成分。这些二羧酸成分以及二醇成分可以根据需要组合使用两种以上。并且，
也可以与上述羧酸成分以及二醇成分一起并用对羟基苯甲酸等羟基羧酸。作为其他共聚成
分，可以使用含有少量的酰胺键、氨基甲酸酯键、醚键、碳酸酯键等的二羧酸成分和/或二醇
成分。作为聚对苯二甲酸乙二酯的制造法，可以适用使对苯二甲酸与乙二醇以及根据需要
的其他二羧酸和/或其他二醇直接反应的、所谓的直接聚合法；使对苯二甲酸的二甲酯与乙
二醇以及根据需要的其他二羧酸的二甲酯和/或其他二醇进行酯交换反应的、所谓的酯交
换反应法等任意制造法。
(1-2)聚酯树脂的物理性质
(1-2-1)固有粘度
聚酯树脂的固有粘度IV(Intrinsic Viscosity)优选0.5以上且0.9以下，更优选
0.52以上且0.8以下，进一步优选0.54以上且0.7以下。为了设为这种IV，可以在合成聚酯树
脂时，除了后述的熔融聚合以外，还可以并用固相聚合。
(1-2-2)乙醛含有率
聚酯树脂的乙醛含量优选为50ppm以下。进一步优选为40ppm以下，尤其优选为
30ppm以下。乙醛容易在乙醛彼此之间引起缩合反应，生成水作为副反应物，有时通过该水
进行聚酯的水解。乙醛含量的下限在现实中为1ppm左右。为了将乙醛含量设在上述范围内，
可以采用将制造树脂时的熔融聚合、固相聚合等各工序中的氧浓度保持得较低、将树脂保
管时、干燥时的氧浓度保持得较低、制造薄膜时降低在挤出机、熔体配管、模具等中施加于
树脂的热履历、熔融时防止在挤出机的螺杆结构等中局部施加较强的剪切等方法。
(1-3)催化剂
聚酯树脂的聚合中使用Sb、Ge、Ti、Al类催化剂，优选为Sb、Ti、Al类催化剂，进一步
优选为Al类催化剂。
即，用作原料树脂的聚酯树脂优选为使用铝催化剂进行聚合而得到的聚酯树脂。
通过使用Al类催化剂，与使用其他催化剂(例如Sb、Ti)的情况相比，容易显现Re，
能够实现PET的厚度的薄型。即，意味着Al类催化剂容易取向。推断其基于以下原因。
与Sb、Ti相比，Al类催化剂的反应性(聚合活性)较低，其反应相应地温和，不易生
成副产物(二甘醇单元：DEG)。
其结果，PET的规整性得到提高，容易取向而容易显现Re。
(1-3-1)Al类催化剂
作为前述Al类催化剂，可以援用使用WO2011/040161号公报的[0013]～[0148]
(US2012/0183761号公报的[0021]～[0123])中所记载的催化剂，这些公报中所记载的内容
引入本申请说明书中。
作为使用前述Al类催化剂使聚酯树脂聚合的方法并没有特别限制，具体而言，可
以援用WO2012/008488号公报的[0091]～[0094](US2013/0112271号公报的[0144]～
[0153])并按照这些公报进行聚合，这些公报中所记载的内容引入本申请说明书中。
这种Al类催化剂可以援用例如日本特开2012-122051号公报的[0052]～[0054]、
[0099]～[0104](WO2012/029725号公报的[0045]～[0047]、[0091]～[0096])并按照这些
公报进行制备，这些公报中所记载的内容引入本申请说明书中。Al类催化剂量作为相对于
聚酯树脂质量的Al元素的量优选为3～80ppm，更优选为5～60ppm，进一步优选为5～40ppm。
(1-3-2)Sb类催化剂：
作为前述Sb类催化剂，可以使用日本特开2012-41519号公报的[0050]、[0052]～
[0054]中所记载的催化剂。
作为使用前述Sb类催化剂使聚酯树脂聚合的方法并没有特别限制，具体而言，可
以按照WO2012/157662号公报的[0086]～[0087]进行聚合。
(1-4)添加剂：
还优选在本发明的单轴取向聚酯薄膜中加入公知的添加剂。作为其例子，可以举
出紫外线吸收剂、粒子、滑剂、防粘连剂、热稳定剂、抗氧化剂、抗静电剂、耐光剂、耐冲击性
改进剂、润滑剂、染料、颜料等。其中，聚酯薄膜一般要求透明性，因此优选将添加剂的添加
量限制为最小限度。
(1-4-1)紫外线(UV)吸收剂：
为了防止液晶显示器的液晶等因紫外线而劣化，本发明的单轴取向聚酯薄膜中还
可以含有紫外线吸收剂。紫外线吸收剂为具有紫外线吸收能力的化合物，只要是能够承受
在聚酯薄膜的制造工序中施加的热的化合物，则并没有特别限定。
作为紫外线吸收剂，具有有机类紫外线吸收剂和无机类紫外线吸收剂，从透明性
的观点考虑，优选有机类紫外线吸收剂。可以使用WO2012/157662号公报的[0057]中所记载
的紫外线吸收剂、后述的环状亚胺酯类紫外线吸收剂。
作为环状亚胺酯类紫外线吸收剂，并不限定于下述，例如可以举出2-甲基-3,1-苯
并噁嗪-4-酮、2-丁基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-(1-或2-萘基)-
3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-(4-联苯基)-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-对硝基苯基-3,1-苯并噁嗪-4-
酮、2-间硝基苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-对苯甲酰基苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-对甲氧
基苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-邻甲氧基苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、2-环己基-3,1-苯并噁
嗪-4-酮、2-对(或间)邻苯二甲酰亚胺苯基-3,1-苯并噁嗪-4-酮、N-苯基-4-(3,1-苯并噁
嗪-4-酮-2-基)邻苯二甲酰亚胺、N-苯甲酰基-4-(3,1-苯并噁嗪-4-酮-2-基)苯胺、N-苯甲
酰基-N-甲基-4-(3,1-苯并噁嗪-4-酮-2-基)苯胺、2-(对(N-甲基羰基)苯基)-3,1-苯并噁
嗪-4-酮、2,2’-双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-亚乙基双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-四亚
甲基双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-十亚甲基双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-(1,4-亚苯
基)双(4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮)〔另外,也称为2,2’-对亚苯基双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)〕、2,
2’-间亚苯基双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-(4,4’-二亚苯基)双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,
2’-(2,6-或1,5-萘)双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-(2-甲基-对亚苯基)双(3,1-苯并噁嗪-
4-酮)、2,2’-(2-硝基-对亚苯基)双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-(2-氯-对亚苯基)双(3,1-
苯并噁嗪-4-酮)、2,2’-(1,4-亚环己基)双(3,1-苯并噁嗪-4-酮)、1,3,5-三(3,1-苯并噁
嗪-4-酮-2-基)苯、1,3,5-三(3,1-苯并噁嗪-4-酮-2-基)萘、2,4,6-三(3,1-苯并噁嗪-4-
酮-2-基)萘、2,8-二甲基-4H,6H-苯并(1,2-d；5,4-d’)双(1,3)-噁嗪-4,6-二酮、2,7-二甲
基-4H,9H-苯并(1,2-d；4,5-d’)双(1,3)-噁嗪-4,9-二酮、2,8-二苯基-4H,8H-苯并(1,2-d；
5,4-d’)双(1,3)-噁嗪-4,6-二酮、2,7-二苯基-4H,9H-苯并(1,2-d；4,5-d’)双(1,3)-噁嗪-
4,6-二酮、6,6’-双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-双(2-乙基-4H,3,1-苯并噁嗪-
4-酮)、6,6’-双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-亚甲基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁
嗪-4-酮)、6,6’-亚甲基双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-亚乙基双(2-甲基-4H,
3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-亚乙基双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-亚丁基双
(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-亚丁基双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,
6’-氧基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-氧基双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-
酮)、6,6’-磺酰基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-磺酰基双(2-苯基-4H,3,1-苯
并噁嗪-4-酮)、6,6’-羰基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,6’-羰基双(2-苯基-4H,
3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-亚甲基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-亚甲基双
(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-亚乙
基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-氧基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,
7’-磺酰基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、7,7’-羰基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-
4-酮)、6,7’-双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,7’-双(2-苯基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-
酮、6,7’-亚甲基双(2-甲基-4H,3,1-苯并噁嗪-4-酮)、6,7’-亚甲基双(2-苯基-4H,3,1-苯
并噁嗪-4-酮)等。
上述化合物中，当考虑色调时，优选使用不容易发黄的苯并噁嗪酮类化合物，作为
其例子，更优选使用下述通式(1)所表示的化合物。
[化学式1]
通式(1)
上述通式(1)中，R表示2价的芳香族烃基，X1及X2分别独立地选自氢或以下官能团
组，但未必限定于这些。
官能团组：烷基、芳基、杂芳基、卤素、烷氧基、芳氧基、羟基、羧基、酯基、硝基。
上述通式(1)所表示的化合物中，本发明中尤其优选2,2’-(1,4-亚苯基)双(4H-3,
1-苯并噁嗪-4-酮)。
本发明的单轴取向聚酯薄膜中所含有的紫外线吸收剂的量通常是10.0质量％以
下，优选为以0.3～3.0质量％的范围含有的量。当含有超过10.0质量％的量的紫外线吸收
剂时，紫外线吸收剂在表面上渗出，有可能导致粘接性下降等表面功能性的恶化。
并且，在多层结构的本发明的单轴取向聚酯薄膜的情况下，优选至少3层结构的聚
酯薄膜，优选紫外线吸收剂配合于其中间层。通过在中间层中配合紫外线吸收剂，能够防止
该化合物向薄膜表面渗出，其结果，能够维持薄膜的粘接性等特性。
它们的配合中可以利用WO2011/162198号公报的[0050]～[0051]中所记载的母料
法。
(1-4-2)其他添加剂
本发明的单轴取向聚酯薄膜中可以使用其他添加剂，例如可以援用使用WO2012/
157662号公报的[0058]中所记载的添加剂，这些公报中所记载的内容引入本申请说明书
中。
[单轴取向聚酯薄膜的制造方法]
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法为使用具有夹具的拉幅机式拉伸装置的
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法，所述夹具沿着设置于薄膜传送路的两侧的一对导
轨行走，所述制造方法包含如下工序：一边利用前述夹具把持实质上未拉伸的聚酯薄膜一
边进行横向拉伸的工序；及将前述横向拉伸后的聚酯薄膜加热至前述拉幅机内的最高温度
的热定型工序，将前述横向拉伸工序中的横向拉伸倍率控制在3.3倍以上且4.8倍以下的范
围，将前述横向拉伸工序中的拉伸开始时的膜面温度保持在80℃以上且95℃以下的范围，
且将拉伸结束时的膜面温度保持在90℃以上且105℃以下，从前述拉伸开始时至前述拉伸
结束时为止，使膜面温度逐渐上升，前述单轴取向聚酯薄膜的厚度为20μm以上且60μm以下。
其中，“实质上未拉伸的聚酯薄膜”是指MD方向及TD方向的折射率均为1.590以下
的聚酯薄膜，例如即使进行沿MD方向微量拉伸等，MD方向及TD方向的折射率均为1.590以下
的聚酯薄膜等也包含于实质上未拉伸的聚酯薄膜。
以下，对本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法的优选方式进行说明。
＜熔融混炼＞
前述实质上未拉伸的聚酯薄膜优选将聚酯树脂熔融挤出而成型为薄膜状而成。
优选将聚酯树脂或利用上述母料法制造出的聚酯树脂和添加剂的母料干燥至含
水率成为200ppm以下之后，导入单螺杆或双螺杆挤出机中使其熔融。此时，还优选为了抑制
聚酯的分解而在氮气中或真空中进行熔融。详细条件可以援用日本专利4962661号的
[0051]～[0052](US2013/0100378号公报的[0085]～[0086])并按照这些公报来实施，这些
公报中所记载的内容引入本申请说明书中。另外，还优选为了提高熔融树脂(熔体)的送出
精确度而使用齿轮泵。并且，还优选使用用于去除异物的3μm～20μm的过滤器。
＜挤出、共挤出＞
优选从模具挤出含有经熔融混炼的聚酯树脂的熔体，可以以单层挤出，也可以以
多层挤出。当以多层挤出时，例如，可以将含有紫外线吸收剂(UV剂)的层和不含紫外线吸收
剂的层进行层叠，将UV剂设在内层的3层结构不仅抑制由紫外线所引起的偏振器的劣化且
抑制UV剂的渗出，因此优选。
渗出的UV剂转印到制膜工序的平整辊上，增加薄膜与辊的摩擦系数，容易发生擦
伤，因此不优选。
当聚酯薄膜是以多层挤出来制造而成时，所得到的聚酯薄膜的优选的内层厚度
(相对于总层的比率)优选50％以上且95％以下，更优选60％以上且90％以下，进一步优选
为70％以上且85％以下。这种层叠能够通过使用进料块模头(feed-block die)或多歧管模
头(multi-manifold die)来实施。
＜流延＞
优选按照日本特开2009-269301号公报的[0059]，将从模具中挤出的熔体向流延
鼓上挤出并进行冷却固化而得到前述实质上未拉伸的聚酯薄膜(卷状膜)。
本发明的制造方法中，前述实质上未拉伸的聚酯薄膜的长度方向的折射率优选为
1.590以下，更优选为1.585以下，进一步优选为1.580以下。
本发明的制造方法中，前述实质上未拉伸的聚酯薄膜的结晶度优选为5％以下，更
优选为3％以下，进一步优选为1％以下。另外，在此所说的前述实质上未拉伸的聚酯薄膜的
结晶度是指薄膜宽度方向的中央部的结晶度。
在调整结晶度时，可以降低流延鼓端部的温度或者向流延鼓上送风。
关于结晶度，能够由薄膜的密度计算出。即，能够利用薄膜的密度X(g/cm3)、结晶
度0％下的密度Y＝1.335g/cm3、结晶度100％下的密度Z＝1.501g/cm3，通过下述计算式导出
结晶度(％)。
结晶度＝{Z×(X-Y)}/{X×(Z-Y)}×100
另外，就密度的测定而言，按照JIS K7112进行测定。
＜聚合物层(易粘接层)的形成＞
在熔融挤出的前述实质上未拉伸的聚酯薄膜上，可以在后述的拉伸之前或之后通
过涂布来形成聚合物层(优选易粘接层)。
作为前述聚合物层，一般可以举出偏振片可具有的功能层，其中，优选形成易粘接
层作为前述聚合物层。易粘接层能够用WO2012/157662号公报的[0062]～[0070]中所记载
的方法进行涂设。
本发明中，优选前述易粘接层的形成用组合物(优选为涂布液)含有粒子，以前述
粒子从前述易粘接层的表面突出的高度大于或等于前述易粘接层的膜厚的方式控制易粘
接层的厚度和粒子的平均粒径而形成易粘接层。
＜横向拉伸＞
本发明的制造方法包含使用具有夹具的拉幅机式拉伸装置，一边利用前述夹具把
持实质上未拉伸的聚酯薄膜一边进行横向拉伸的工序，所述夹具沿着设置于薄膜传送路的
两侧的一对导轨行走。
作为具有沿着设置于薄膜传送路两侧的一对导轨行走的夹具的拉幅机式拉伸装
置并没有特别限制。一对导轨通常使用一对环状导轨。
另外，夹具的含义与把持部件相同。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，将实质上未拉伸的聚酯薄膜横向拉
伸。关于横向拉伸，一边将实质上未拉伸的聚酯薄膜沿着薄膜传送路进行传送，一边沿着与
薄膜传送方向正交的方向进行横向拉伸。
通过进行横向拉伸，能够使面内方向的延迟Re较大显现。尤其，为了实现满足前述
Re、Re/Rth的范围的聚酯薄膜，至少进行横向拉伸。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，将前述横向拉伸工序中的横向拉伸倍
率控制在3.3倍以上且4.8倍以下的范围。横向拉伸倍率更优选3.5倍以上且4.5倍以下，进
一步优选3.7倍以上且4.3倍以下。若横向拉伸倍率低于3.3倍，则导致Re不足。若横向拉伸
倍率超过4.8倍，则导致EMD低于2000MPa或者ETD/EMD超过3。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，将前述横向拉伸工序中的拉伸开始时
的膜面温度保持在80℃以上且95℃以下的范围。拉伸开始时的膜面温度更优选82℃以上且
93℃以下，进一步优选84℃以上且92℃以下。若拉伸开始时的膜面温度低于80℃，则在拉伸
阶段取向或取向结晶化过度进展而导致Rth上升，从而导致Re/Rth比低于0.7或者EMD低于
2000MPa或者ETD/EMD超过3。若拉伸开始时的膜面温度超过95℃，则取向变得不足而导致球
晶生长，从而导致Re未充分上升或者TRTD低于5或者TBMD低于50。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，将前述横向拉伸工序中的拉伸结束时
的膜面温度保持在90℃以上且105℃以下。拉伸结束时的膜面温度更优选92℃以上且102℃
以下，进一步优选93℃以上且100℃以下。若拉伸结束时的膜面温度低于90℃，则在拉伸阶
段取向或取向结晶化过展进行而导致Rth上升，Re/Rth比低于0.7或者EMD低于2000MPa或者
ETD/EMD超过3。若拉伸结束时的膜面温度超过105℃，则取向变得不足而导致球晶生长，从
而导致Re未充分上升或者TRTD低于5或者TBMD低于50。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，在从拉伸开始时至拉伸结束时为止，
使膜面温度逐渐上升。拉伸结束时与拉伸开始时的膜面温度之差更优选1℃以上，进一步优
选为3℃以上，最优选5℃以上。若从拉伸开始时至拉伸结束时为止不使膜面温度上升，则更
容易形成球晶，且导致取向也过度进展，因此无法兼顾Re、Re/Rth与各种力学特性。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，在前述横向拉伸工序中，拉伸倍率为1
～2倍的范围的膜面温度优选80℃以上且92℃以下，更优选为82℃以上且91℃以下，进一步
优选84℃以上且91℃以下。若拉伸倍率为1～2倍的范围的膜面温度为80℃以上，则在拉伸
阶段取向或取向结晶化不会过度进展，Rth难以上升，Re/Rth比成为0.7以上或者EMD成为
2000MPa以上或者ETD/EMD成为3以下，因此优选。若拉伸倍率为1～2倍的范围的膜面温度为
92℃以下，则取向不易变得不足，微小的聚酯晶体难以生长，Re充分上升或者TRTD成为5以
上或者TBMD成为50以上，因此优选。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，在前述横向拉伸工序中，拉伸倍率为2
～3倍的范围的膜面温度优选85℃以上且97℃以下，更优选86℃以上且97℃以下，进一步优
选87℃以上且96℃以下。若拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度为85℃以上，则在拉伸阶
段取向或取向结晶化不会过度进展，Rth难以上升，Re/Rth比成为0.7以上或者EMD成为
2000MPa以上或者ETD/EMD成为3以下，因此优选。若拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度为
97℃以下，则取向不易变得不足，微小的聚酯晶体难以生长，Re充分上升或者TRTD成为5以
上或者TBMD成为50以上，因此优选。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，在前述横向拉伸工序中，拉伸倍率为3
倍以上的范围的膜面温度优选90℃以上且102℃以下，更优选92℃以上且101℃以下，进一
步优选93℃以上且100℃以下。若拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面温度为90℃以上，则在
拉伸阶段取向或取向结晶化不会过度进展，Rth难以上升，Re/Rth比成为0.7以上或者EMD成
为2000MPa以上或者ETD/EMD成为3以下，因此优选。若拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面温
度为102℃以下，则取向不易变得不足，微小的聚酯晶体难以生长，Re充分上升或者TRTD成
为5以上或者TBMD成为50以上，因此优选。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，在从拉伸开始时至拉伸结束时为止，
使膜面温度逐渐上升，因此在前述横向拉伸工序中，拉伸倍率为1～2倍的范围的膜面温度、
拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度、拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面温度分别不会成
为拉伸倍率较小的拉伸时的范围的膜面温度以下。即，拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温
度不会成为拉伸倍率为1～2倍的范围的膜面温度以下，拉伸倍率为3倍以上的范围的膜面
温度不会成为拉伸倍率为2～3倍的范围的膜面温度以下。
在横向拉伸工序中的预热、拉伸、热定型、热缓和及冷却中，作为对聚酯薄膜进行
加热或冷却的温度控制机构，可以举出对聚酯薄膜吹暖风或冷风，或者使聚酯薄膜与可控
制温度的金属板的表面接触或通过金属板附近。
即，能够通过利用夹具把持薄膜的两端并一边加热一边扩大夹具间的宽度来实
现。
＜热定型、热缓和＞
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法包含将前述横向拉伸后的聚酯薄膜加热
至前述拉幅机内的最高温度的热定型工序。
为了在拉伸之后促进结晶化，进行被称作“热定型”的热处理。通过在超过拉伸温
度的温度下进行来促进结晶化，从而能够提高薄膜的强度。
热定型中，因结晶化而体积收缩。
作为热定型的方法，与宽度方向平行地设置多条向拉伸部送出热风的狭缝。能够
通过将从该狭缝吹出的气体的温度设为高于拉伸部来实现。
并且，也可以在拉伸(部)出口附近设置热源(IR加热器、卤素加热器等)来进行升
温。
前述热定型及前述热缓和工序的最高到达膜面温度优选130℃以上且190℃以下，
更优选140℃以上且180℃以下，进一步优选150℃以上且175℃以下。
若前述热定型及前述热缓和工序的最高到达膜面温度为130℃以上，则能够减小
热收缩率，因此优选。若前述热定型及前述热缓和工序的最高到达膜面温度为190℃以下，
则Rth难以上升，Re/Rth比率不会变得过小，因此优选。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法优选包含对前述热定型的聚酯薄膜进行
加热且缩小前述聚酯薄膜的至少MD方向的长度的热缓和工序。换言之，优选在从前述夹具
中释放前述横向拉伸后的聚酯薄膜之前包含：将前述横向拉伸后的聚酯薄膜加热至拉幅机
内的最高温度的热定型工序；及一边对前述热定型工序后的聚酯薄膜进行加热一边缩小前
述一对导轨间距离的热缓和工序。另外，热缓和工序不严格地限定于在热定型工序之后进
行的方式，也可以同时进行热定型工序和热缓和工序。当同时进行热定型工序和热缓和工
序时，优选将加热至拉幅机内的最高温度的时刻为止设为热定型工序，且在不超过该拉幅
机内的最高温度的温度下继续进行热缓和。
优选在前述热定型工序后，与热处理同时进行缓和(使薄膜收缩)，优选在TD(横
向)、MD(纵向)中的至少一个方向上进行。
横向缓和能够通过缩小所加宽的夹具的宽度来实现。
就这种缓和而言，例如可以在拉幅机中使用受电弓状的卡盘并缩小受电弓的间
隔，也能够通过使夹具在电磁铁上驱动并降低其速度来实现。
在前述热缓和工序中，从抑制在单轴取向聚酯薄膜上产生擦伤的观点考虑，优选
将缩小前述热定型的聚酯薄膜MD方向的长度的比例即MD方向的缓和率设为1～7％，更优选
2～6％，进一步优选3～5％。若MD方向的缓和率为1％以上，则能够减小MD方向的热收缩率，
不易产生褶皱。若MD方向的缓和率为7％以下，则在缓和处理时不易在MD方向上产生缓和，
不易成为面状故障，因此优选。
从抑制在单轴取向聚酯薄膜上产生擦伤的观点考虑，优选将缩小前述热定型的聚
酯薄膜的TD方向的长度的比例即TD方向的缓和率设为0～6％，更优选1～4％，进一步优选1
～3％。若TD方向的缓和率为6％以下，则在缓和处理时不易在TD方向上产生缓和，不易成为
面状故障，因此优选。
TD方向(横向)的缓和温度优选上述热定型温度的范围，只要能够进行将前述横向
拉伸后的聚酯薄膜加热至前述拉幅机内的最高温度的热定型，则可以是与热定型相同的温
度(即可以达到拉幅机内的最高温度)或，也可以是低于热定型的温度。
通过上述拉伸、热定型，能够容易实现本发明的单轴取向聚酯薄膜的Re、Rth、Re/
Rth。即，通过利用这些方法进行拉伸、热定型，容易形成显现减少彩虹状不均匀的效果的本
发明的单轴取向聚酯薄膜。
＜冷却＞
本发明的制造方法优选在从前述夹具中释放前述热定型后的聚酯薄膜之前包含
对前述热定型后的聚酯薄膜进行冷却的工序。从容易降低从前述夹具中释放前述横向拉伸
后的聚酯薄膜时的夹具的温度的观点考虑，优选在从夹具释放之前对拉伸后、优选热定型
后的聚酯薄膜进行冷却。
作为前述热定型后的聚酯薄膜的冷却温度，优选80℃以下，更优选70℃以下，尤其
优选60℃以下。
作为对前述热定型后的聚酯薄膜进行冷却的方法，具体而言，可以举出对聚酯薄
膜吹冷风的方法。
＜从夹具中释放薄膜＞
本发明的制造方法中，从前述夹具中释放前述横向拉伸后的聚酯薄膜。
将聚酯薄膜从把持部件脱离时的聚酯薄膜的表面的温度优选控制在40～140℃的
范围。聚酯薄膜从把持部件脱离时的聚酯薄膜的表面的温度更优选为50℃以上且120℃以
下，进一步优选为60℃以上且100℃以下。
本发明的单轴取向聚酯薄膜的制造方法中，完成制膜后(上述横向拉伸及从夹具
释放的工序后)的单轴取向聚酯薄膜的厚度为20μm以上且60μm以下，更优选25μm以上且55μ
m以下，进一步优选30μm以上且50μm以下。优选设为该范围的原因与优选将本发明的单轴取
向聚酯薄膜的膜厚设为该范围的原因相同。
＜薄膜的回收、切割、卷取＞
上述横向拉伸及从夹具中释放的工序结束之后，根据需要对薄膜进行修剪、切割、
厚度加工并为了回收而进行卷取。
本发明的制造方法中，从有效地确保薄膜产品宽度且防止装置尺寸过大的观点考
虑，优选从夹具释放之后的薄膜宽度为0.8～6m，更优选为1～5m，尤其优选为1～4m。要求精
确度的光学用薄膜通常以小于3m进行制膜，但本发明中优选以如上所述的宽度进行制膜。
并且，可以将宽幅制膜的薄膜切割成优选2条以上且6条以下、更优选2条以上且5
条以下、进一步优选3条以上且4条以下之后进行卷取。
并且，优选在切割后对两端进行厚度加工(赋予滚花)。
卷取优选为在直径70mm以上且600mm以下的卷芯上卷绕1000m以上且10000m以下。
薄膜的单位截面积的卷取张力优选为3～30kgf/cm2，更优选为5～25kgf/cm2，进一步优选为
7～20kgf/cm2。并且，卷取的薄膜的厚度与日本专利4962661号的[0049]相同。并且，还优选
在卷取之前贴合掩蔽膜。
[硬涂层薄膜]
本发明的硬涂层薄膜为在本发明的单轴取向聚酯薄膜的至少一面层叠有硬涂层
的硬涂层薄膜。本发明的单轴取向聚酯薄膜可以用于硬涂层薄膜。
硬涂层可以利用湿式涂布法、干式涂布法(真空成膜)中的任一种涂布法来形成，
优选通过生产率优异的湿式涂布法来形成。
作为硬涂层，例如可以使用日本特开2013-45045号公报、日本特开2013-43352号
公报、日本特开2012-232459号公报、日本特开2012-128157号公报、日本特开2011-131409
号公报、日本特开2011-131404号公报、日本特开2011-126162号公报、日本特开2011-75705
号公报、日本特开2009-286981号公报、日本特开2009-263567号公报、日本特开2009-75248
号公报、日本特开2007-164206号公报、日本特开2006-96811号公报、日本特开2004-75970
号公报、日本特开2002-156505号公报、日本特开2001-272503号公报、WO12/018087、WO12/
098967、WO12/086659、WO11/105594中所记载的硬涂层。
[防飞散膜]
本发明的防飞散膜为在本发明的单轴取向聚酯薄膜的至少一面层叠有粘合层的
防飞散膜。本发明的单轴取向聚酯薄膜可以用于防飞散膜。防飞散膜优选在单轴取向聚酯
薄膜层叠有硬涂层、粘合层。
粘合层可以利用湿式涂布法、干式涂布法中的任一种涂布法来形成。为了形成粘
合层，可以使用溶剂类丙烯酸聚合物或溶剂类丙烯酸浆、无溶剂类丙烯酸浆、无溶剂氨酯丙
烯酸酯等丙烯酸类粘合剂组合物。
[防反射膜]
本发明的防反射膜为在本发明的单轴取向聚酯薄膜的至少一面层叠有防眩层的
防反射膜。本发明的单轴取向聚酯薄膜可以用于防反射膜。
防眩层可以利用湿式涂布法、干式涂布法中的任一种涂布法来形成。防眩层可以
使用日本特开2014-059334、日本特开2014-026122、日本特开2014-016602、日本特开2014-
016476、日本特开2013-246371、日本特开2014-041206、日本特开2014-032317、日本特开
2014-026123、日本特开2014-010316中所记载的防眩层。
[触摸面板用传感器薄膜]
本发明的触摸面板用传感器薄膜为包含本发明的单轴取向聚酯薄膜的触摸面板
用传感器薄膜。本发明的单轴取向聚酯薄膜可以用于触摸面板用传感器薄膜。触摸面板用
传感器薄膜优选在单轴取向聚酯薄膜上层叠有硬涂层、透明导电层。
作为形成透明导电层的一般的方式，有溅射法、真空蒸镀法、离子镀法等PVD(物理
气相沉积法(Physical Vapor Deposition))法、或CVD(化学气相沉积法(Chemical Vapor
Deposition))法、涂布法、印刷法等。另外，作为透明导电层的形成材料并没有特别限制，例
如可以举出铟-锡复合氧化物(ITO)、锡氧化物、铜、银、铝、镍、铬等，可以由不同的形成材料
重叠而形成。并且，透明导电层有时在形成透明导电层之前设置用于提高透明性或光学特
性等的底涂层。另外，为了提高粘附性，有时在上述底涂层与单轴取向聚酯薄膜之间设置包
括单一的金属元素或2种以上的金属元素的合金的金属层。金属层中优选使用选自包括硅、
钛、锡及锌的组中的金属。
[触摸面板]
本发明的触摸面板具备本发明的单轴取向聚酯薄膜、本发明的硬涂层薄膜、本发
明的防飞散膜、本发明的防反射膜及本发明的触摸面板用传感器薄膜中的至少一个。本发
明的单轴取向聚酯薄膜可以用于触摸面板。
本发明的触摸面板具有液晶面板及配置于前述液晶面板的出射面的偏振片，前述
单轴取向聚酯薄膜、前述硬涂层薄膜、前述防飞散膜、前述的防反射膜及前述触摸面板用传
感器薄膜中的至少一个的慢轴相对于前述的偏振片的吸收轴优选以45±25°的范围配置，
更优为45±15°以下，进一步优选45±10°以下。若为45±25°的范围，则带偏振光太阳镜时
不易发生遮光现象(隔着太阳镜看到的液晶面板等对象物看起来较暗的现象)。
对液晶面板或配置于前述液晶面板的出射面的偏振片并没有特别限制，可以使用
公知的液晶面板或偏振片。
本发明的触摸面板并没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出表
面型静电电容方式的触摸面板、投影型静电电容方式的触摸面板、电阻膜式触摸面板等。另
外，触摸面板包含所谓的触摸传感器及触控板。触摸面板中的触摸面板传感器电极部的层
结构可以是贴合2片透明电极的贴合方式、在1片基板的两面具备透明电极的方式、单面跨
接或通孔方式或单面层叠方式中的任一种。并且，投影型静电电容式触摸面板相较于DC驱
动优选AC驱动，更优选对电极的电压施加时间较少的驱动方式。
实施例
以下，举出实施例和比较例对本发明的特征进行进一步具体的说明。以下实施例
中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨，则可以适当
进行变更。因此，本发明的范围不应通过以下所示的具体例而被限定性解释。
另外，只要没有特别指定，则“份”为质量基准。
[实施例1]
＜原料聚酯的合成＞
(原料聚酯1)
如以下所示，使对苯二甲酸与乙二醇直接反应而蒸馏除去水，并进行酯化之后，使
用在减压下进行缩聚的直接酯化法，通过连续聚合装置得到原料聚酯1(Sb催化剂类PET)。
(1)酯化反应
在第一酯化反应槽中经90分钟混合高纯度对苯二甲酸4.7吨和乙二醇1.8吨来形
成浆料，并以3800kg/h的流量连续供给至第一酯化反应槽。再连续供给三氧化二锑的乙二
醇溶液，在反应槽内温度250℃、搅拌下，经平均滞留时间约4.3小时进行反应。此时，连续添
加三氧化二锑，以使Sb添加量以元素换算值计成为150ppm。
将该反应物移送到第二酯化反应槽，在搅拌下、反应槽内温度250℃下，经平均滞
留时间1.2小时进行反应。向第二酯化反应槽连续供给乙酸镁的乙二醇溶液和磷酸三甲酯
的乙二醇溶液，以使Mg添加量及P添加量以元素换算值计分别成为65ppm、35ppm。
(2)缩聚反应
将上述中得到的酯化反应生成物连续供给至第一缩聚反应槽，在搅拌下、反应温
度270℃、反应槽内压力20torr(2.67×10-3MPa)下，经平均滞留时间约1.8小时进行缩聚。
进而移送到第二缩聚反应槽，在该反应槽中，在搅拌下、反应槽内温度276℃、反应
槽内压力5torr(6.67×10-4MPa)下，于滞留时间约1.2小时的条件下进行反应(缩聚)。
接着，进而移送到第三缩聚反应槽，在该反应槽中，在反应槽内温度278℃、反应槽
内压力1.5torr(2.0×10-4MPa)下，于滞留时间1.5小时的条件下进行反应(缩聚)，从而得到
反应物(聚对苯二甲酸乙二酯(PET))。
接着，将所得到的反应物向冷水以股线状喷出后，立即切断，从而制作聚酯的颗粒
＜剖面：长径约4mm、短径约2mm、长度：约3mm＞。
所得的聚合物为IV＝0.63(以后，略记为PET1)。将该聚合物作为原料聚酯1。
＜聚酯薄膜的制造＞
-薄膜成型工序-
使原料聚酯1(PET1)干燥至含水率成为20ppm以下之后，投入到直径50mm的单螺杆
混炼挤出机1的料斗1中。使原料聚酯1在300℃下熔融，利用下述挤出条件，经由齿轮泵、过
滤器(孔径20μm)从模具中挤出。
熔融树脂的挤出条件设为压力变动为1％、熔融树脂的温度分布为2％来从模具中
挤出熔融树脂。具体而言，背压相对于挤出机的料筒内平均压力而言加压1％且在挤出机的
配管温度相对于挤出机的料筒内平均温度而言高2％的温度下进行加热。
向设定为温度25℃的冷却流延鼓上挤出从模具中挤出的熔融树脂，并利用静电施
加法使其粘附于冷却流延鼓上。使用与冷却流延鼓对置配置的剥取辊进行剥离，从而得到
未拉伸聚酯薄膜1。
所得到的未拉伸聚酯薄膜1中，固有粘度IV＝0.62，长度方向的折射率为1.573，且
结晶度为0.2％。
将未拉伸聚酯薄膜1溶解于1,1,2,2-四氯乙烷/苯酚(＝2/3[质量比])混合溶剂
中，由该混合溶剂中的25℃下的溶液粘度求出IV。
未拉伸聚酯薄膜的折射率利用以下方法进行测定。
使用两片偏振片，求出未拉伸聚酯薄膜的取向轴方向，以取向轴方向正交的方式
切出4cm×2cm的长方形来作为测定用样品。对于该样品，通过阿贝折射率计(ATAGO CO.,
LTD.制，NAR-4T，测定波长589nm)求出正交的两轴的折射率(Nx，Ny)及厚度方向的折射率
(Nz)。
未拉伸聚酯薄膜的结晶度利用以下方法进行测定。
关于结晶度，能够由薄膜的密度计算出。即，能够通过下述计算式，利用薄膜的密
度X(g/cm3)、结晶度0％下的密度1.335g/cm3、结晶度100％下的密度1.501g/cm3导出结晶度
(％)。
结晶度＝{Z×(X-Y)}/{X×(Z-Y)}×100
另外，就密度的测定而言，按照JIS K7112进行测定。
-易粘接层的形成-
以下述比率混合下述化合物而制作出易粘接层用涂布液H1。
易粘接层用涂布液H1
以下示出使用化合物的详细内容。
聚酯树脂：(IC)
利用下述组成的单体进行共聚而得到的聚酯树脂的磺酸类水分散体
单体组成：(酸成分)对苯二甲酸/间苯二甲酸/间苯二甲酸5-磺酸钠//(二醇成分)
乙二醇/1,4-丁二醇/二乙二醇＝56/40/4//70/20/10(mol％)
丙烯酸树脂：(II)
利用下述组成的单体进行聚合而得到的丙烯酸树脂的水分散体
丙烯酸乙酯/丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸甲酯/N-羟甲基丙烯酰胺/丙烯酸＝65/
21/10/2/2(质量％)的乳化聚合物(乳化剂：阴离子类表面活性剂)
氨基甲酸酯树脂：(IIIB)
将包含含有1,6-己二醇和碳酸二乙酯的数量平均分子量为2000的聚碳酸酯多元
醇400质量份、新戊二醇10.4质量份、异佛尔酮二异氰酸酯58.4质量份、二羟甲基丁酸74.3
质量份的预聚物利用三乙胺进行中和，并利用异佛尔酮二胺进行链延长而得到的氨基甲酸
酯树脂的水分散体。
三聚氰胺化合物：(VIB)六甲氧基甲基三聚氰胺
粒子：(VII)平均粒径150nm的硅溶胶(平均粒径是指一次平均粒径即一次粒径的
平均值。下述表中记载为粒子大小)。
-在聚酯薄膜的两面涂布易粘接层-
通过使用绕线棒的棒涂法，在未拉伸聚酯薄膜1的一侧一边将易粘接层用涂布液
H1调整为拉伸后的涂布膜厚成为50nm，一边使用绕线棒进行了涂布。
使用KEYENCE CORPORATION制VHX-5000，在1mm见方的易粘接层中的5处求出粒子
从易粘接层的表面突出的高度，并计算出其平均值。将其结果记载于下述表。
-横向拉伸工序-
将未拉伸聚酯薄膜1引导至拉幅机(横向拉伸机)，一边利用夹具把持薄膜的端部
一边在下述方法、条件下进行了横向拉伸。
(预热部)
利用热风进行加热，以使拉伸开始处的膜面温度成为89℃。
另外，关于拉伸开始处的膜面温度，在开始拉伸处通过放射温度计(Hayashi
Denko Co.,Ltd.制，型号：RT61-2，在放射率0.95下使用)对薄膜宽度方向的中央部的位置
进行了测定。
(拉伸部)
对预热的未拉伸聚酯薄膜1一边利用热风进行加热，一边在下述条件下使用拉幅
机沿宽度方向进行了横向拉伸。
另外，关于各拉伸倍率时刻下的膜面温度，在各拉伸倍率时刻，通过放射温度计
(Hayashi Denko Co.,Ltd.制，型号：RT61-2，在放射率0.95下使用)对薄膜宽度方向的中央
部的位置进行了测定。
＜条件＞
·横向拉伸倍率：4.1倍
·2倍拉伸时刻下的膜面温度：90℃
·3倍拉伸时刻下的膜面温度：94℃
·拉伸结束时刻下的膜面温度：95℃
(热定型部及热缓和部)
接着，从热风吹出喷嘴对薄膜吹来自相对于薄膜为上下方向的热风，一边将聚酯
薄膜的膜面温度控制在下述范围一边进行了热定型及热缓和处理。
＜条件＞
·最高到达膜面温度(热定型温度)：168℃
·热缓和率：MD方向4％、TD方向1.5％
(冷却部)
接着，通过从冷风吹出喷嘴对薄膜吹来自相对于薄膜为上下方向的冷风来进行了
冷却。对薄膜进行了冷却，以使从拉幅机的夹具释放时的膜面温度成为40℃。
另外，关于膜面温度，通过放射温度计(Hayashi Denko Co.,Ltd.制，型号：RT61-
2，在放射率0.95下使用)对薄膜宽度方向的中央部的位置进行了测定。
(薄膜的回收)
在进行冷却及从夹具释放薄膜之后，对聚酯薄膜的两端各修剪20cm。修剪后的薄
膜宽度为2m。其后，对两端以宽度10mm进行挤出加工(滚花)之后，以张力18kg/m将10000m长
度的薄膜卷取成卷形态。
如上那样制造卷绕成卷形态的厚度39μm的实施例1的单轴取向聚酯薄膜。
[实施例2～8、10、比较例1～5]
在实施例1中，如下述表中所记载那样改变横向拉伸倍率、横向拉伸膜温(膜面温
度)、热定型/缓和时的最高到达膜面温度、MD缓和率、TD缓和率、薄膜厚度、粒子大小
(NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制有机硅溶胶，一次平均粒径60nm)，除此以外，与实
施例1同样地制造出各实施例及比较例的单轴取向聚酯薄膜。
[实施例9、比较例6]
未设置易粘接层，除此以外，与实施例1同样地制造出实施例9的单轴取向聚酯薄
膜。
并且，如下述表中所记载那样改变横向拉伸倍率、横向拉伸膜温(膜面温度)、热定
型/缓和时的最高到达膜面温度、MD缓和率、TD缓和率、薄膜厚度，并且未设置易粘接层，除
此以外，与实施例1同样地制造出比较例6的单轴取向聚酯薄膜。另外，比较例6中，根据日本
特开2012-230390号公报的实施例2的记载，利用类似的方法制造出单轴取向聚酯薄膜。
[薄膜测定结果]
＜薄膜厚度的测定＞
如下那样求出所得到的各实施例及比较例的聚酯薄膜的厚度。
对于各实施例及比较例的聚酯薄膜，使用接触式膜厚测定仪(Anritsu公司制)，在
纵向拉伸的方向(长度方向)上的0.5m上以等间隔采样50处，进而在薄膜宽度方向(与长度
方向正交的方向)上的薄膜的整个宽度上以等间隔(在宽度方向上进行50等分)采样50处之
后，测定了该100处的厚度。求出该100处的平均厚度，作为聚酯薄膜的厚度。将结果示于下
述表2。
＜Re、Rth、Re/Rth比率＞
所谓面内方向的延迟Re为由薄膜上的正交的两轴的折射率的各向异性(ΔNxy＝|
Nx-Ny|)与薄膜厚度d(nm)之积(ΔNxy×d)定义的参数，是表示光学各向同性、各向异性的
尺度。两轴的折射率的各向异性(ΔNxy)通过以下方法来求出。使用两片偏振片，求出薄膜
的取向轴方向，以取向轴方向正交的方式切出4cm×2cm的长方形，作为测定用样品。对于该
样品，通过阿贝折射率计(ATAGO CO.,LTD.制，NAR-4T，测定波长589nm)求出正交的两轴的
折射率(Nx，Ny)及厚度方向的折射率(Nz)，将两轴的折射率差的绝对值(|Nx-Ny|)作为折射
率的各向异性(ΔNxy)。对于薄膜的厚度d(nm)，使用电测微计(Feinpruf GmbH公司制，
Millitron1245D)进行测定，并将单位换算为nm。根据折射率的各向异性(ΔNxy)与薄膜的
厚度d(nm)之积(ΔNxy×d)求出了延迟(Re)。
所谓厚度方向延迟为表示从薄膜厚度方向剖面观察时的2个双折射ΔNxz(＝|Nx-
Nz|)、ΔNyz(＝|Ny-Nz|)分别乘以薄膜厚度d而得到的延迟的平均的参数。利用与延迟的测
定相同的方法求出Nx、Ny、Nz和薄膜厚度d(nm)，并计算(ΔNxz×d)与(ΔNyz×d)的平均值
来求出了厚度方向延迟(Rth)。
根据所得到的Re及Rth计算出Re/Rth比率。
将结果示于下述表2。
＜MD弹性模量EMD的测定＞
薄膜的MD弹性模量EMD按照JIS K 7127的测定方法进行了测定。
在薄膜宽度方向的中央位置，以MD方向150mm、TD方向10mm的大小切出试验片E1。
使用Toyo Seiki Seisaku-Sho,Ltd.制的Strograph R2，对试样片E1进行了拉伸
试验。卡盘间距离设为100mm，拉伸速度以10mm/min的速度进行。反复进行5次该试验，将所
得到的拉伸弹性模量的平均值作为MD弹性模量EMD。
将结果示于下述表2。
＜TD弹性模量TMD的测定＞
薄膜的TD弹性模量ETD按照JIS K 7127的测定方法进行了测定。
在薄膜宽度方向的中央位置，以TD方向150mm、MD方向10mm的大小切出试验片E2。
使用Toyo Seiki Seisaku-Sho,Ltd.制的Strograph R2，对试样片E2进行了拉伸
试验。卡盘间距离设为100mm，拉伸速度以10mm/min的速度进行。反复进行5次该试验，将所
得到的拉伸弹性模量的平均值作为TD弹性模量ETD。
将结果示于下述表2。
＜ETD/EMD＞
根据所得到的MD弹性模量EMD及TD弹性模量ETD计算出ETD/EMD。
将结果示于下述表2。
＜TD撕裂强度TRTD的测定＞
薄膜的TD撕裂强度TRTD按照JIS P 8116的测定方法进行了测定。
在薄膜宽度方向的中央位置，以MD方向51mm、TD方向64mm的大小切出试验片TR1。
使用Toyo Seiki Seisaku-Sho,Ltd.制的轻负荷撕裂试验机并通过埃尔曼多夫形
撕裂试验机法，对试样片TR1与TD方向平行地进行了撕裂试验。反复进行10次该试验，将所
得到的拉伸强度的平均值作为TD撕裂强度TRTD。
将结果示于下述表2。
＜MD断裂强度TBMD的测定＞
薄膜的MD断裂强度TBMD按照JIS K 7127的测定方法进行了测定。
在薄膜宽度方向的中央位置，以MD方向150mm、TD方向10mm的大小切出试验片TB1。
使用Toyo Seiki Seisaku-Sho,Ltd.制的Strograph R2，对试样片TB1进行了拉伸
试验。卡盘间距离设为100mm，拉伸速度以10mm/min的速度进行。反复进行5次该试验，将所
得到的拉伸断裂强度的平均值作为MD断裂强度TBMD。
将结果示于下述表2。
＜MD热收缩率的测定＞
在薄膜宽度方向的中央位置，以TD方向30mm、MD方向120mm的大小切出试验片M1。
对于试样片M1，以在MD方向上成为100mm的间隔的方式形成了2条基准线。将其在
无张力下于150℃的加热烘箱中放置了30分钟。在该放置后，将试样片M1冷却至室温，并测
定了2条基准线的间隔。将该值设为A1(单位：mm)，将根据测定出的A1及“100×(100-A1)/
100”的式计算出的数值作为MD热收缩率。
将结果示于下述表2。
＜TD热收缩率的测定＞
在薄膜宽度方向的中央位置，以MD方向30mm、TD方向120mm的大小切出试验片M2。
对于试样片M2，以在TD方向上成为100mm的间隔的方式形成了2条基准线。将其在
无张力下于150℃的加热烘箱中放置了30分钟。在该放置后，将试样片M2冷却至室温，并测
定了2条基准线的间隔。将该值设为A2(单位：mm)，将根据测定出的A2及“100×(100-A2)/
100”的式计算出的数值作为TD热收缩率。
将结果示于下述表2。
＜MD热收缩率与TD热收缩率之差的绝对值(MD-TD差的绝对值)＞
根据所得到的MD热收缩率及TD热收缩率计算出MD热收缩率与TD热收缩率之差的
绝对值(MD-TD差的绝对值)。
将结果示于下述表2。
[评价]
＜评价时的薄膜相对于偏振片的贴合角度及彩虹状不均匀＞
在连续光源(白色LED)上配置偏振片，在其上贴合各实施例及比较例的单轴拉伸
聚酯薄膜，通过偏振光太阳镜，按照以下基准以肉眼评价了所产生的彩虹状不均匀。
并且，以薄膜的慢轴相对于偏振片的吸收轴的角度成为实施例中所记载的角度的
方式进行贴合。
A：完全观察不到彩虹状不均匀
B：观察不到彩虹状不均匀
C：几乎观察不到彩虹状不均匀
D：观察到彩虹状不均匀
将所评价的结果示于下述表2。
＜遮光＞
在连续光源(白色LED)上配置偏振片，在其上贴合各实施例及比较例的单轴拉伸
聚酯薄膜，按以下基准评价了一边旋转偏振光太阳镜一边观察时所产生的遮光。
另外，以薄膜的慢轴相对于偏振片的吸收轴的角度成为实施例中所记载的角度的
方式进行贴合。
A：完全未发生遮光
B：存在一点点变暗的部位
C：存在少量变暗的部位
D：发生遮光
将所评价的结果示于下述表2。
＜加工时的褶皱＞
制膜10000m，并对卷取成卷形态的各实施例及比较例的单轴拉伸聚酯薄膜进行开
卷，作为后工序，利用以下方法进行了硬涂层的涂布。将硬涂层涂布于薄膜两面之后，在150
℃的干燥区将单位薄膜截面积的传送张力设定为1500kN/m2并进行了干燥、传送。
按以下基准评价了进行这种加工时的薄膜的褶皱产生程度。
A：未产生褶皱
B：产生一点点褶皱
C：产生少许褶皱
D：产生较多褶皱
将所评价的结果示于下述表2。
＜加工时的断裂＞
制膜10000m，并对卷取成卷形态的各实施例及比较例的单轴拉伸聚酯薄膜进行开
卷，作为后工序，利用以下方法进行了硬涂层的涂布。将硬涂层涂布于薄膜两面之后，在150
℃的干燥区将单位薄膜截面积的传送张力设定为1500kN/m2并进行了干燥、传送。
测定了进行这种加工时的薄膜的断裂次数。
所谓断裂设为为50mm以上的长度且沿薄膜厚度方向贯穿的裂纹。并且，裂纹的方
向并没有限定，无论是TD方向的裂纹还是MD方向的裂纹，沿薄膜厚度方向贯穿时均包含于
断裂。
将按以下基准评价的结果记载于下述表2。
A：10000m以上基材上无断裂
B：10000m存在1～5次断裂
C：10000m存在6～10次断裂
D：10000m存在11次以上断裂
＜触摸面板厚度适应性＞
按以下基准评价了触摸面板厚度适应性。
A：薄膜厚度为40μm以下
B：薄膜厚度超过40μm且为50μm以下
C：薄膜厚度超过50μm且为60μm以下
D：薄膜厚度超过60μm
将所评价的结果示于下述表2。
＜综合评价＞
关于综合评价，按以下基准进行了评价。
A：所有的评价为A等级
B：所有的评价为B等级以上
C：所有的评价为C等级以上
D：有1个以上D等级的评价
将所评价的结果示于下述表2。
[表1]
[表2]
由上述表1及2可知，满足本发明中规定的制造条件而制造出的各实施例的单轴取
向聚酯薄膜满足上述式1～7全部，为能够抑制彩虹状不均匀的发生，且能够消除用于触摸
面板的各种薄膜在加工工序中的褶皱及断裂等问题，并且尤其特别适合用作触摸面板用的
各种薄膜的基材的厚度。
另一方面，可知厚度t的范围超过本发明中规定的上限值且Re超过本发明中规定
的上限值的比较例1的单轴取向聚酯中，触摸面板厚度适应性较差。
可知厚度t的范围低于本发明中规定的下限值且TD撕裂强度低于本发明中规定的
下限值的比较例2的单轴取向聚酯中，观察到彩虹状不均匀，且加工时频繁发生断裂。
可知在横向拉伸倍率超过本发明中规定的上限值、横向拉伸开始时的膜面温度低
于本发明中规定的下限值、横向拉伸结束时的膜面温度低于本发明中规定的下限值的制造
条件下制造出的比较例3的单轴取向聚酯薄膜为Re/Rth比率低于本发明中规定的下限值、
MD方向的弹性模量低于本发明中规定的下限值、TD弹性模量相对于MD弹性模量的比例ETD/
EMD超过本发明中规定的上限值的单轴取向聚酯薄膜，观察到彩虹状不均匀，且加工时产生
较多褶皱。
可知在横向拉伸倍率低于本发明中规定的下限值、横向拉伸开始时的膜面温度超
过本发明中规定的上限值、横向拉伸结束时的膜面温度超过本发明中规定的上限值的制造
条件下制造出的比较例4的单轴取向聚酯薄膜为Re/Rth比率超过本发明中规定的上限值、
TD弹性模量相对于MD弹性模量的比例ETD/EMD低于本发明中规定的下限值、TD撕裂强度低
于本发明中规定的下限值、MD断裂强度低于本发明中规定的下限值的单轴取向聚酯薄膜，
观察到彩虹状不均匀，加工时产生较多褶皱，且加工时频繁发生断裂。
可知在横向拉伸开始时的膜面温度超过本发明中规定的上限值、横向拉伸结束时
的膜面温度低于本发明中规定的下限值、从拉伸开始时至拉伸结束时为止膜面温度未逐渐
上升而制造出的比较例5的单轴取向聚酯薄膜为MD方向的弹性模量低于本发明中规定的下
限值、TD弹性模量相对于MD弹性模量的比例ETD/EMD超过本发明中规定的上限值、TD撕裂强
度低于本发明中规定的下限值、MD断裂强度低于本发明中规定的下限值的单轴取向聚酯薄
膜，加工时产生较多褶皱，且加工时频繁发生断裂。
可知在横向拉伸开始时的膜面温度超过本发明中规定的上限值、从拉伸开始时至
拉伸结束时为止膜面温度未逐渐上升而制造出的比较例6的单轴取向聚酯薄膜为TD撕裂强
度低于本发明中规定的下限值、MD断裂强度低于本发明中规定的下限值的单轴取向聚酯薄
膜，加工时频繁发生断裂。因此，由比较例6可知，与日本特开2012-230390号公报的实施例
中所记载的单轴取向聚酯薄膜相比，本发明的单轴取向聚酯薄膜在能够消除触摸面板中所
使用的各种薄膜在加工工序中的断裂问题的方面优异。