一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法.pdf

本发明涉及一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，步骤如下：1）将坯体在45-50MPa、1280℃-1300℃下压制6-8小时成砖备用；2）将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1125℃-1150℃下烧制30-35min,保温6-8min，备用；3）将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制40-45min,保温3-5min。本发明工艺生产的闪光薄型陶瓷砖采用合理的配比和工艺，产品不仅闪光效果好，平整均匀，强度高，而且成品率高达90%-94%。

权利要求书
1.  一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法 ，其特征在于，坯体原料中主要包括：二氧化硅40-50重量份、氧化铝25-35重量份、氧化钙3-5重量份、氧化镁2-4重量份、氧化石墨烯0.5-1重量份；
其底釉的组成及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：二氧化锆：三氧化二硼：氧化镁：氧化锌：氧化钠=30-32：5-5.5：0.3-0.5：2-3：1-1.5：3-4；
面釉组成为及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：氧化铅：氧化锆：氧化钙：氧化钡：氧化锌：氧化钠：氧化铈：氧化钛=26-27：3-3.5：2.5-3：2-2.5：3-3.5：2-2.5：4-4.5：1-1.5：2-2.5：1-1.5；
制造方法如下：
将坯体在45-50MPa、1280℃-1300℃下压制成砖备用；
将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1125℃-1150℃下烧制30-35min,保温6-8min，备用；
将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制40-45min,保温3-5min。

2.  根据权利要求1所述的闪光薄型陶瓷砖的制造方法，其特征在于，所述的面釉熔块在1250℃-1300℃制成。

说明书一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法
技术领域
本发明涉及一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，属于建筑材料领域。
背景技术
闪光陶瓷砖具有较好的装饰性，用于家居室内墙面，本发明提供一种闪光效果好，平整均匀的闪光薄型陶瓷砖的制造方法。
发明内容
本发明的技术方案是：
一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，坯体原料中主要包括：二氧化硅40-50重量份、氧化铝25-35重量份、氧化钙3-5重量份、氧化镁2-4重量份、氧化石墨烯0.5-1重量份；
底釉的组成及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：二氧化锆：三氧化二硼：氧化镁：氧化锌：氧化钠=30-32：5-5.5：0.3-0.5：2-3：1-1.5：3-4；
面釉组成为及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：氧化铅：氧化锆：氧化钙：氧化钡：氧化锌：氧化钠：氧化铈：氧化钛=26-27：3-3.5：2.5-3：2-2.5：3-3.5：2-2.5：4-4.5：1-1.5：2-2.5：1-1.5；
制造方法如下：
1）将坯体在45-50MPa、1280℃-1300℃下压制6-8小时成砖备用；
2）将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1125℃-1150℃下烧制30-35min,保温6-8min，备用；
3）将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制40-45min,保温3-5min。
所述的闪光薄型陶瓷砖的制造方法，面釉熔块在1250℃-1300℃制成。
本发明的优点是： 本发明工艺生产的闪光薄型陶瓷砖采用合理的配比和工艺，产品不仅闪光效果好，平整均匀，强度高，而且成品率高达90%-94%。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明作进一步描述。
下述实施例中底釉的组成及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：二氧化锆：三氧化二硼：氧化镁：氧化锌：氧化钠=32：5：0.4：2.3：1.2：3.5；
面釉组成为及质量比为：二氧化硅：三氧化二铝：氧化铅：氧化锆：氧化钙：氧化钡：氧化锌：氧化钠：氧化铈：氧化钛=26：3.2：2.8：2.2：3.3：2：4.5：1.5：2.4：1；面釉熔块在1280℃下制成。
    实施例1
    一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，制造方法如下：
1）将坯体在45MPa、1290℃下压制7小时成砖备用；
2）将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1150℃下烧制35min,保温6min，备用；
3）将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制40min,保温3min。
    根据JCT 2195-2013 中的标准进行检测，无釉裂，耐磨性为5级。
实施例2
    一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，制造方法如下：
1）将坯体在48MPa、1300℃下压制8小时成砖备用；
2）将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1150℃下烧制30min,保温8min，备用；
3）将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制45min,保温3min。
    根据JCT 2195-2013 中的标准进行检测，无釉裂，耐磨性为5级。
实施例3
    一种闪光薄型陶瓷砖的制造方法，制造方法如下：
1）将坯体在50MPa、1280℃下压制6小时成砖备用；
2）将底釉磨成釉粉，细度5-6微米，将坯体喷涂底釉后，在1150℃下烧制35min,保温6min，备用；
3）将面釉磨成细度5-6微米的釉粉继续喷涂于上一步中的坯体底釉上，1150℃下烧制40-45min,保温5min。
根据JCT 2195-2013 中的标准进行检测，无釉裂，耐磨性为5级。