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等离子体源装置.pdf

  • 上传人:li****8
  • 文档编号:4893806
  • 上传时间:2018-11-24
  • 格式:PDF
  • 页数:7
  • 大小:794.56KB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN201410444054.7

    申请日:

    2014.09.02

    公开号:

    CN104244559A

    公开日:

    2014.12.24

    当前法律状态:

    驳回

    有效性:

    无权

    法律详情:

    发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):H05H 1/46申请公布日:20141224|||实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20140902|||公开

    IPC分类号:

    H05H1/46

    主分类号:

    H05H1/46

    申请人:

    清华大学

    发明人:

    黄邦斗; 蒲以康

    地址:

    100084 北京市海淀区100084-82信箱

    优先权:

    专利代理机构:

    北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

    代理人:

    张大威

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    内容摘要

    本发明提出一种等离子体源装置,包括:腔室,用于产生等离子体;串联的多个电感装置,每个电感装置包括磁芯和缠绕磁芯的线圈,多个电感装置均匀地围绕腔室的外周壁设置;电介质层,位于腔室和电感装置之间,用于将等离子体与线圈隔离开;交流电源;匹配网络,设置在所述交流电源和多个电感装置之间,用于匹配交流电源和等离子体的放电功率。本发明的装置,具有低功率,高密度,工作稳定,均匀性好,可控性强等的优点。

    权利要求书

    权利要求书1.  一种等离子体源装置,其特征在于,包括:腔室,所述腔室用于产生所述等离子体;串联的多个电感装置,每个电感装置包括磁芯和缠绕所述磁芯的线圈,所述多个电感装置均匀地围绕所述腔室的外周壁设置;电介质层,所述电介质层位于所述腔室和所述电感装置之间,用于将所述等离子体与所述线圈隔离开;交流电源;匹配网络,所述匹配网络设置在所述交流电源和所述多个电感装置之间,用于匹配所述交流电源和等离子体的放电功率。2.  根据权利要求1所述的等离子体源装置,其特征在于,所述磁芯为铁氧体磁芯。3.  根据权利要求1所述的等离子体源装置,其特征在于,所述腔室为真空腔室。4.  根据权利要求1-3任一项所述的等离子体源装置,其特征在于,所述腔室被构造为适于闭合磁回路形成的结构。5.  根据权利要求1-3任一项所述的等离子体源装置,其特征在于,所述匹配网络为L型匹配网络、II型匹配网络或阻抗变换的变压器。

    说明书

    说明书等离子体源装置
    技术领域
    本发明涉及等离子体技术领域,尤其涉及一种等离子体源装置。
    背景技术
    等离子体在半导体产业中发挥着重要且不可替代的作用,半导体产品的生产过程中,三分之一以上的工艺流程都需要利用等离子体。随着基片面积的增大,对大面积等离子体源的需要更加迫切。如果利用传统的电感耦合等离子体源产生大面积等离子体,需要增加线圈与真空腔体之间的电介质层厚度,以承受大气压力。而电介质层厚度的增加会极大地减弱线圈与等离子体之间的耦合,使放电效率降低。
    发明内容
    本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
    为此,本发明的目的在于提出一种高密度、工作稳定、均匀性好的等离子体源装置。
    为了实现上述目的,本发明实施例的一种等离子体源装置,包括:腔室,所述腔室用于产生所述等离子体;串联的多个电感装置,每个电感装置包括磁芯和缠绕所述磁芯的线圈,所述多个电感装置均匀地围绕所述腔室的外周壁设置;电介质层,所述电介质层位于所述腔室和所述电感装置之间,用于将所述等离子体与所述线圈隔离开;交流电源;匹配网络,所述匹配网络设置在所述交流电源和所述多个电感装置之间,用于匹配所述交流电源和等离子体的放电功率。
    根据本发明实施例的等离子体源装置,由多个电感装置均匀地分布,同时调整多个线圈之间的距离,产生大面积均匀等离子体。等离子体与线圈通过感应磁场耦合,容性耦合小,可以减少带电粒子在腔室内壁上的损失,同时减小溅射及其它等离子体与腔体内壁的相互作用。多个电感装置均匀地围绕腔室的外周壁设置,使得等离子体可以在约束在线圈附近,构成一种局域的等离子体源,且等离子体状态受腔室状态较小,具有低功率,高密度,工作稳定,均匀性好,可控性强等的优点。
    在一些示例中,所述磁芯为铁氧体磁芯。
    在一些示例中,所述腔室为真空腔室。
    在一些示例中,所述腔室被构造为适于闭合磁回路形成的结构。
    在一些示例中,所述匹配网络为L型匹配网络、II型匹配网络或阻抗变换的变压器。
    本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
    附图说明
    图1是根据本发明一个实施例的等离子体源装置的结构框图;
    图2是本发明一个实施例的等离子体源装置的示例图;
    图3是本发明一个实施例的线圈、腔室、电介质层的位形示意图;和
    图4是本发明另一个实施例的线圈、腔室、电介质层的位形示意图。
    具体实施方式
    下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
    图1是根据本发明一个实施例的等离子体源装置的结构框图。如图1所示,本发明实施例的等离子体源装置,包括:腔室100、串联的多个电感装置200、电介质层300、交流电源400和匹配网络500。
    其中,腔室100用于产生等离子体。串联的多个电感装置200,每个电感装置包括磁芯和缠绕磁芯的线圈,多个电感装置200均匀地围绕腔室100的外周壁设置。电介质层300位于腔室100和电感装置之间,用于将等离子体与线圈隔离开,同时保证腔室100真空密封,其厚度可以很薄。匹配网络500设置在交流电源400和多个电感装置200之间,用于匹配交流电源400和等离子体的放电功率。
    具体地,在本发明的一个实施例中,磁芯为铁氧体磁芯。铁氧体磁芯的引入不仅可以在线圈相同的情况下增加电感,增强线圈与等离子体之间的耦合,降低工作时通过线圈的电流,而且可以保证电感相同的情况下减少线圈的圈数,减少放电的容性耦合,减少带电粒子在腔室内壁上的损失,以及减小溅射及其它等离子体与腔体内壁的相互作用。
    在本发明的一个实施例中,所述腔室为真空腔室。等离子体在真空腔室中产生。交流电源400可以采用开关电源驱动等离子体,功率更大,能量效率更高。
    在本发明的一个实施例中,匹配网络500可以为L型匹配网络、II型匹配网络或阻抗变换的变压器。匹配网络500用于调整多个线圈之间的相位,实现对等离子体均匀性的控制,同时可以实现等离子体与电源之间的匹配,减少电源的功率反射。
    在本发明实施例的等离子体源装置的一个示例中,如图2所示,通过在缠绕铁氧体磁芯上的线圈中通入交变电流,交变电流在铁氧体磁芯及周围的空间中产生交变的磁场,交变的磁场由法拉定率在空间产生出电场(称为感应电场),利用这一电场激发出等离子体。利用多个带铁氧体的磁芯,通过调整空间位形与相位,从而产生大面积的等离子体,等离子体工作状态更加稳定,可控性强。
    进一步地,如图3的本发明一个实施例的线圈、腔室、电介质层的位形示意图所示,该位形使得大部分感应电场位于真空腔室内,并且电介质层很薄,线圈与等离子体耦合效果较好。
    进一步地,如图4的本发明另一个实施例的线圈、腔室、电介质层的位形示意图所示。多个带铁氧体磁芯的线圈按照一定的空间位形分布,插入到真空腔体中,通过较薄的电介质层与真空腔室中的等离子体隔离开。这些线圈的分布、高度、电流相位都可以进行调整,以产生大面积的均匀等离子体。
    根据本发明实施例的等离子体源装置,由多个电感装置均匀地分布,同时调整多个线圈之间的距离,产生大面积均匀等离子体。等离子体与线圈通过感应磁场耦合,容性耦合小,可以减少带电粒子在腔室内壁上的损失,同时减小溅射及其它等离子体与腔体内壁的相互作用。多个电感装置均匀地围绕腔室的外周壁设置,使得等离子体可以在约束在线圈附近,构成一种局域的等离子体源,且等离子体状态受腔室状态较小,具有低功率,高密度,工作稳定,均匀性好,可控性强等的优点。
    在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
    尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

    关 键  词:
    等离子体 装置
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