说明书层积结构体以及其制造方法、制品
技术领域
本发明涉及层积结构体以及其制造方法、制品。
本申请基于2012年10月22日于日本提出的申请特愿2012-232808号主张优先权，在此援用其内容。
背景技术
已知表面具有周期在可见光波长以下的微细凹凸结构的制品，因该微细凹凸结构中的折射率的连续变化，而具有防反射性能。此外，同时也已知微细凹凸结构因荷叶效应而表现出超防水性能。
作为表面具有微细凹凸结构的制品的制造方法，例如，有人提出下述方法。
(i)使用表面具有与微细凹凸结构相对应的反转结构的模具，对热塑性树脂进行注射模塑成形或者挤压成形时，向热塑性树脂转印微细凹凸结构的方法。
(ii)在表面具有与微细凹凸结构相对应的反转结构的模具与基材之间，填充入活化能射线固化性树脂组合物，通过照射活化能射线使之固化后，使模具脱模，向固化物转印微细凹凸结构的方法。或者，在上述模具与基材之间，填充入活化能射线固化性树脂组合物后，使模具脱模，向活化能射线固化性树脂组合物转印微细凹凸结构，之后，通过照射活化能射线，使活化能射线固化性树脂组合物固化的方法。
其中，基于微细凹凸结构的转印性良好，制品的表面组成的自由度高，此外，模具为带状或辊状时的可连续生产、生产率优异的优点，方法(ii)一直受到注目。
作为方法(ii)中使用的活化能射线固化性树脂组合物，例如，有人提出下述的组合物。
含有聚氨酯丙烯酸酯等丙烯酸酯低聚物、具有自由基聚合性官能团的丙烯酸系树脂、脱模剂、光聚合引发剂的光固化性树脂组合物(专利文献1)。
含有三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯、光聚合引发剂、聚醚改性硅酮油等流平剂的紫外线固化性树脂组合物(专利文献2)。
但是，在通常由2个以上的层层积而成的层积体中，要求层间具有优异的密接性。
但是，活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层(固化层)与基材间的密接性未必充分。此外，在固化层的表面形成微细凹凸结构时，想要赋予全部的实用水平的光学性能或机械特性(抗划伤性或铅笔硬度等)等，是非常困难的。
作为提高基材与固化层的密接性的方法，已知有例如，在基材的表面上设置确保与固化层间的密接性的层(例如易接合层或底涂层等)、对基材的表面进行粗面化处理(例如拉丝表面处理或喷丸清理处理等)等的方法。
此外，作为兼顾防反射性能与机械特性(抗划伤性或铅笔硬度)的方法，已知有在转印了微细凹凸结构后的活化能固化性树脂组合物固化层与基材之间设置中间层的方法(专利文献3)。
此外，作为基材的折射率高时仍然能充分降低反射率的方法，已知有在转印了微细凹凸结构后的活化能固化性树脂组合物固化层与基材之间，层积具有折射率处于固化层与基材间的层的方法(专利文献4)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：专利第4156415号公报
专利文献2：日本专利特开2000-71290号公报
专利文献3：日本专利特开2011-856号公报
专利文献4：日本专利特开2009-31764号公报
发明内容
然而，在基材的表面上设置确保与固化层间的密接性的层时，需要施加涂布、干燥、老化等工序，存在加工费高昂的问题。
此外，对基材的表面进行粗面化处理时，除了加工费高昂的问题之外，还存在以下问题，即经由粗面化后，基材的雾度变高，由此带来了光学检测难以检出基材上的异物或缺陷的问题。进一步，还存在活化能固化性树脂组合物无法充分依附于基材的粗面，导致固化层与基材之间容易发生空隙缺陷的问题。
此外，如专利文献3、4所述，在基材与固化层之间设置中间层时，中间层与固化层的密接性容易变得不充分。尤其是，中间层同样是由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层时，想要提高表面具有微细凹凸结构的固化层与中间层层间的密接性，非常困难。
本发明鉴于以上情况而成，其课题在于，提供层间的密接性高，且机械特性优异的层积结构体，以及能以低成本容易地制造层间的密接性高，且机械特性优异的层积结构体的方法，和机械特性优异的制品。
本发明具有以下特征。
＜1＞一种由2个以上的层层积而成的层积结构体，其至少2个层的表面具有微细凹凸结构，且任意层的微细凹凸结构的凹部以及凸部与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同，界面没有实施脱模处理。
＜2＞上述＜1＞所述的层积结构体，任意层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔不同。
＜3＞上述＜1＞或者＜2＞所述的层积结构体，至少在最表层的表面上具有所述微细凹凸结构。
＜4＞上述＜3＞所述的层积结构体，最表层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔大于其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔。
＜5＞一种由2个以上的层层积而成的层积结构体，最表层是表面不具有微细凹凸结构的层，在最表层以外的至少1个层的表面上具有微细凹凸结构。
＜6＞上述＜1＞、＜2＞、＜5＞的任意1项所述的层积结构体，最表层是表面不具有微细凹凸结构的涂层。
＜7＞上述＜1＞～＜6＞的任意1项所述的层积结构体，最表层的弹性回复率在70％以上。
＜8＞上述＜1＞～＜7＞的任意1项所述的层积结构体，最表层的弹性模量在80MPa以上。
＜9＞上述＜1＞～＜8＞的任意1项所述的层积结构体，其表面具有所述微细凹凸结构的层是活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层。
＜10＞上述＜9＞所述的层积结构体，所述活化能射线固化性树脂组合物含有(甲基)丙烯酸酯类。
＜11＞上述＜1＞～＜10＞的任意1项所述的层积结构体，在基于JIS K 5600-5-6：1999(ISO 2409：1992)的划格胶带剥离试验中，以2.0mm间隔形成100格井字状切痕，在该切痕处粘附粘着胶带后，撕开时剥落的切痕的数目为100格中的不到50格。
＜12＞一种表面具有上述＜1＞～＜11＞的任意1项所述的层积结构体的制品。
＜13＞一种上述＜1＞～＜11＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，其使用模具通过转印法形成所述微细凹凸结构。
＜14＞一种上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(1-1)、(1-2)：
工序(1-1)：向基材上供给中间层用活化能射线固化性树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的中间层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成中间层后，从模具上剥离中间层。
工序(1-2)：重复1次以上的工序(1-1)后，向获得的中间层的表面供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜15＞一种上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(2-1)、(2-2)：
工序(2-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构。
工序(2-2)：在模具上的最表层用活化能射线固化性树脂组合物上，配置层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材，其中树脂组合物与中间层侧相接，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜16＞一种上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(3-1)、(3-2)：
工序(3-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之半固化。
工序(3-2)：在模具上的半固化最表层用活化能射线固化性树脂组合物上，配置层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材，其中树脂组合物与中间层侧相接，接着对半固化最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜17＞上述＜5＞所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(4-1)、(4-2)：
工序(4-1)：向基材上供给中间层用活化能射线固化性树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构的中间层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成中间层后，从模具上剥离中间层。
工序(4-2)：重复1次以上的工序(4-1)后，在获得的中间层的表面上形成最表层。
＜18＞上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(5-1)：
工序(5-1)：向表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上，供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜19＞上述＜18＞所述的层积结构体的制造方法，在向上述表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物之前，在该基材的表面上形成中间层。
＜20＞上述＜19＞所述的层积结构体的制造方法，上述中间层的表面上使用模具通过转印法形成微细凹凸结构。
＜21＞上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(6-1)、(6-2)：
工序(6-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构。
工序(6-2)：在模具上的最表层用活化能射线固化性树脂组合物上，配置表面具有微细凹凸结构的基材，其中树脂组合物与微细凹凸结构侧相接，接着对转印了微细凹凸结构的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜22＞上述＜21＞所述的层积结构体的制造方法，在表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上层积有中间层。
＜23＞上述＜22＞所述的层积结构体的制造方法，上述中间层的表面具有微细凹凸结构。
＜24＞上述＜1＞～＜4＞的任意1项所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(7-1)、(7-2)：
工序(7-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之半固化。
工序(7-2)：在模具上的半固化最表层用活化能射线固化性树脂组合物上，配置表面具有微细凹凸结构的基材，其中树脂组合物与微细凹凸结构侧相接，接着对半固化最表层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
＜25＞上述＜24＞所述的层积结构体的制造方法，在表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上层积有中间层。
＜26＞上述＜25＞所述的层积结构体的制造方法，上述中间层的表面具有微细凹凸结构。
＜27＞上述＜5＞所述的层积结构体的制造方法，包含下述工序(8-1)：
工序(8-1)：在表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上形成最表层。
＜28＞上述＜27＞所述的层积结构体的制造方法，在上述表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上形成最表层之前，在该基材的表面上形成中间层。
＜29＞上述＜28＞所述的层积结构体的制造方法，在上述中间层的表面上使用模具通过转印法形成微细凹凸结构。
发明的效果
本发明的层积结构体，其层间的密接性高，且机械特性优异。尤其是，最表层是表面具有微细凹凸结构的层时，光学特性同样优异。
根据本发明的层积结构体的制造方法，能以低成本容易地制造层间密接性高，且机械特性优异的层结构体。
本发明的制品，其机械特性优异。
附图说明
[图1]本发明的一例层积结构体的截面示意图。
[图2]表面具有阳极氧化铝的模具的制造工序的截面图。
[图3]一例层积结构体的制造装置的构成图。
[图4]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
[图5]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
[图6]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
[图7]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
[图8]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
[图9]本发明的层积结构体的其它例的截面图。
符号说明
10、50、60、70、80、90、100 层积结构体
10’ 层积体
12 基材
14 中间层
14a 表面具有微细凹凸结构的层
14b 表面不具有微细凹凸结构的层
16 最表层
20 铝基材
22 细孔
24 氧化皮膜
26 细孔产生点
28 模具
30 辊状模具
32 储罐
34 空压气缸
36 压辊
38 活化能射线照射装置
40 剥离辊
具体实施方式
以下对本发明进行详细说明。
另，本说明书中，将层积结构体的最上层称为“最表层”，最下层称为“基材”或者“基材层”，最表层与基材之间配置的层称为“中间层”。
此外，本说明书中，“层的表面”包含邻接的2层的界面。
此外，本说明书中，“活化能射线”意指可见光线、紫外线、电子射线、等离子体、热线(红外线等)等。
此外，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯的总称，“(甲基)丙烯酸”是丙烯酸以及甲基丙烯酸的总称，“(甲基)丙烯腈”是丙烯腈以及甲基丙烯腈的总称，“(甲基)丙烯酰胺”是丙烯酰胺以及甲基丙烯酰胺的总称。
图1、4～9中，为了能在图上尽可能清楚地显示各层，因此各层的缩尺是不同的。
此外，图2～9中，存在使用相同的符号表示与图1相同的构成要素，并省略其说明的情况。
“层积结构体”
<<第1方式>>
本发明的第1方式中的层积结构体是2个以上的层层积而成的构成，至少2个层的表面具有微细凹凸结构。此外，任意层的微细凹凸结构的凹部以及凸部与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。以下将该配置状态也称为“配置不同”。进一步，第1方式中的层积结构体的特征在于，界面没有实施脱模处理。
图1是第1方式中的一例层积结构体的截面图。
该例的层积结构体10是在基材12上，以中间层14和最表层16的顺序依次层积而得的构成，中间层14与最表层16的表面上具有微细凹凸结构。
如上所述，最表层是层积结构体的最上层，基材是层积结构体的最下层。在构成层积结构体的各层中，朝向最上层侧的面是“上面”，朝向最下层侧的面是“下面”。本发明中，层的上面为“层的表面”，层的下面为“层的背面”。
因此，例如图1所示的层积结构体10中，“最表层的表面”是指最表层16的上面、即没有与中间层14相接的一侧的面，“最表层的背面”是指最表层16的下面、即与最表层16的中间层14相接的一侧的面。此外，“中间层的表面”是指中间层14的上面、即与中间层14的最表层16相接的一侧的面，“中间层的背面”是指中间层14的下面、即与中间层14的基材12相接的一侧的面。此外，“基材的表面”是指基材12的上面、即与基材12的中间层14相接的一侧的面，“基材的背面”是指基材12的下面、即没有与基材12的中间层14相接的一侧的面。
最表层16的表面相当于层积结构体10的表面(最上面)，基材12的背面相当于层积结构体的背面(最下面)。此外，最表层16的背面与中间层14的表面相当于最表层16与中间层14的界面，中间层14的背面与基材12的表面相当于中间层14与基材12的界面。
最表层16的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与中间层14的微细凹凸结构的凹部以及凸部的配置不同。
此处，“配置不同”是指在1个以上的将层积结构体在层积方向(纵方向)上切断为多个的切断面中，任意层(例如最表层)的微细凹凸结构的凹凸形状，沿着层积结构体的厚度方向平行移动时，不与其它的至少1个层(例如中间层)的微细凹凸结构的形状重叠。另，不一定需要所有的任意层的微细凹凸结构的凹凸形状均与其它的至少1个层的微细凹凸结构的形状不重叠，只有一部分重叠也是可以的。此外，“形状不重叠”是指任意层的微细凹凸结构的凸部的高宽比与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凸部的高宽比不同(例如参照图1、4～6、8)，或者是任意层与其它的至少1个层的微细凹凸结构相互错位(例如参照图7)。
层积结构体10的各界面、即基材12与中间层14的界面，以及中间层14与最表层16的界面没有实施脱模处理。通过采用这样的构成，即使有意剥离任意层也难以剥开，其层间密接性得到提高。
此处，“界面没有实施脱模处理”是指基材12的表面、中间层的背面与表面，以及最表层16的背面没有实施脱模处理。此外，“脱模处理”是指对基材12的表面、中间层的背面与表面，以及最表层16的背面，涂布例如后述的模具的说明中列举的脱模剂，形成脱模层。
微细凹凸结构的凹部以及凸部的形状没有特别限定，优选排列有多个的近似圆锥状、棱锥状等的突起(凸部)的、所谓的蛾眼结构或其反转结构。特别地，最表层16的微细凹凸为相邻的凸部间的平均间隔在可见光波长(400nm)以下的蛾眼结构时，由于从空气折射率至材料折射率，折射率呈连续性增大，故作为防反射方法是有效的。另一方面，中间层14的微细凹凸结构为蛾眼结构时，即使相邻层的折射率不同，也能抑制界面的反射，故对于降低反射率或抑制干涉条纹非常有效。
微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔(以下也称为“凸部间距”)优选在可见光波长以下、即400nm以下，更优选300nm以下，进一步优选250nm以下。凸部间距在400nm以下的话，反射率低，且反射率的波长依存性小。基于易形成凸部结构的点，凸部间距优选25nm以上，更优选80nm以上。
另，相邻凸部间的平均间隔采取通过电子显微镜测定的50个相邻凸部间的间隔(凸部的中心至邻接的凸部的中心间的距离)的平均值。
优选任意层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔，不同于其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔。通过采取这样的构成，易于调整层间的密接性等。
此外，如图1所示的最表层16的表面具有微细凹凸结构时，优选最表层16的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔，大于其它的至少1个层(图1的情况是中间层14)的微细凹凸结构的凹部间或者凸部间的平均间隔。通过采取这样的构成，层间密接性进一步得到提高，且最表层16的表面(即、层积结构体10的表面)的抗划伤性以及防汚性得到提高。
微细凹凸结构的凸部的平均高度优选100nm以上，更优选130nm以上。凸部的平均高度在100nm以上的话，反射率低，且反射率的波长依存性小。此外，可以确保层间的密接性。基于易于形成凸部结构的点，凸部的平均高度优选400nm以下，更优选300nm以下。
另，凸部的平均高度采取以下的值：通过上述电子显微镜进行观察时，测定50个凸部的最顶部与凸部间存在的凹部的最底部间的距离，采用这些值的平均值。
此外，凸部的高宽比(凸部的平均高度/相邻凸部间的平均间隔)优选0.8～5，更优选1.2～4，进一步优选1.5～3。凸部的高宽比在0.8以上的话，反射率足够低。凸部的高宽比在5以下的话，凸部的抗划伤性良好。
最表层16的弹性回复率优选70％以上，更优选80％以上，特别优选85％以上。最表层16的弹性回复率在70％以上的话，即使对最表层16施加横向外力，其也易于回复原状，因此不易形成伤痕，抗划伤性进一步提高。特别地，最表层16在表面具有微细凹凸结构时，即使对该微细凹凸结构施加横向外力，也不易发生凸部折断、削减，故抗划伤性进一步提高。此外，最表层16的弹性回复率在70％以上的话，最表层16不易塑性变形，下陷不易作为压痕残留，故可以维持较高的铅笔硬度。
此外，最表层16的弹性模量优选80MPa以上，更优选120～2000MPa。最表层16的弹性模量在80MPa以上的话，即使对最表层16从外部施加力，也能容易地回复原状，抗划伤性进一步提高。特别地，最表层16在表面具有微细凹凸结构时，即使对该微细凹凸结构从外部施加力而导致微细凹凸结构变形，也不易发生凸部折断、削减，能容易地回复原状。
最表层16的弹性回复率以及弹性模量，可以通过使用显微硬度计测定最表层16的材料(例如后述的最表层用树脂组合物)的固化物的弹性回复率以及弹性模量求得。
具体地，首先，制作在玻璃板等基材上形成最表层16的材料的固化物而得的试验片。使用维氏压头和显微硬度计，以[施压(100mN/10秒)]→[保持(100mN、10秒)]→[卸除(100mN/10秒)]的评价程序测定试验片的固化物的物性。基于获得的测定结 果，使用分析软件(例如、菲希尔测试仪器有限公司制的“WIN-HCU”等)算出固化物的弹性模量以及弹性回复率，将其作为最表层16的弹性回复率以及弹性模量。
另，最表层的弹性回复率以及弹性模量，也可通过使用显微硬度计以各层膜厚的十分之一以内的深度，测定层积结构体的最表层侧的表面求得。
中间层14的折射率与基材12的折射率之差，以及最表层16的折射率与中间层14的折射率之差分别优选0.2以下，更优选0.1以下，进一步优选0.05以下。折射率差分别在0.2以下的话，可以有效地抑制各层的界面中的反射。
作为层积结构体的最下层的基材12，优选透光的成形体。这是由于使用不易透光的模具形成微细凹凸结构时，需要从基材侧照射活化能射线，详细情况见后述。
作为这样的基材12的材料，可列举例如丙烯酸系树脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酯(聚对苯二甲酸乙二酯等)、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯等)、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚氨酯、玻璃等。这些材料可以单独使用1种，或2种以上并用。
基材12可以是注射模塑成形体、挤压成形体、铸塑成形体。基材12的形状可以适当选择，可以是片状，或膜状。
此外，为了改良密接性、防静电性、抗划伤性、耐候性等，基材12的表面可以实施涂层处理、电晕处理等。
另一方面，作为中间层14的材料，可以举出活化能射线固化性树脂组合物、热塑性树脂、无机材料等，但基于易于形成微细凹凸结构的点，优选中间层14是活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层。
此外，最表层16同样基于易于形成微细凹凸结构的点，优选是活化能射线固化性树脂组合物的固化物形成的层。
以下对活化能射线固化性树脂组合物进行详细说明。另，将中间层用活化能射线固化性树脂组合物称为“中间层用树脂组合物”，将最表层用活化能射线固化性树脂组合物称为“最表层用树脂组合物”。
＜活化能射线固化性树脂组合物＞
活化能射线固化性树脂组合物(以下也有简单称为“树脂组合物”的情况)是通过照射活化能射线，进行聚合反应而固化的树脂组合物。
树脂组合物中，适宜含有例如分子中具有自由基聚合性键以及/或者阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物作为聚合性成分。此外，树脂组合物通常含有用于固化的聚合引发剂。
(聚合性成分)
作为分子中具有自由基聚合性键的单体，可列举例如(甲基)丙烯酸酯类((甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯等)、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯腈、苯乙烯类(苯乙烯、α-甲基苯乙烯等)、(甲基)丙烯酰胺类((甲基)丙烯酰胺、N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺等)等单官能单体；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸氧化乙烯改性二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-二(4-(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-二(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙烷、1,4-二(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丁烷、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的氧化乙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的氧化丙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亚甲基二丙烯酰胺等二官能单体；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷氧化乙烯改性三(甲基)丙 烯酸酯、三羟甲基丙烷氧化丙烯改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷氧化乙烯改性三丙烯酸酯、异氰脲酸氧化乙烯改性三(甲基)丙烯酸酯等三官能单体；琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等多官能单体，以及这些多官能单体的氧化乙烯加成物或氧化丙烯加成物等；二官能以上的聚氨酯丙烯酸酯、二官能以上的聚酯丙烯酸酯等。这些可以单独使用1种，或2种以上并用。其中，基于易于获得所期望的弹性回复率或弹性模量的点，优选(甲基)丙烯酸酯类。
作为分子中具有自由基聚合性键的低聚物以及反应性聚合物，可列举例如不饱和聚酯类(不饱和二元羧酸与多元醇的缩合物等)、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、阳离子聚合型环氧化合物、侧链具有自由基聚合性键的上述单体的均聚物或者共聚物等。
作为分子中具有阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物，只要是具有阳离子聚合性官能团的化合物(阳离子聚合性化合物)即可，可以是单体、低聚物、预聚物的任意。
作为阳离子聚合性官能团，实用性高的官能团可列举例如环状醚基(环氧基、氧杂环丁基等)、乙烯基醚基、碳酸酯基(O-CO-O基)等。
作为阳离子聚合性化合物，可列举例如环状醚化合物(环氧化合物、氧杂环丁烷化合物等)、乙烯基醚化合物、碳酸酯系化合物(环状碳酸酯化合物、二硫代碳酸酯化合物等)等。
作为分子中具有阳离子聚合性键的单体，具体地可列举具有环氧基、氧杂环丁基、恶唑基、乙烯基氧基等的单体，其中特别优选具有环氧基的单体。作为具有阳离子聚合性键的低聚物以及反应性聚合物，具体地可列举阳离子聚合型环氧化合物等。
(聚合引发剂)
作为聚合引发剂，可列举公知的化合物。
利用光反应使树脂组合物固化时，作为光聚合引发剂，可列举自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂。
作为自由基聚合引发剂，只要是照射公知的活化能射线产生酸的化合物即可，可列举苯乙酮系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂、酰基膦氧化物系光聚合引发剂等。这些自由基聚合引发剂可以单独使用1种，或2种以上并用。
作为苯乙酮系光聚合引发剂，可列举例如苯乙酮、p-叔丁基-1’,1’,1’-三氯苯乙酮、氯苯乙酮、2’,2’-二乙氧基苯乙酮、羟基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2’-苯基苯乙酮、2-氨基苯乙酮、二烷基氨基苯乙酮等。
作为苯偶姻系光聚合引发剂，可列举例如联苯酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-2-甲基-1-丙酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙酮、苄基二甲基缩酮等。
作为二苯甲酮系光聚合引发剂，可列举例如二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、苯甲酰基苯甲酸甲酯、甲基-o-苯甲酰基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、羟基丙基二苯甲酮、丙烯酸二苯甲酮、4,4’-二(二甲基氨基)二苯甲酮等。
作为噻吨酮系光聚合引发剂，可列举例如噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、二乙基噻吨酮、二甲基噻吨酮等。
作为酰基膦氧化物系光聚合引发剂，可列举例如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、苯甲酰基二乙氧基氧化膦、二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等。
作为其它的自由基聚合引发剂，可列举例如α-酰基肟酯、苄基-(o-乙氧基羰基)-α-单肟、乙醛酸酯、3-香豆素、2-乙基蒽醌、樟脑醌、四甲基秋兰姆硫醚、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰、二烷基过氧化物、过氧化特戊酸叔丁酯等。
作为阳离子聚合引发剂，只要是照射公知的活化能射线产生酸的化合物即可，可列举锍盐、碘盐、鏻盐等。这些阳离子聚合引发剂可以单独1种使用，或2种以上并用。
作为锍盐，可列举例如三苯基锍六氟磷酸盐、三苯基锍六氟锑酸盐、二(4-(二苯基锍)-苯基)硫醚-二(六氟磷酸盐)、二(4-(二苯基锍)-苯基)硫醚-二(六氟锑酸盐)、4-二(p-甲苯基)锍-4’-叔丁基苯基羰基-二苯基硫醚六氟锑酸盐、7-二(p-甲苯基)锍-2-异丙基噻吨酮六氟磷酸盐、7-二(p-甲苯基)锍-2-异丙基噻吨酮六氟锑酸盐等。
作为碘盐，可列举例如二苯基碘六氟磷酸盐、二苯基碘六氟锑酸盐、二(十二烷基苯基)碘四(五氟苯基)硼酸盐等。
作为鏻盐，可列举例如四氟磷六氟磷酸盐、四氟磷六氟锑酸盐等。
利用热反应使树脂组合物固化时，作为热聚合引发剂，可列举例如有机过氧化物(过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二异丙苯、过氧化叔丁醇、过氧化氢异丙苯、过氧化(2-乙基己酸)叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰等)、偶氮系化合物(偶氮二异丁腈等)、上述有机过氧化物中组合有胺(N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基-p-甲苯胺等)的氧化还原聚合引发剂等。
这些热聚合引发剂可以单独使用1种，或2种以上并用。
聚合引发剂的含量是相对于聚合性成分100质量份，优选0.1～10质量份。聚合引发剂的含量在0.1质量份以上的话，易于进行聚合。聚合引发剂的含量在10质量份以下的话，获得的固化物着色、机械强度下降的情况少。
(其它成分)
树脂组合物可以含有非反应性聚合物。
作为非反应性聚合物，可列举例如丙烯酸树脂、苯乙烯系树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯基丁缩醛树脂、聚酯树脂、热塑性弹性体等。
此外，树脂组合物中，根据需要，除了上述化合物之外，还可以含有表面活性剂、脱模剂、滑剂、增塑剂、抗静电剂、光稳定剂、抗氧化剂、阻燃剂、阻燃助剂、阻聚剂、填充剂、硅烷偶联剂、着色剂、强化剂、无机填料、无机或者有机系微粒、耐冲击改质剂、少量的溶剂等公知的添加剂。
(物性)
对于树脂组合物的粘度，详细的可见后述，但出于易于注入模具表面的微细凹凸结构中的观点，优选不要太高。具体地，25℃时，使用旋转式B型粘度计测定的树脂组合物的粘度，优选10000mPa·s以下，更优选5000mPa·s以下，进一步优选2000mPa·s以下。
其中，即使是树脂组合物的粘度超过10000mPa·s时，只要在与模具接触时可以预先加热降低粘度的话，即没有太大的问题。此时，70℃时，使用旋转式B型粘度计测定的树脂组合物粘度优选5000mPa·s以下，更优选2000mPa·s以下。
对于树脂组合物的粘度的下限值没有特别限制，但在10mPa·s以上的话，不会湿化扩散，可以高效地制造层积结构体，故而优选。
＜层积结构体的制造方法＞
中间层14以及最表层16的微细凹凸结构的形成方法没有特别限制，优选使用模具的转印法，具体是，使上述树脂组合物与表面具有微细凹凸结构反转结构的模具接触、使之固化而形成。
根据转印法，可以自由地设计各层的微细凹凸结构的形状。此外，也容易制造任意层的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部以及凸部配制不同的层积结构体。
以下，对一例转印法中使用的模具进行说明。
(模具)
模具在其表面具有与微细凹凸结构相对应的反转结构。
作为模具的材料，可列举金属(包含在表面形成了氧化皮膜的金属)、石英、玻璃、树脂、陶瓷等。
作为模具的形状，可列举辊状、圆管状、平板状、片状等。
作为模具的制作方法，可列举例如下述方法(I-1)、方法(I-2)等。其中，基于可大面积化，且制作简便的观点，优选方法(I-1)。
方法(I-1)：根据在铝基材的表面形成具有多个细孔(凹部)的阳极氧化铝的方法，形成微细凹凸结构的反转结构。
方法(I-2)：在模具基材的表面，通过电子束光刻法、激光干涉法等形成微细凹凸结构的反转结构。
优选方法(I-1)包含下述工序(a)～(f)。
工序(a)：将铝基材在电解液中、恒压下阳极氧化，在铝基材的表面形成氧化皮膜。
工序(b)：除去部分或全部氧化皮膜，在铝基材的表面上形成阳极氧化的细孔产生点。
工序(c)：工序(b)之后，将铝基材在电解液中再次阳极氧化，在细孔产生点上形成具有细孔的氧化皮膜。
工序(d)：工序(c)之后，扩大细孔的直径。
工序(e)：工序(d)之后，在电解液中再次阳极氧化。
工序(f)：重复进行工序(d)和工序(e)，获得在铝基材的表面形成有具有多个细孔的阳极氧化铝的模具。
工序(a)：
如图2所示，通过对铝基材20进行阳极氧化，形成具有细孔22的氧化皮膜24。
作为铝基材的形状，可列举辊状、圆管状、平板状、片状等。
由于铝基材上附着有加工成规定形状时所使用的油，因此优选预先进行脱脂处理。此外，为了使铝基材的表面状态平滑，优选进行研磨处理。
铝的纯度优选99％以上，更优选99.5％以上，进一步优选99.8％以上。铝的纯度低的话，阳极氧化时，存在由杂质的偏析引起的形成散射可见光大小的凹凸结构、由阳极氧化获得的细孔的规则性低的情况。
作为电解液，可列举硫酸、草酸、磷酸等。
将草酸作为电解液使用时，草酸的浓度优选0.8M以下。草酸的浓度在0.8M以下的话，可以防止电流值的上升，抑制氧化皮膜的表面变粗糙。
此外，化成电压为30～100V时，可以获得具有周期为100nm～200nm的高规则性细孔的阳极氧化铝。化成电压高于或低于该范围时，均有规则性降低的倾向。电解液的温度 优选60℃以下，更优选45℃以下。通过使电解液的温度在60℃以下，可以防止被称为“烧伤”的现象发生，抑制细孔破损，或表面溶解致细孔规则性紊乱。
将硫酸作为电解液使用时，优选硫酸的浓度在0.7M以下。硫酸的浓度在0.7M以下的话，可以防止电流值上升，维持恒压。
此外，化成电压在25～30V时，可以获得具有周期为63nm的高规则性细孔的阳极氧化铝。化成电压高于或低于该范围时，均有规则性降低的倾向。电解液的温度优选30℃以下，更优选20℃以下。通过使电解液的温度在30℃以下，可以防止被称为“烧伤”的现象发生，抑制细孔破损，或表面溶解致细孔规则性紊乱。
工序(b)：
如图2所示，暂时先除去部分或全部的氧化皮膜24，使其形成阳极氧化细孔产生点26，可以提高细孔的规则性。即使是不全部除去氧化皮膜24而部分残留的状态，氧化皮膜24之中，已经存在有规则性充分高的部分的话，也达到了除去氧化皮膜的目的。
作为除去氧化皮膜24的方法，可以列举使氧化皮膜24溶解于不溶解铝而可选择性溶解氧化皮膜24的溶液中进而除去的方法。作为这样的溶液，可列举例如铬酸/磷酸混合液等。
工序(c)：
如图2所示，通过将除去了氧化皮膜的铝基材20再次进行阳极氧化，可形成具有圆柱状细孔22的氧化皮膜24。
阳极氧化可在与工序(a)同样的条件下进行。阳极氧化的时间越长，可以获得较深的细孔。
工序(d)：
如图2所示，进行扩大细孔22的直径的处理(以下称为“孔径扩大处理”。)。孔径扩大处理是将其浸渍于可溶解氧化皮膜24的溶液中，使阳极氧化所得的细孔的直径扩大的处理。作为这样的溶液，可列举例如5质量％左右的磷酸水溶液等。
孔径扩大处理的时间越长，细孔径越大。
工序(e)：
如图2所示，通过再次进行阳极氧化，可以进一步形成由圆柱状细孔22的底部进一步向下延伸的直径小的圆柱状细孔22。
阳极氧化可在与工序(a)相同的条件下进行。阳极氧化的时间越长，可以获得较深的细孔。
工序(f)：
如图2所示，通过重复进行工序(d)的孔径扩大处理、工序(e)的阳极氧化，可以形成具有细孔22的氧化皮膜24，该细孔22具有直径从开口部向深度方向连续减少的形状。由此获得铝基材20的表面具有阳极氧化铝(铝的多孔性氧化皮膜(氧化铝膜))的模具28。最后优选以工序(d)收工。
重复次数总共优选3次以上，更优选5次以上。通过使重复次数在3次以上，可获得细孔直径连续减少、具有充分的反射率降低效果的蛾眼结构。
作为细孔22的形状，可列举近似圆锥形状、棱锥状、圆柱形状等。优选圆锥形状、棱锥状等这样的形状，在与深度方向垂直的方向上的细孔截面积由最表面向深度方向连续减少。
相邻细孔22间的平均间隔优选可见光的波长以下、即400nm以下，更优选25～300nm，进一步优选80nm～250nm。
相邻细孔22间的平均间隔是通过电子显微镜，测定50个相邻细孔22间的间隔(由细孔22的中心至邻接的细孔22的中心间的距离)，取这些值的平均值。
细孔22的平均深度优选100～400nm，更优选130～300nm。
细孔22的平均深度是通过上述电子显微镜观察时，测定50个细孔22的最底部与细孔22间存在的凸部最顶部间的距离，取这些值的平均值。
细孔22的高宽比(细孔22的平均深度/相邻细孔22间的平均间隔)优选0.3～4，更优选0.8～2.5。
对于模具的形成了微细凹凸结构一侧的表面，可以用脱模剂实施处理。
作为脱模剂，可列举硅酮树脂、氟树脂、氟化合物、磷酸酯等，优选氟化合物以及磷酸酯。
作为氟化合物的市售品，可列举苏威特种塑料日本株式会社生产的“Fluorolink”、信越化学工业株式会社生产的氟烷基硅烷“KBM-7803”、旭硝子株式会社生产的“MRAF”、哈维斯株式会社生产的“オプツールHD1100”、“オプツールHD2100系列”、大金工业株式会社生产的“オプツールDSX”、住友3M株式会社生产的“Novec EGC-1720”、株式会社fluorotech生产的“FS-2050”系列等。
作为磷酸酯，优选(聚)氧基亚烷基烷基磷酸化合物。作为市售品，可列举城北化学工业株式会社制的“JP-506H”、Axell公司制的“Moldwiz INT-1856”、日光化学制品株式会社制的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”、“DLP-10”等。
这些脱模剂可以单独使用1种，或2种以上并用。
使用这样获得的、铝基材的表面具有阳极氧化铝的模具，通过转印法形成微细凹凸结构时，层积结构体的微细凹凸结构是转印阳极氧化铝的表面的微细凹凸结构所形成的。
以下，对一例制造层积结构体的制造装置、使用该制造装置的层积结构体的制造方法进行具体说明。
(制造装置以及层积结构体的制造方法)
如图1所示的层积结构体10，例如，使用图3所示的制造装置，由含有下述工序(1-1)、(1-2)的制造方法(1)制造而得。
工序(1-1)：向基材上供给中间层用活化能射线固化性树脂组合物(中间层用树脂组合物)，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的中间层用树脂组合物照射活化能射线，使其固化形成中间层后，从模具上剥离中间层。
工序(1-2)：重复1次以上工序(1-1)后，向获得的中间层的表面供给最表层用活化能射线固化性树脂组合物(最表层用树脂组合物)，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使其固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
工序(1-1)：
如图3所示，在表面具有微细凹凸结构的反转结构(图示略)的辊状模具30，与沿着辊状模具30的表面移动的帯状膜基材12之间，由储罐32供给中间层用树脂组合物。
在辊状模具30与由空压气缸34调整了夹压的压辊36之间，夹压基材12以及中间层用树脂组合物。由此，中间层用树脂组合物在基材12与辊状模具30之间均一行走的同时，填充入辊状模具30的微细凹凸结构的凹部内，转印微细凹凸结构。
经由设置在辊状模具30下方的活化能射线照射装置38，隔着基材12，对转印了微细凹凸结构的中间层用树脂组合物照射活化能射线，使中间层用树脂组合物固化。由此，形成转印了辊状模具30的表面的微细凹凸结构的表面具有微细凹凸结构的中间层14。
通过剥离辊40，将形成了表面具有微细凹凸结构的中间层14的基材12从辊状模具30上剥离，由此获得基材12上层积了中间层14的层积体10’。获得的层积体10’，其中间层14的表面(微细凹凸结构侧的面)不用进行脱模处理，可直接用于下一工序。
工序(1-2)：
再次，使用图3所示的制造装置，使层积体10’取代基材12，沿着辊状模具30的表面移动，在层积体10’与辊状模具30之间，由储罐32供给最表层用树脂组合物。在辊状模具30与由空压气缸34调整了夹压的压辊36之间，夹压层积体10’以及最表层用树脂组合物。由此，最表层用树脂组合物在层积体10’与辊状模具30之间均一行走的同时，填充入辊状模具30的微细凹凸结构的凹部内，转印微细凹凸结构。
接着，隔着基材12，对转印了微细凹凸结构后的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使树脂组合物固化。由此，形成转印了辊状模具30的表面的微细凹凸结构的表面具有微细凹凸结构的最表层16。
接着，通过剥离辊40，将形成了表面具有微细凹凸结构的最表层16的层积体10’从辊状模具30上剥离，由此获得如图1所示的、表面具有微细凹凸结构的中间层14以及最表层16在基材12上依次层积的层积结构体10。
作为活化能射线照射装置38，优选高压汞灯、金属卤化灯、LED灯等。光照射能量优选100～10000mJ/cm2。
另，中间层14与最表层16可以使用相同的制造装置形成，也可使用不同的制造装置形成。
使用相同的制造装置时，可防止制造装置的大型化。此时，各层上微细凹凸结构的凹部以及凸部的形状不同时，由形成中间层14切换为形成最表层16时，将模具交换为最表层用模具。
使用不同的制造装置时，可以连续形成中间层14与最表层16。
＜作用效果＞
以上说明的第1方式的层积结构体10，由于含有表面具有微细凹凸结构的中间层14，经由微细凹凸结构产生的锚固效果使得中间层14与同该中间层14邻接的最表层16间的密接性优异。此外，由于层积结构体10的界面没有实施脱模处理，即使有意剥离任意层也难以剥离，层间密接性高。
例如，具有以下的密接性：层积结构体10在基于JIS K 5600-5-6：1999(ISO 2409：1992)的划格胶带剥离试验中，在层积结构体10的表面(最上面)以2.0mm的间隔形成100格(10×10)井字状切痕，在该切痕处以按压负重0.1MPa粘附粘着胶带后，撕开时剥落的切痕的数目为100格中不到50格。
另外，由于层积结构体10为多层结构，抗划伤性提高，层积结构体10的表面机械特性提高。特别地，层积结构体10在基材12与最表层16之间设置中间层14，机械特性进一步优异。增加该中间层14的厚度，或者以较硬的材料、复原力强的材料或能吸收应力的材料形成中间层14的话，层积结构体10的表面抗划伤性或铅笔硬度有进一步提高的倾向。
如此，第1方式的层积结构体10，其层间(中间层14与最表层16)密接性高，且机械特性优异。
此外，由于层积结构体10的层间密接性高，不需要在基材表面设置易接合层或底涂层，或对基材表面进行粗面化处理，能以低成本进行制造。
而且，第1方式的层积结构体10，由于在最表层16的表面同样具有微细凹凸结构，故防反射性能等光学性能亦优异。
此外，具备中间层的层积体中，作为提高最表层与中间层的密接性的方法，已知有在基材上形成中间层时不进行中间层用树脂组合物的固化，或者弱化固化的方法。通过这些方法在基材上形成中间层的话，在于中间层的表面形成最表层之前的阶段中，存在中间层的表面附着于搬送辊，或者重叠层积了中间层的基材时发生粘连的情况。
但是，如图1所示的层积结构体10那样，在中间层14的表面形成有微细凹凸结构的话，最表层16与中间层14的密接性优异。因此，不需要不进行中间层用树脂组合物的固化或弱化固化，故难以发生中间层14的表面附着于搬送辊，或者重叠层积了中间层14的基材12时发生粘连的情况。
此外，微细凹凸结构的特征在于，凸部间距、凸部的平均高度，以及作为凸部间距与凸部的平均高度的平衡的高宽比。例如，凸部间距窄、凸部的平均高度高、高宽比越大，层间的密接性越优异。另一方面，凸部间距宽、凸部的平均高度低、高宽比越小，层积结构体10的表面的抗划伤性越高、难以发生相邻的凸部之间相互靠拢，致微细凹凸结构崩塌的现象。
如图1所示的层积结构体10，中间层14与最表层16上微细凹凸结构的凸部的平均高度虽然相同，但凸部间距是最表层16的微细凹凸结构比中间层14的微细凹凸结构大，高宽比是最表层16的微细凹凸结构比中间层14的微细凹凸结构小。如此，在最表层16的表面上形成凸部间距宽、高宽比小的微细凹凸结构，以及在中间层14的表面上形成凸部间距窄、高宽比大的微细凹凸结构的层积结构体10，其抗划伤性与密接性的平衡性良好。此外，由于中间层14和最表层16中微细凹凸结构的凸部间距不同，仅在中间层14上层积最表层16，可以使这些微细凹凸结构配置不同。
此外，使用模具通过转印法形成上述微细凹凸结构的话，可自由地设计各层的微细凹凸结构的形状。此外，还可容易地制造任意层的微细凹凸结构的凹部以及凸部与其它的至少1个层的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同的层积结构体。
另，例如，为了能紧贴表面具有微细凹凸结构的层(中间层)的该表面形状，使用任意的涂层材料涂层中间层的话，所形成的涂层(最表层)的表面也具有形状紧贴其下层(中间层)表面形状的微细凹凸结构。但是，此时，各层的微细凹凸结构的配置没有不同。而且，中间层与涂层(最表层)上，难以形成凸部间距、凸部的平均高度以及高宽比不同的微细凹凸结构。
此外，形成紧贴表面具有微细凹凸结构的层(中间层)的该表面形状的涂层(最表层)时，涂层(最表层)易造成厚度不均，想要形成均一厚度的涂层(最表层)的话，需要熟练的涂层技术。此外，还有涂层材料不能充分填入中间层的微细凹凸结构的凹部，在中间层与涂层(最表层)之间形成缝隙的担忧。特别地，凸部高(凹部深)时，或者凸部或凹部的间距窄时，涂层材料难以填入凹部中。
但是，转印法的话，可容易地形成均一厚度的最表层16。此外，由于树脂组合物充分填入了中间层14的凹部中，故难以在中间层14与最表层16之间形成缝隙。而且，在形成中间层14时和形成最表层16时，仅变更模具，即可在中间层14与最表层16上容易地形成凸部间距、凸部的平均高度以及高宽比不同的微细凹凸结构。
(用途)
第1方式的层积结构体可期待作为防反射制品(防反射膜、防反射膜等)、光学制品(光导波路、浮雕全息图、镜片、偏光分离元件等)、细胞培养片、超防水性制品、超亲水性制品的用途展开。其中，特别适合作为防反射制品的用途。
作为防反射制品，可列举例如图像显示装置(液晶显示装置、等离子体显示器面板、电致发光显示器、阴极管显示装置等)、镜片、橱窗、眼镜等的表面上贴设的防反射膜、防反射膜、防反射片等。
例如将防反射制品用于图像显示装置时，可以直接在图像显示面上贴付作为防反射制品的防反射膜，也可以在构成图像显示面的构件的表面上直接形成作为防反射制品的防反射膜，还可以在前面板上形成作为防反射制品的防反射膜。
＜其它的实施方式＞
第1方式的层积结构体不限于上述产品。如图1所示的层积结构体10，中间层14由1层构成，也可以例如如图4、5所示，中间层14由多个层构成。中间层由多个层构成时，各层的材料、膜厚、物性(机械特性或光学性能等)可以相同或者不同。
如图4所示的层积结构体50，其是由在基材12上，依次层积中间层14和最表层16而构成。层积结构体50的中间层14由表面具有微细凹凸结构的层14a,14a的2层构成，最表层16的表面也具有微细凹凸结构。最表层16的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与构成中间层14的、表面具有微细凹凸结构的层14a,14a的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同，且表面具有微细凹凸结构的层14a,14a相互之间的微细凹凸结构也配置不同。
另，如图4所示的层积结构体50，全部的微细凹凸结构的凸部间距以及高宽比均不同，全部的微细凹凸结构的配置也不相同，至少有2个微细凹凸结构配置不同的话，剩余的微细凹凸结构不需要与上述2个微细凹凸结构的任一方配置不同。此外，配置不同的表面具有微细凹凸结构的各层之间，可以是邻接，也可以不邻接。
如图5所示的层积结构体60，其是由在基材12上，依次层积中间层14和最表层16而构成。层积结构体60的中间层14由表面具有微细凹凸结构的层14a与表面不具有微细凹凸结构的层14b的2层构成，最表层16的表面也具有微细凹凸结构。最表层16的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与构成中间层14的、表面具有微细凹凸结构的层14a的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。作为表面不具有微细凹凸结构的层14b的材料，可列举热塑性树脂、活化能射线固化性树脂组合物、无机材料等。
另，如图5所示的层积结构体60，其最表层16与表面具有微细凹凸结构的层14a是邻接的，但最表层16也可与表面不具有微细凹凸结构的层14b邻接。
此外，如图1、4、5所示的层积结构体10、50、60，其在基材12与最表层16之间设置中间层14，但也可例如如图6所示那样，在基材12上直接层积最表层16。
如图6所示的层积结构体70，其是在基材12上层积最表层16而构成。层积结构体70的基材12以及最表层16均在其表面具有微细凹凸结构，最表层16的微细凹凸结构的凹部以及凸部与基材12的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。其中，为了进一步体现更优异的抗划伤性等机械特性，优选在基材12与最表层16之间设置中间层。
此外，如图1、4～6所示的层积结构体10、50、60、70，虽然各层的微细凹凸结构的凸部间距以及高宽比均不同，但若至少2层的微细凹凸结构配置不同的话，例如如图7所示，各层的微细凹凸结构的凸部间距以及高宽比等可以相同。其中，各层的微细凹凸结构的凸部间距若不同的话，层间密接性等的调整变得容易。
如图7所示的层积结构体80，其是在基材12上依次层积中间层14和最表层16而构成。层积结构体80的中间层14以及最表层16均在其表面具有微细凹凸结构，最表层16的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与中间层14的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。此外，中间层14以及最表层16的微细凹凸结构，其凸部间距、凸部的平均高度以及高宽比均相同。如此，凸部间距、凸部的平均高度以及高宽比相同的微细凹凸结构的位置错开的话，可以有效地减少由结构引发的不必要的衍射或干涉等。
此外，如图1、4～7所示的层积结构体10、50、60、70、80，虽然其各层的微细凹凸结构的凹部以及凸部的形状相同(图1、4～7中为近似圆锥状)，但各层上微细凹凸结构的凹部以及凸部的形状可以不同，根据要求的微细凹凸结构的效果适当进行选择即可。
此外，这些层积结构体10、50、60、70、80，虽然至少最表层16的表面形成有微细凹凸结构，但若至少2个层的表面具有微细凹凸结构的话，例如如图8所示，最表层16的表面也可以不形成微细凹凸结构。此外，基材12的背面也可以形成微细凹凸结构。其中，为了进一步体现更优异的防反射性能等光学性能，优选至少最表层16的表面具有微细凹凸结构。
如图8所示的层积结构体90，其是在基材12上，依次层积中间层14与最表层16而构成。层积结构体90的中间层14是由表面具有微细凹凸结构的层14a,14a的2层构成，最表层16的表面不具有微细凹凸结构。表面具有微细凹凸结构的层14a,14a之中，其中一个的微细凹凸结构的凹部以及凸部与另一个的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。
层积结构体90的最表层16也可以是涂层。如图8所示，与涂层邻接的中间层14若在表面具有微细凹凸结构的话，涂层即通过中间层14得到贴紧。
进一步，在基材12的背面，也可以介由粘着材层设置隔离膜。通过设置粘着材层，可容易地贴付其它的膜状或片状的制品(前面板、偏光元件等)。
此外，层积结构体的制造方法不限于上述制造方法(1)。
制造在最表层16的表面形成微细凹凸结构的层积结构体时，可以通过例如下述制造方法(2)、(3)的任一个方法进行制造。
制造方法(2)是包含下述工序(2-1)、(2-2)的方法。
工序(2-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上供给最表层用树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构。
工序(2-2)：在模具上的最表层用树脂组合物上，以中间层侧与该树脂组合物相接的方式，配置层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材，接着对转印了微细凹凸结构后的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使其固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
工序(2-1)中，通过向模具的表面上供给最表层用树脂组合物，最表层用树脂组合物填充入模具的微细凹凸结构的凹部内，模具的微细凹凸结构转印于最表层用树脂组合物上。
工序(2-2)中，在最表层用树脂组合物上，配置层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材的阶段中，最表层用树脂组合物未固化。因此，即使是中间层的微细凹凸结构的凹部内也易于填充未固化的最表层用树脂组合物。通过在该状态下固化最表层用树脂组合物，在最表层逐步形成的同时，层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材与最表层逐步一体化。
作为在基材上层积表面具有微细凹凸结构的中间层的方法，没有特别限制，可列举例如上述工序(1-1)的方法。中间层的表面没有进行脱模处理。
制造方法(3)是包含下述工序(3-1)、(3-2)的方法。
工序(3-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使其半固化。
工序(3-2)：在模具上的半固化最表层用树脂组合物上，以中间层侧与该树脂组合物相接的方式，配置层积了表面具有微细凹凸结构的中间层的基材，接着对半固化最表层用树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
制造方法(3)除了在工序(3-1)中半固化转印了微细凹凸结构的最表层用树脂组合物以外，其它均与制造方法(2)相同。
此处，“半固化”是指不会流动的固化状态，具体是半固化后的粘度在10000mPa·s以上，或者是相对于工序(3-2)中固化(完全固化)时的硬度，显示出80％以下的硬度。
上述制造方法(1)～(3)是基材表面不具有微细凹凸结构的层积结构体的制造方法，制造基材表面具有微细凹凸结构的层积结构体时，可使用例如下述制造方法(5)～(7)的任一方法。
制造方法(5)是包含下述工序(5-1)的方法。
工序(5-1)：向表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上，供给最表层用树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
工序(5-1)中，使用表面没有实施脱模处理的基材。
此外，工序(5-1)中，在向表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上供给最表层用树脂组合物之前，可以在该基材的表面上形成中间层。作为形成中间层的方法，没有特别限制，可列举例如后述的层压成形法、流延法、涂布法、转印法等公知的方法。此外，在中间层的表面上，可以通过例如使用上述工序(1-1)等的模具的转印法形成微细凹凸结构。另，中间层的表面没有实施脱模处理。
制造方法(6)是包含下述工序(6-1)、(6-2)的方法。
工序(6-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构。
工序(6-2)：向模具上的最表层用树脂组合物上，以微细凹凸结构侧与该树脂组合物相接的方式，配制表面具有微细凹凸结构的基材，接着对转印了微细凹凸结构的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
制造方法(7)是包含下述工序(7-1)、(7-2)的方法。
工序(7-1)：向表面具有微细凹凸结构的模具的该表面上，供给最表层用树脂组合物，转印模具的微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构的最表层用树脂组合物照射活化能射线，使之半固化。
工序(7-2)：向模具上的半固化最表层用树脂组合物上，以微细凹凸结构侧与该树脂组合物相接的方式，配制表面具有微细凹凸结构的基材，接着对半固化最表层用树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成最表层后，从模具上剥离最表层。
工序(6-2)、(7-2)中，使用表面没有实施脱模处理的基材。
此外，对于工序(6-2)、(7-2)中使用的基材，可以在基材的微细凹凸结构侧的表面上层积中间层，此时，以中间层侧与最表层用树脂组合物相接触的方式，在最表层用树脂组合物上配置层积了中间层的基材。此外，中间层的表面可以具有微细凹凸结构。
作为在基材上层积中间层的方法，没有特别限制，可列举例如后述的层压成形法、流延法、涂布法、转印法等公知的方法。此外，对于基材上层积表面具有微细凹凸结构的中间层的方法也没有特别限制，可列举例如上述工序(1-1)的方法。另，中间层的表面没有实施脱模处理。
此外，如图8所示，制造最表层16的表面没有形成微细凹凸结构的层积结构体时，使用例如下述制造方法(9)的方法即可。
制造方法(9)是包含下述工序(9-1)、(9-2)的方法。
工序(9-1)：向基材上供给中间层用活化能射线固化性树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构的中间层用活化能射线固化性树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成中间层之后，从模具上剥离中间层。
工序(9-2)：重复2次以上的工序(9-1)后，在获得的中间层的表面上形成最表层。
工序(9-1)与第1方式中说明的工序(1-1)相同。另，中间层14的表面没有实施脱模处理。
工序(9-2)中作为在中间层的表面形成最表层的方法，没有特别限制，可列举例如层压成形法、流延法、涂布法、转印法等公知的方法等。
作为层压成形法，可列举在中间层的表面上，以溶融状态挤压、层积最表层树脂组合物后，通过冷却辊等的冷却装置进行冷却的方法。
作为流延法或涂布法，可列举以下方法：将上述最表层树脂组合物，溶解或者分散于甲苯、MEK、乙酸乙酯等有机溶剂的单独物或者混合物中，配制成固体成分浓度为0～70质量％左右的溶液，将其以流延方式、涂布方式等合适的展开方式延展开，干燥后通过活化能射线使之固化，在中间层的表面直接附设。
作为转印法，可列举以下方法：向表面为镜面的转印辊(模具)，与层积了中间层的基材的中间层侧之间，填充最表层树脂组合物，使其在中间层与转印辊之间均一行走，对最表层树脂组合物照射活化能射线，使之固化。
此外，工序(9-2)中，也可不紧贴中间层的表面形状(微细凹凸结构)，由任意的涂层材料涂层中间层的表面形成涂层，以该涂层作为最表层。此时的涂层(最表层)的表面没有形成微细凹凸结构。
另，制造方法(9)中，虽然是在基材上形成表面具有微细凹凸结构的中间层后，再形成最表层，但也可以如后述的工序(8-1)那样，在表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上直接形成最表层。此外，可以在表面具有微细凹凸结构的基材上，形成1层以上的中间层后，再形成最表层。此时，根据需要，可在中间层的表面，通过例如模具转印法形成微细凹凸结构。
<<第2方式>>
本发明的第2方式中的层积结构体是由2个以上的层层积而构成，最表层是表面不具有微细凹凸结构的层，最表层以外的至少1个层的表面具有微细凹凸结构。
图9是第2方式中的一例层积结构体的截面图。
该例中的层积结构体100，是在基材12上依次层积中间层14和最表层16而构成，中间层14的表面具有微细凹凸结构。
微细凹凸结构的凸部间的平均间隔、平均高度以及高宽比与第1方式相同。
此外，对于基材12，或者构成中间层14以及最表层16的树脂组合物，也与第1方式相同。
另，第2方式中，层积结构体的界面可以实施脱模处理，也可以不实施脱模处理，优选没有实施脱模处理。
＜层积结构体的制造方法＞
中间层14的微细凹凸结构的形成方法没有特别限制，优选使用了模具的转印法，具体的是，使中间层用树脂组合物同表面具有与微细凹凸结构相对应的反转结构的模具相接触，使之固化而形成。
对于使用了模具的转印法，或者是此时使用的模具以及制造装置，均与第1方式相同。
图9所示的层积结构体100通过含有例如下述工序(4-1)、(4-2)的制造方法(4)制造而成。
工序(4-1)：向基材上供给中间层用树脂组合物，使用表面具有微细凹凸结构的模具转印微细凹凸结构，接着对转印了微细凹凸结构后的中间层用树脂组合物照射活化能射线，使之固化形成中间层后，从模具上剥离中间层。
工序(4-2)：重复1次以上的工序(4-1)后，在获得的中间层的表面上形成最表层。
工序(4-1)与第1方式中说明的工序(1-1)相同。其中，工序(4-1)中，中间层的表面可以进行或不进行脱模处理，优选不进行脱模处理。
工序(4-2)与第1方式中说明的工序(9-2)相同。
＜作用效果＞
以上说明的第2方式的层积结构体100，由于含有表面具有微细凹凸结构的中间层14，经由微细凹凸结构产生的锚固效果使得中间层14与同该中间层14邻接的最表层16间的密接性优异。此外，由于层积结构体100的界面没有实施脱模处理，即使有意剥离任意层也难以剥离，层间密接性高。例如，其具有以下的密接性：层积结构体100在进行上述的划格胶带剥离试验时，剥落的切痕的数目为100格中不到50格。
另外，由于层积结构体10为多层结构，抗划伤性提高，层积结构体100的表面机械特性提高。特别地，层积结构体100在基材12与最表层16之间设置中间层14，机械特性进一步优异。增加该中间层14的厚度，或者以较硬的材料、复原力强的材料或能吸收应力 的材料形成中间层14的话，层积结构体10的表面抗划伤性或铅笔硬度有进一步提高的倾向。
如此，第2方式的层积结构体100，其层间(中间层14与最表层16)密接性高，且机械特性优异。
此外，由于层积结构体100的层间密接性高，不需要在基材表面设置易接合层或底涂层，或对基材表面进行粗面化处理，能以低成本进行制造。
(用途)
第2方式的层积结构体通过适当选择各层的材料，适用于层间密接性优异的防反射制品、涂层制品、超防水性制品、超亲水性制品、耐指纹性制品、防污性制品的用途。
＜其它的实施方式＞
第2方式的层积结构体不限于上述制品。如图9所示的层积结构体100，虽然中间层14由1层构成，但中间层14也可由多个层构成。中间层由多个层构成时，各层的材料、膜厚、物性(机械特性或光学性能等)可以相同或者不同。
此外，图9所示的层积结构体100虽然仅在中间层14的表面上形成有微细凹凸结构，但也可以在2层以上的表面上形成微细凹凸结构，例如在基材12的表面上也可以形成微细凹凸结构。进一步，中间层14由多层的层构成时，可以在其中的2层以上的表面上形成微细凹凸结构。
另，在2层以上的表面上形成微细凹凸结构时，优选任意层的微细凹凸结构的凹部以及凸部，与至少1个层的微细凹凸结构的凹部以及凸部配置不同。
此外，层积结构体的制造方法不限于上述的制造方法(4)。
上述的制造方法(4)是基材表面不具有微细凹凸结构的层积结构体的制造方法，在制造基材表面具有微细凹凸结构的层积结构体时，例如使用下述制造方法(8)的方法即可。
制造方法(8)是含有下述工序(8-1)的方法。
工序(8-1)：在表面具有微细凹凸结构的基材的该表面形成最表层。
工序(8-1)中作为在基材的表面形成最表层的方法，可列举与第1方式中说明的工序(9-1)相同的方法。
此外，工序(8-1)中，在向表面具有微细凹凸结构的基材的该表面上形成最表层之前，可以在该基材的表面上形成中间层。作为形成中间层的方法，没有特别限制，可列举例如上述的层压成形法、流延法、涂布法、转印法等公知的方法。此外，在中间层的表面上，可以通过例如使用了第1方式中说明的工序(1-1)等的模具的转印法形成微细凹凸结构。
实施例
以下通过实施例对本发明更详细地说明。
各种测定以及评价方法、模具的制造方法、各例中使用的成分如下。
“测定·评价”
(模具细孔的测定)
切取模具的一部分，对表面以及纵剖面蒸镀铂1分钟，使用场发射型扫描电子显微镜(日本电子株式会社制、“JSM-7400F”)，在加速电压3.00kV下进行观察，测定50个相邻细孔间的间隔(从细孔的中心至邻接的细孔中心间的距离)，取其平均值作为相邻细孔间的平均间隔。
此外，观察模具的纵剖面，测定50个细孔的最底部，与细孔间存在的凸部的最顶部之间的距离，取其平均值作为细孔的平均深度。
(微细凹凸结构的凸部的测定)
在中间层以及最表层形成之时，对测定样本的表面以及纵剖面蒸镀铂10分钟，使用场发射型扫描电子显微镜(日本电子株式会社制、“JSM-7400F”)，在加速电压3.00kV下进行观察，测定50个相邻凸部间的间隔(从凸部的中心至相邻的凸部的中心间的距离)，取其平均值作为相邻凸部间的平均间隔。
此外，观察测定样本的截面，测定50个凸部的最底部，与凸部间存在的凹部的最顶部之间的距离，取其平均值作为凸部的平均高度。
进一步，通过电子显微镜观察，确认中间层以及最表层所形成的各微细凹凸结构的配置。
(中间层以及最表层的膜厚的测定)
在中间层或者最表层形成之时，使用微距计测定包含基材与中间层或者/以及最表层的层积膜的膜厚，通过减去层积了基材或者中间层的膜的膜厚，估算中间层以及最表层的膜厚。
(弹性模量以及弹性回复率的测定)
使用大载玻片(松浪硝子工业株式会社制、“大载玻片、型号：S9213”、大小76mm×52mm)作为基材。在该基材上涂布工序2中使用的树脂组合物，使涂膜的厚度为约250μm，对其使用高压汞灯以约1000mJ/cm2照射紫外线，制作基材上形成了树脂组合物固化物的试验片。将其作为弹性模量以及弹性回复率的测定用试验片。
使用维氏压头(四面金刚石锥体)、显微硬度计(菲希尔测试仪器有限公司制、“FISCHERSCOPE HM2000XYp”)，[施压(100mN/10秒)]→[保持(100mN、10秒)]→[卸除(100mN/10秒)]的评价程序测定试验片固化物的物性。测定是在恒温室(温度23℃、湿度50％)内进行。
基于获得的测定结果，通过分析软件(菲希尔测试仪器有限公司制、“WIN-HCU”)算出工序2中使用的树脂组合物固化物的弹性模量以及弹性回复率，将其作为最表层的弹性模量以及弹性回复率。
(密接性评价)
将格子数取100格，评价基准如后述以外，基于划格胶带剥离试验(JIS K 5600-5-6：1999(ISO 2409：1992))进行密接性的评价。
首先，在表面具有微细凹凸结构的层积结构体的背面(没有转印微细凹凸结构的基材的背面)，介由光学粘着剂贴付透明的厚2.0mm的黑色丙烯酸树脂板(三菱丽阳株式会社制、“アクリライトEX#502”、50mm×60mm)，在具有微细凹凸结构的表面上，使用切割刀以2mm的间隔，从最表层直达基材的深度，切出100格(10×10)井字状切痕，在井字状部位以按压负重0.1MPa粘附粘着胶带(米其邦株式会社制、“セロテープ(注册商标)”)使之贴付。之后，快速撕开粘着胶带，观察最表层的剥离状态，基于以下的评价基准评价密接性。
○：100格之中，发生了不足10格的脱落。
△：100格之中，发生了10格以上不足50格的脱落。
×：100格之中，发生了50格以上的脱落。
(抗划伤性的评价)
在表面具有微细凹凸结构的层积结构体的表面上放置的四边2cm的钢丝棉(日本钢丝棉株式会社制、“ボンスター#0000”)上，施加400g的负重，使用磨耗试验机(新东科学株式会社制、“HEiDON TRIBOGEAR TYPE-30S”)，以往复距离30mm、杆头速度30mm/秒往复磨耗10次。之后，评价层积结构体的表面外观。进行外观评价时，在层积结构体的背面(没有转印微细凹凸结构的基材的背面)，介由光学粘着剂贴付透明的厚2.0mm的黑色丙烯酸树脂板(三菱丽阳株式会社制、“アクリライトEX#502”、50mm×60mm)，在屋内照射荧光灯目视观察，基于以下的评价基准评价抗划伤性。
◎：没有确认到伤痕。
○：可以确认到的伤痕不足5条，擦伤部位没有发白混浊。
△：可以确认到的伤痕在5条以上、小于20条，擦伤部位稍许发白混浊。
×：可以确认到的伤痕在20条以上，擦伤部位可以看到明显的发白混浊。
×*：几乎没有确认到伤痕，但最表层上发生了脱落。
(反射率的测定)
在表面具有微细凹凸结构的层积结构体的背面(没有转印微细凹凸结构的基材的背面)，介由光学粘着剂贴付透明的厚2.0mm的黑色丙烯酸树脂板(三菱丽阳株式会社制、“アクリライトEX#502”、50mm×60mm)，将其作为样本。使用分光光度计(株式会社岛津制作所制、“UV-2450”)，在入射角：5°(使用5°镜面反射附件)、波长：380～780nm的范围内测定样本表面(层积结构体侧)的相对反射率，基于JIS R 3106：1998(ISO 9050：1990)算出可见光反射率，评价防反射性。
(雾度的测定)
在表面具有微细凹凸结构的层积结构体的背面(没有转印微细凹凸结构的基材的背面)，介由光学粘着剂贴付透明玻璃板(松浪硝子工业株式会社制、“大载玻片、型号：S9112”、大小76mm×52mm)，将其作为样本。使用雾度计(日本电色工业(株)制、“NDH2000”)，测定样本的雾度，评价透明性。
(抗粘连性评价)
将2片后述的“工序1：中间层的形成”中获得的层积了中间层的层积膜(50×50mm)，使中间层的表面与没有形成中间层的基材的表面相接触重叠放置，以施加800g的负重的状态放置1天后，观察2片层积膜的状态，基于以下的评价基准评价抗粘连性。
○：层积膜相互之间没有贴付。
×：层积膜相互之间粘在一起。
“模具的制造”
(模具A的制造)
将纯度99.99质量％、厚度2mm、直径65mm的铝圆盘进行布轮研磨以及电解研磨后，作为铝基材使用。
将0.3M草酸水溶液调整到16℃，使铝基材浸入其中，以直流40V进行30分钟阳极氧化。由此在铝基材上形成具有细孔的氧化皮膜(工序(a))。
接着，将形成了氧化皮膜的铝基材，浸入到6质量％的磷酸与1.8质量％铬酸混合得到的70℃的水溶液中6小时。由此，溶解除去氧化皮膜(工序(b))。
将溶解除去了氧化皮膜的铝基材，浸入调整到16℃的0.3M的草酸水溶液中，以40V实施30秒阳极氧化(工序(c))。
接着，使之浸入调整到32℃的5质量％磷酸水溶液中8分钟，实施扩大氧化皮膜细孔的孔径扩大处理(工序(d))。像这样重复交替进行阳极氧化和孔径扩大处理，总共各实施5次(工序(e)、(f))，获得表面形成了阳极氧化铝的模具，该阳极氧化铝具有平均间隔100nm、平均深度180nm的近似圆锥状细孔。
将获得的模具浸入脱模剂(日光化学制品株式会社制的“TDP-8”的0.1质量％水溶液)10分钟后，捞起风干一晩上，获得脱模处理后的模具A。
(模具B的制造)
将纯度99.99质量％、厚度2mm、直径65mm的铝圆盘进行布轮研磨以及电解研磨后，作为铝基材使用。
将0.3M草酸水溶液调整到15℃，使铝基材浸入其中，重复操作直流稳定化装置的电源ON/OFF，对铝基材实施间歇性流通电流，阳极氧化。每隔30秒施加5秒80V的恒压，重复该操作60次。由此在铝基材上形成具有细孔的氧化皮膜(工序(a))。
接着，将形成了氧化皮膜的铝基材，浸入到6质量％的磷酸与1.8质量％铬酸混合而得的70℃的水溶液中6小时。由此，溶解除去氧化皮膜(工序(b))。
将溶解除去了氧化皮膜的铝基材，浸入调整到16℃的0.05M的草酸水溶液中，以80V实施7秒阳极氧化(工序(c))。
接着，使之浸入调整到32℃的5质量％磷酸水溶液中20分钟，实施扩大氧化皮膜细孔的孔径扩大处理(工序(d))。像这样重复交替进行阳极氧化和孔径扩大处理，总共各实施5次(工序(e)、(f))，获得表面形成了阳极氧化铝的模具，该阳极氧化铝具有平均间隔180nm、平均深度180nm的近似圆锥状细孔。
将获得的模具浸入脱模剂(日光化学制品株式会社制的“TDP-8”的0.1质量％水溶液)10分钟后，捞起风干一晩上，获得脱模处理后的模具B。
“活化能射线固化性树脂组合物的配制”
(活化能射线固化性树脂组合物A的配制)
混合二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制、“DPHA”)20质量份、季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药株式会社制、“ニューフロンティアPET-3”)20质量份、聚乙二醇二丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制、“A-200”)35质量份以及N,N-二甲基丙烯酰胺(株式会社兴人制、“DMAA”)25质量份作为聚合性成分，1-羟基环己基苯基酮(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE184”)1.0质量份以及二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE819”)0.5质量份作为聚合引发剂，脱模剂(巴工业株式会社制、“Moldwiz INT-1856”)0.1质量份，配制活化能射线固化性树脂组合物A(树脂组合物A)。
(活化能射线固化性树脂组合物B的配制)
混合聚乙二醇二丙烯酸酯(东亚合成株式会社制、“M-260”)50质量份以及二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改性化合物(日本化药株式会社制、“DPEA-12”)50质量份作为聚合性成分，1-羟基环己基苯基酮(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE184”)1.0质量份以及二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE819”)0.5质量份作为聚合引发剂，脱模剂(巴工业株式会社制、“Moldwiz INT-1856”)0.1质量份，配制活化能射线固化性树脂组合物B(树脂组合物B)。
(活化能射线固化性树脂组合物C的配制)
混合二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制、“DPHA”)22质量份以及乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制、“ATM-35E”)78质量份作为聚合性成分，1-羟基环己基苯基酮(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE184”)1.0质量份以及二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE819”)0.5质量份作为聚合引发剂，脱模剂(巴工业株式会社制、“Moldwiz INT-1856”)0.1质量份，配制活化能射线固化性树脂组合物C(树脂组合物C)。
(活化能射线固化性树脂组合物D的配制)
混合二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制、“DPHA”)25质量份、季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药株式会社制、“ニューフロンティアPET-3”)25质量份、聚乙二醇二丙烯酸酯(东亚合成株式会社制、“M-260”)25质量份以及二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改性化合物(日本化药株式会社制、“DPEA-12”)25质量份作为聚合性成分，1-羟基环己基苯基酮(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE184”)1.0质量份以及二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE819”)0.5质量份作为聚合引发剂，脱模剂(巴工业株式会社制、“Moldwiz INT-1856”)0.1质量份，配制活化能射线固化性树脂组合物D(树脂组合物D)。
(活化能射线固化性树脂组合物E的配制)
混合多官能聚氨酯丙烯酸酯(第一工业制药株式会社制、“ニューフロンティアR-1150D”)50质量份、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制、“DPCA-30”)10质量份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有机化学工业株式会社制、“ビスコート#230”)40质量份作为聚合性成分，1-羟基环己基苯基酮(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE184”)3.0质量份以及二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(汽巴·日本株式会社制、“IRGACURE819”)1.0质量份作为聚合引发剂，脱模剂(巴工业株式会社制、“Moldwiz INT-1856”)0.1质量份，配制活化能射线固化性树脂组合物E(树脂组合物E)。
“实施例1”
(工序1：中间层的形成)
将树脂组合物A数滴垂滴到模具A的表面上。使用厚度80μm的三乙酰基纤维素膜(富士膜株式会社制、“TD80ULM”、以下也表示为“TAC膜”)基材按压树脂组合物A使其扩展开的同时，以TAC膜覆盖树脂组合物A。之后，从TAC膜侧使用高压汞灯以1000mJ/cm2的能量照射紫外线，使树脂组合物A固化。将树脂组合物A的固化物同TAC膜一起从模具A上脱模，获得基材上层积了表面具有相邻凸部间的平均间隔为100nm、凸部的平均高度为180nm(高宽比：1.8)的微细凹凸结构的、膜厚3μm的中间层的层积膜。
(工序2：最表层的形成)
将树脂组合物B数滴垂滴到模具B的表面上。使用之前获得的层积膜按压树脂组合物B使其扩展开的同时，以层积膜覆盖树脂组合物B。之后，从层积膜侧使用高压汞灯以1000mJ/cm2的能量照射紫外线，使树脂组合物B固化。将树脂组合物B的固化物同层积膜一起从模具上脱模，获得层积膜的中间层上层积了表面具有相邻凸部间的平均间隔为180nm、凸部的平均高度为180nm(高宽比：1.0)的微细凹凸结构的、膜厚8μm的最表层的膜状层积结构体。另，中间层与最表层的表面上形成的微细凹凸结构的配置不同。
测定工序2中使用的树脂组合物的固化物的弹性模量以及弹性回复率，将其作为最表层的弹性模量以及弹性回复率。结果见表1。
对获得的层积结构体，评价密接性以及抗划伤性，测定反射率、雾度以及抗粘连性。结果见表2。
“实施例2”
工序1中，将TAC膜换为丙烯酸膜(三菱丽阳株式会社制、“アクリプレン”、厚度100μm)，工序2中将树脂组合物B变更为树脂组合物C，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，中间层以及最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同，中间层与最表层的表面形成的微细凹凸结构配置不同。
“实施例3”
工序2中，将模具B变更为模具A，树脂组合物B变更为树脂组合物D，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，中间层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为100nm、凸部的平均高度为180nm、高宽比为1.8。此外，中间层与最表层的表面上所形成的微细凹凸结构配置不同。
“实施例4”
工序1中，将TAC膜换为丙烯酸膜，将树脂组合物A变更为树脂组合物E，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，中间层以及最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同，中间层与最表层的表面上所形成的微细凹凸结构配置不同。
“实施例5”
工序1中，将TAC膜换为丙烯酸膜，树脂组合物A变更为树脂组合物E，工序2中，将树脂组合物B变更为树脂组合物C，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，中间层以及最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同，中间层与最表层的表面上所形成的微细凹凸结构配置不同。
“比较例1”
工序1中，将模具A变更为表面没有形成微细凹凸结构的反转结构的镜面铝基材(以下简称为“镜面铝基材”。)，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同。
“比较例2”
工序1中，将模具A变更为镜面铝基材，将TAC膜换为丙烯酸膜，工序2中将树脂组合物B变更为树脂组合物C，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同。
“比较例3”
工序1中，将模具A变更为镜面铝基材，工序2中，将模具B变更为模具A，树脂组合物B变更为树脂组合物D，除此之外，其它均与实施例1相同地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为100nm、凸部的平均高度为180nm、高宽比为1.8。
“比较例4”
工序1中，将模具A变更为镜面铝基材，将TAC膜换为丙烯酸膜，树脂组合物A变更为树脂组合物E，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同。
“比较例5”
工序1中，将模具A变更为镜面铝基材，将TAC膜换为丙烯酸膜，树脂组合物A变更为树脂组合物E，工序2中，将树脂组合物B变更为树脂组合物C，除此之外，其它同实施例1一样地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与实施例1相同。
“参考例1”
将树脂组合物A数滴垂滴到模具A的表面上。使用TAC膜基材按压树脂组合物A使其扩展开的同时，以TAC膜覆盖树脂组合物A。之后，从TAC膜侧使用高压汞灯以1000 mJ/cm2的能量照射紫外线，使树脂组合物A固化。将树脂组合物A的固化物同TAC膜一起从模具A上脱模，获得在基材上层积了表面具有相邻凸部间的平均间隔为100nm、凸部的平均高度为180nm(高宽比：1.8)的微细凹凸结构的、膜厚3μm的最表层的膜状层积结构体。
对获得的层积结构体同实施例1一样进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
“参考例2”
将TAC膜变更为丙烯酸膜，除此之外，其它均与参考例1相同地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔、凸部的平均高度、高宽比均与参考例1相同。
“参考例3”
将模具A变更为模具B，树脂组合物A变更为树脂组合物B，除此之外，其它均与参考例1相同地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为180nm、凸部的平均高度为180nm、高宽比为1.0。
“参考例4”
将TAC膜换为丙烯酸膜，模具A变更为模具B，树脂组合物A变更为树脂组合物C，除此之外，其它均与参考例1相同地制造层积结构体，进行各种测定以及评价。结果见表1、2。
另，最表层的表面上所形成的微细凹凸结构的相邻凸部间的平均间隔为180nm、凸部的平均高度为180nm、高宽比为1.0。
[表1]
[表2]
另，表1中，“TAC”是指TAC膜，“丙烯酸”是指丙烯酸膜，“镜面”是指镜面铝基材。
从表1、2的结果明显可知，中间层以及最表层的表面上具有配置不同的微细凹凸结构的实施例1～5的层积结构体，其具有良好的密接性、抗划伤性、防反射性以及透明性。此外，抗粘连性同样优异。
另一方面，中间层的表面没有形成微细凹凸结构的比较例1～5的层积结构体，与各实施例的层积结构体具有同等程度的防反射性以及透明性，但中间层与最表层的密接性差，在评价抗划伤性的磨耗试验时最表层上发生了脱落。
此外，从参考例1、2明显可知，对基材的密接性优异的树脂组合物A的抗划伤性差，从参考例4明显可知，抗划伤性良好的树脂组合物C的对基材的密接性差。
结果显示出，根据本发明，通过在2层以上的表面上具有特定的微细凹凸结构，可以兼顾密接性与抗划伤性。
产业上的利用可能性
本发明的层积结构体，其层间密接性高，作为光学性能以及机械特性优异的光学制品、尤其是防反射膜等防反射制品有用。