电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 104299983 A (43)申请公布日 2015.01.21 CN 104299983 A (21)申请号 201410499304.7 (22)申请日 2014.09.25 H01L 29/02(2006.01) H01L 33/00(2010.01) (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路 10 号 (72)发明人 井口真介 廖金龙 高雪 (74)专利代理机构 北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112 代理人 彭瑞欣 陈源 (54) 发明名称 电致发光器件及其制造方法、 显示基板和显 示装置 (57) 摘要 。

2、本发明公开了一种电致发光器件及其制造方 法、 显示基板和显示装置， 该电致发光器件包括 ： 基板和形成于基板的上方的像素界定层， 像素界 定层上形成有像素开口矩阵， 该像素开口矩阵包 括多个像素开口， 像素开口内形成有电致发光层， 处于同一列的全部电致发光层中至少存在一个电 致发光层与其他电致发光层的厚度不相等。本发 明通过将电致发光器件内的处于同一列的全部电 致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致 发光层的厚度不相等， 从而使得对应列中的电致 发光层在发光时所产生的亮度不均匀， 进而使得 电致发光器件上的条纹 mura 被淡化， 提升了该电 致发光器件的品质。 (51)Int.Cl. 权。

3、利要求书 2 页 说明书 6 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 (10)申请公布号 CN 104299983 A CN 104299983 A 1/2 页 2 1. 一种电致发光器件， 其特征在于， 包括 ： 基板和形成于所述基板的上方的像素界定 层， 所述像素界定层围成有像素开口矩阵 , 所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成有 预定颜色的电致发光层 , 在所述像素开口矩阵中， 处于同一列的全部所述像素开口对应相 同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的 像素开口的开口面。

4、积不相等。 2. 根据权利要求 1 所述的电致发光器件， 其特征在于， 处于同一列的全部所述像素开 口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。 3. 根据权利要求 1 所述的电致发光器件， 其特征在于， 处于同一列的全部所述像素开 口中所述像素开口的开口面积与预先设置的参考面积的形成有面积比 a ； 所述面积比 a 的取值范围为 ： 0.98 a 1.02。 4. 根据权利要求 3 所述的电致发光器件， 其特征在于， 所述面积比 a 的取值范围为 ： 0.995 a 1.005。 5. 根据权利要求 1 所述的电致发光器件， 其特征在于， 处于同一列的全部所述电致发 光层中， 所述电致发光层的。

5、体积与预先设置的参考体积的形成有体积比 b ； 所述体积比 b 的取值范围为 ： 0.98 a 1.02。 6. 根据权利要求 5 所述的电致发光器件， 其特征在于， 所述体积积比 b 的取值范围为 ： 0.995 a 1.005。 7. 根据权利要求 1 所述的电致发光器件， 其特征在于， 处于同一列的全部所述电致发 光层中至少存在一个所述电致发光层与其他所述电致发光层的厚度不相等。 8. 根据权利要求 7 所述的电致发光器件， 其特征在于， 处于同一列的全部所述电致发 光层中的每个所述电致发光层的厚度均不相等。 9. 根据权利要求 1 所述的电致发光器件， 其特征在于， 对应相同颜色的电致。

6、发光层且 开口面积不完全相同的所述像素开口在所述像素开口矩阵中随机分布。 10. 一种显示基板， 其特征在于， 包括 ： 如上述权利要求 1-9 中任一所述的电致发光器 件。 11. 一种显示装置， 其特征在于， 包括 ： 如上述权利要求 10 中所述的显示基板。 12. 一种电致发光器件的制造方法， 其特征在于， 包括 ： 在基板的上方形成像素界定层， 所述像素界定层围成有像素开口矩阵 , 处于同一列的 全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口中至少存 在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等 ； 在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发。

7、光层。 13. 根据权利要求 12 所述的电致发光器件的制造方法， 其特征在于， 处于同一列的全 部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。 14. 根据权利要求 12 所述的电致发光器件的制造方法， 其特征在于， 所述在所述像素 开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层的步骤包括 ： 利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一列的 全部所述像素开口每个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量相等 ； 对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。 15. 根据权利要求 12 所述的电致发光器件的制造方法， 其特征在于， 所述在。

8、所述像素 权 利 要 求 书 CN 104299983 A 2 2/2 页 3 开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层的步骤包括 ： 利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一列的 全部所述像素开口中存在至少一个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量与 其他所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量不相等 ； 对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。 权 利 要 求 书 CN 104299983 A 3 1/6 页 4 电致发光器件及其制造方法、 显示基板和显示装置 技术领域 0001 本发明涉及显示领域， 特别涉及一种电致发光。

9、器件及其制造方法、 显示基板和显 示装置。 背景技术 0002 近年来， 在电致发光领域中， 在通过喷墨方法来实现电致发光材料的涂布时， 为限 定出涂布区域以及避免电致发光材料溶液流入到相邻的像素， 因此需要在电致发光器件中 形成像素界定层。 0003 图 1 为现有技术中电致发光器件的俯视图， 图 2 为图 1 中 A-A 向的截面图， 如图 1 和图 2 所示， 该电致发光器件包括 ： 基板 1 和形成于基板 1 的上方形成像素界定层 2， 像素 界定层 2 上形成有像素开口矩阵， 该像素开口矩阵包括若干个像素开口 3， 且每个像素开口 3 的形状和尺寸都完全相同， 处于同一列的全部像素开。

10、口 3 对应相同颜色的电致发光层。 0004 在采用喷墨方法形成电致发光层时， 往往先采用列涂布的方式来滴注电致发光材 料溶液， 然后再对电致发光材料溶液进行干燥处理。 0005 然而， 在实际生产中， 采用这种列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液时， 部分喷 嘴向对应列像素开口中吐出的电致发光材料溶液的量并不等于预先设置的量， 从而使得对 应列中所形成的电致发光层的体积并不等于参考体积。 在每个像素开口的开口面积都为参 考面积的前提下， 部分列中的电致发光层的厚度全部偏大或全部偏小 ( 处于相同列的电致 发光层的厚度相等)。 在将该电致发光器件应用到显示装置中时， 由于部分列的电致发光层 的厚。

11、度偏大或偏小， 从而会在显示装置中会出现一列列凸显的条纹云纹 (mura)， 从而影响 使用者的视觉效果。 发明内容 0006 本发明提供一种电致发光器件及其制造方法、 显示基板和显示装置， 该电致发光 器件在发光时不会产生凸显的条纹 mura， 提升了电致发光器件的品质。 0007 为实现上述目的， 本发明提供了一种电致发光器件， 包括 ： 基板和形成于所述基板 的上方的像素界定层， 所述像素界定层围成有像素开口矩阵 , 所述像素开口矩阵中的每个 像素开口内形成有预定颜色的电致发光层 , 在所述像素开口矩阵中， 处于同一列的全部所 述像素开口对应相同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部所述像。

12、素开口中至少存在一个 像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。 0008 可选地， 处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不 相等。 0009 可选地， 处于同一列的全部所述像素开口中所述像素开口的开口面积与预先设置 的参考面积的形成有面积比 a ； 0010 所述面积比 a 的取值范围为 ： 0.98 a 1.02。 0011 可选地， 所述面积比 a 的取值范围为 ： 0.995 a 1.005。 说 明 书 CN 104299983 A 4 2/6 页 5 0012 可选地， 处于同一列的全部所述电致发光层中， 所述电致发光层的体积与预先设 置的参考体积的形成有体。

13、积比 b ； 0013 所述体积比 b 的取值范围为 ： 0.98 a 1.02。 0014 可选地， 所述体积积比 b 的取值范围为 ： 0.995 a 1.005。 0015 可选地， 处于同一列的全部所述电致发光层中至少存在一个所述电致发光层与其 他所述电致发光层的厚度不相等。 0016 可选地， 处于同一列的全部所述电致发光层中的每个所述电致发光层的厚度均不 相等。 0017 可选地， 对应相同颜色的电致发光层且开口面积互不相同的若干个所述像素开口 在所述像素开口矩阵中随机分布。 0018 为实现上述目的， 本发明还提供一种显示基板， 包括 ： 电致发光器件， 该电致发光 器件采用上述。

14、的电致发光器件。 0019 为实现上述目的， 本发明还提供一种显示装置， 包括 ： 显示基板， 该显示基板采用 上述的显示基板。 0020 为实现上述目的， 本发明还提供一种电致发光器件的制造方法， 包括 ： 0021 在基板的上方形成像素界定层， 所述像素界定层围成有像素开口矩阵 , 处于同一 列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口中至 少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等 ； 0022 在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层。 0023 可选地， 处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不 相等。。

15、 0024 可选地， 所述在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光 层的步骤包括 ： 0025 利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一 列的全部所述像素开口每个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量相等 ； 0026 对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。 0027 可选地， 所述在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光 层的步骤包括 ： 0028 利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一 列的全部所述像素开口中存在至少一个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注 量。

16、与其他所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量不相等 ； 0029 对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。 0030 本发明具有以下有益效果 ： 0031 本发明提供了一种电致发光器件及其制造方法、 显示基板和显示装置， 该电致发 光器件包括 ： 基板和形成于基板的上方的像素界定层， 像素界定层上形成有像素开口矩阵， 该像素开口矩阵包括多个像素开口， 像素开口内形成有电致发光层， 处于同一列的全部所 述像素开口对应相同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个 像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。 本发明通过将处于同一列的全部所述像素 开口中至少。

17、存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等， 可使得电致发光器件 说 明 书 CN 104299983 A 5 3/6 页 6 内的处于同一列的全部电致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致发光层的厚度 不相等， 从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀， 进而使得电致发 光器件上的条纹 mura 被淡化， 提升了该电致发光器件的品质。 附图说明 0032 图 1 为现有技术中电致发光器件的俯视图 ； 0033 图 2 为图 1 中 A-A 向的截面图 ； 0034 图 3 为本发明实施例一提供的电致发光器件的俯视图 ； 0035 图 4 为图 3 中 B-B 向的截面图。

18、 ； 0036 图 5 为喷嘴滴注电致发光材料溶液的原理图 ； 0037 图 6 为本发明实施例四的电致发光器件的制造方法的流程图。 具体实施方式 0038 为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案， 下面结合附图对本发明提 供的电致发光器件及其制造方法、 显示基板和显示装置进行详细描述。 0039 图 3 为本发明实施例一提供的电致发光器件的俯视图， 图 4 为图 3 中 B-B 向的截 面图， 如图 3 和图 4 所示， 该电致发光器件包括 ： 基板 1 和像素界定层 2， 其中， 像素界定层 2 形成于基板 1 的上方， 且像素界定层 2 上形成有像素开口矩阵， 该像素开口矩阵包括。

19、多个 像素开口 3， 像素开口 3 内形成有电致发光层 4， 其中处于同一列的全部像素开口 3 对应相 同颜色的电致发光层4， 处于同一列全部像素开口3中至少存在一个像素开口3与其他的像 素开口 3 的开口面积不相等。 0040 在本实施例中， 由于处于同一列全部像素开口 3 中至少存在一个像素开口 3 与其 他的像素开口 3 的开口面积不相等， 因此当采用列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液且 同一列中每个像素开口 3 对应的电致发光材料溶液的量相同时， 经过干燥处理以将电致发 光材料溶液变为电致发光层 4 后， 处于同一列的全部电致发光层 4 中至少存在一个电致发 光层 4 与其他电致发光层。

20、 4 的厚度不相等， 此时处于同一列的全部电致发光层 4 的厚度不 完全相等， 从而使得该列电致发光层 4 在发光时所产生的亮度不均匀。虽然此时电致发光 器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点 mura， 但是电致发光器件中的条纹 mura 会在较 大程度上被淡化。在将该电致发光器件应用到显示装置中时， 由于点 mura 区域相对较小， 因此很难通过肉眼辨别出来， 进而不会影响显示装置的视觉效果。 0041 本实施中可选地， 处于同一列的全部像素开口中的每个像素开口的开口面积均不 相等， 相应地， 处于同一列的全部电致发光层中的每个电致发光层的厚度均不相等。此时， 该电致发光器件产生条纹 mur。

21、a 的概率可相对减小。 0042 可选地， 像素开口 3 的开口面积与预先设置的参考面积形成有面积比 a， 面积比 a 的取值范围为 ： 0.98 a 1.02， 即每个像素开口 3 的开口面积的改变量在参考面积 的 -2 2之间。优选地， 面积比 a 的取值范围为 ： 0.995 a 1.005， 即每个像素开口 3 的开口面积的改变量在参考面积的 -0.5 0.5之间。上述设定是为了保证不影响显 示装置的显示效果下， 有效的将条纹 mura 淡化。 0043 可选地， 处于同一列的全部像素开口3中的每个像素开口3的开口面积均不相等。 说 明 书 CN 104299983 A 6 4/6 页。

22、 7 其中， 当在每个像素开口 3 对应的电致发光材料溶液的量相同时， 则相应地经过干燥处理 后， 处于同一列的全部电致发光层 4 中的每个电致发光层 4 的厚度均不相等。 0044 此外， 作为本实施例中的另一可选技术方案， 本实施例中， 不仅处于同一列中的全 部像素开口 3 中至少存在一个像素开口 3 与其他像素开口 3 的开口面积不同， 而且处于同 一列的全部电致发光层 4 中至少存在一个电致发光层 4 与其他电致发光层 4 的体积不相 等。即在采用列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液时， 处于同一列中每个像素开口 3 对 应的电致发光材料溶液的量不完全相等。此时， 也可实现处于同一列的全。

23、部电致发光层 4 的厚度不完全相等。 0045 下面结合附图对实现处于同一列中每个像素开口 3 中的电致发光材料溶液的量 不完全相等的过程进行详细描述。 0046 图5为喷嘴滴注电致发光材料溶液的原理图， 如图5所示， 喷嘴每次滴出的电致发 光材料溶液的体积可由电压素子进行控制， 当有驱动电压加载到电压素子时， 电压素子会 变产生形变， 从而控制一定体积的电致发光材料溶液的滴出。本实施例中假定每个像素开 口 3 内需要滴入四滴电致发光材料溶液， 每滴电致发光材料溶液的体积可由对应的一个完 整波形的驱动电压进行控制， 例如， 当第一个驱动电压的电压值较小时， 则对应产生的一滴 体积较小的电致发光。

24、材料溶液。在图 5 中， 四滴电致发光材料溶液对应四个完整波形的电 压。 通过调整至少一个电压， 从而能控制对应像素开口3内电致发光材料溶液的滴注量。 喷 嘴在产生四滴电致发光材料溶液后便移动至对应列的下一行像素开口 3 的上方， 并重复上 述滴液过程。 0047 在电致发光材料溶液的滴注过程完毕后， 通过干燥处理以形成电致发光层 4。需 要说明的是， 在改变像素开口 3 内电致发光材料溶液的滴注量时， 为避免点 mura 凸显， 因此像素开口 3 内电致发光材料溶液的滴注量的改变量不能过大。可选地， 最终形成的 电致发光层 4 的体积与预先设置的参考体积形成有体积比 b， 体积比 b 的取值。

25、范围为 ： 0.98 b 1.02。即每个电致发光层 4 的体积的改变量在参考体积的 -2 2之间。优 选地， 体积比 b 的取值范围为 ： 0.995 b 1.005， 即每个电致发光层 4 的体积的改变量在 参考体积的 -0.5 0.5之间。 0048 本实施例中， 可选地， 对应相同颜色的电致发光层且开口面积不完全相同的像素 开口在像素开口矩阵中随机分布， 此时， 电致发光器件中该电致发光器件产生条纹 mura 的 概率可相对减小。 0049 本发明实施例一提供了一种电致发光器件， 该电致发光器件包括 ： 基板和形成于 基板的上方的像素界定层， 像素界定层上形成有像素开口矩阵， 该像素开。

26、口矩阵包括多个 像素开口， 像素开口内形成有电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色 的电致发光层， 处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开 口的开口面积不相等。 本发明通过将处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素 开口与其他的像素开口的开口面积不相等， 可使得电致发光器件内的处于同一列的全部电 致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等， 从而使得对应列中 的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀， 进而使得电致发光器件上的条纹 mura 被淡 化， 提升了该电致发光器件的品质。 0050 本发明实施例二提供了一种显示基板， 该。

27、显示基板包括 ： 电致发光器件， 该电致发 说 明 书 CN 104299983 A 7 5/6 页 8 光器件采用上述实施例一提供的电致发光器件， 电致发光器件的具体结构可参见上述实施 例一中的描述， 此处不再赘述。 由于该显示基板包括上述实施例一中的电致发光器件， 因此 该显示基板在进行显示时不会产生条纹 mura， 相应的显示基板的显示效果会得到提升。 0051 本发明实施例三提供了一种显示装置， 该显示装置包括 ： 显示基板， 该显示基板采 用上述实施例一提供的显示基板， 显示基板的具体结构可参见上述实施例二中的描述， 此 处不再赘述。 0052 图6为本发明实施例四的电致发光器件的制。

28、造方法的流程图， 如图6所示， 该制造 方法包括 ： 0053 步骤 101 ： 在基板的上方形成像素界定层， 像素界定层围成有像素开口矩阵 , 处于 同一列的全部像素开口对应相同颜色的电致发光层， 处于同一列的全部像素开口中至少存 在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。 0054 参考图 4， 该像素界定层 2 的材料为绝缘层材料， 本实施例以像素界定层 2 的材料 为聚酰亚胺 (Polyimide) 为例。在步骤 101 中， 先通过涂布工艺以在基板 1 的上方形成厚 度为 1 10um 的聚酰亚胺膜层， 然后通过一次构图工艺在该聚酰亚胺膜上形成像素开口 矩阵， 此时基板 1 上。

29、余留的聚酰亚胺膜即为像素界定层 2。其中， 该像素开口矩阵包括若干 个像素开口 3， 这些像素开口 3 所处的区域对应于电致发光器件的显示区域， 而覆盖有聚酰 亚胺膜的区域对应于电致发光器件的非显示区域， 此外在通过构图工艺所形成像素开口 3 中， 处于同一列的全部像素开口 3 中至少存在一个像素开口 3 与其他像素开口 3 的开口面 积不相等。 0055 需要说明的是， 本实施例中的构图工艺是指至少可包括 ： 光刻胶涂覆、 曝光、 显影、 刻蚀、 光刻胶剥离等工艺。 0056 在步骤 101 中， 可选地， 处于同一列的全部像素开口中的每个像素开口的开口面 积均不相等。 0057 步骤 10。

30、2 ： 在像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层。 0058 可选地， 步骤 102 包括 ： 0059 步骤 1021a ： 利用喷墨装置向对应列的每个像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一列的全部像素开口每个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量相等。 0060 由于在上述步骤 101 中， 处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口与 其他的像素开口的开口面积不相等， 因此经过步骤 1021a 后， 处于同一列的全部像素开口 中至少存在一个像素开口内的电致发光材料溶液的高度与其他的像素开口内电致发光材 料溶液的高度不相等。 0061 步骤 1022a ： 对电致发光。

31、材料溶液进行干燥处理以形成电致发光层。 0062 通过步骤 1022a 处理后， 处于同一列的全部电致发光层 4 中至少存在一个电致发 光层与其他电致发光层的厚度不相等， 从而使得该列电致发光层 4 在发光时所产生的亮度 不均匀， 虽然此时电致发光器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点 mura， 但是电致发光 器件中的条纹 mura 会在较大程度上被淡化。同时， 在将该电致发光器件应用到显示装置中 时， 由于点 mura 区域相对较小， 因此很难通过肉眼辨别出来， 进而不会影响显示装置的视 觉效果。流程结束。 0063 可选地， 步骤 102 包括 ： 说 明 书 CN 104299983 A。

32、 8 6/6 页 9 0064 步骤 1021b ： 利用喷墨装置向对应列的每个像素开口中滴注电致发光材料溶液， 处于同一列的全部像素开口中存在至少一个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量与 其他像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量不相等。 0065 上述步骤 101 中， 处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口与其他的 像素开口的开口面积不相等， 而在步骤 1021b 中， 处于同一列的全部像素开口中存在至少 一个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量与其他像素开口内的电致发光材料溶液的 滴注量不相等， 因此处于同一列的全部像素开口中电致发光材料溶液的高度不完全相等的 概率将进一步增大。

33、。 0066 步骤 1022b ： 对电致发光材料溶液进行干燥处理以形成电致发光层。 0067 通过步骤 1022b 处理后， 处于同一列的全部像素开口中电致发光层的高度不完全 相等的概率也将进一步增大， 从而使得该列电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀， 虽 然此时电致发光器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点 mura， 但是电致发光器件中的条 纹 mura 会在较大程度上被淡化。同时， 在将该电致发光器件应用到显示装置中时， 由于点 mura区域相对较小， 因此很难通过肉眼辨别出来， 进而不会影响显示装置的视觉效果。 流程 结束。 0068 本发明实施例四提供了一种电致发光器件的制造方法，。

34、 在通过该制造方法制备出 的电致发光器件中， 处于同一列的全部电致发光层中至少存在一个电致发光层与其他电致 发光层的厚度不相等， 从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀， 进 而使得电致发光器件上的条纹 mura 被淡化， 从而提升了该电致发光器件的品质。 0069 可以理解的是， 以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施 方式， 然而本发明并不局限于此。 对于本领域内的普通技术人员而言， 在不脱离本发明的精 神和实质的情况下， 可以做出各种变型和改进， 这些变型和改进也视为本发明的保护范围。 说 明 书 CN 104299983 A 9 1/2 页 10 图 1 图 2 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 104299983 A 10 2/2 页 11 图 5 图 6 说 明 书 附 图 CN 104299983 A 11 。