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1、(10)申请公布号 CN 103524147 A (43)申请公布日 2014.01.22 CN 103524147 A (21)申请号 201310511350.X (22)申请日 2013.10.25 C04B 41/86(2006.01) C04B 41/89(2006.01) (71)申请人 广东金牌陶瓷有限公司 地址 528131 广东省佛山市三水区白坭镇 “国家火炬计划佛山电子电器产业基 地” 南区 135 号 F2 (72)发明人 史亮亮 廖波 钟思聪 毛星华 (54) 发明名称 一种抛釉砖生产工艺 (57) 摘要 本发明提供一种抛釉砖生产工艺, 属于建筑 陶瓷生产技术领域。 所。
2、述生产工艺包括如下步骤 : 布料成型、 施底釉、 印花、 施面釉、 烧成、 抛磨 ; 其 中施底釉步骤中使用的底釉为磷硼或硼钙多相乳 浊釉, 且所述底釉中含有质量份数为0.5%3%的 锐钛型氧化钛或 0.5% 5% 凹凸棒土。和现有技 术相比, 本发明提供的抛釉砖生产工艺具有如下 优势 : 墨水用量少, 发色清晰, 基本无色差色偏, 而且喷墨阻塞概率降低, 喷头清洗保养次数减少, 提高生产的连续性, 除必要的检修外, 很少有中途 停机情况发生。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 6 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书6页 (。
3、10)申请公布号 CN 103524147 A CN 103524147 A 1/1 页 2 1. 一种抛釉砖生产工艺, 其包括如下步骤 : 步骤 1) 布料成型 : 选择陶瓷墙地砖生产常用原料, 经球磨、 除铁、 陈腐、 造粒后冲压成 型, 制成砖坯 ; 步骤 2) 施底釉 : 将步骤 1 冲压成型的砖坯干燥后, 通过喷釉或淋釉的方式施底釉 ; 步骤 3) 印花 : 待底釉干燥后, 选择陶瓷喷墨印花机在底釉上喷墨印花形成喷墨印花 层 ; 步骤 4) 施面釉 : 印花后, 通过喷釉或淋釉方式施面釉, 所述面釉为透明釉 ; 步骤 5) 烧成 : 入辊道窑氧化气氛烧成, 烧成温度 1100 122。
4、0, 烧成周期 70 120 分 钟 ; 步骤 6) 抛磨 : 烧成后, 待制品冷却, 进行磨边和抛光加工, 得到成品 ; 其特征在于 : 步骤 2) 中所述底釉为磷硼或硼钙多相乳浊釉, 且所述底釉中含有质量份 数为 0.5% 3% 的锐钛型氧化钛或 0.5% 5% 凹凸棒土。 2. 如权利要求 1 所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述底釉中锐钛型氧化钛 所占质量份数为 1% 1.5%。 3. 如权利要求 1 所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述底釉中凹凸棒土所占 质量份数为 2% 4%。 4. 如权利要求 1-3 中任意一项所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述底。
5、釉中 含有质量份数为 0.5% 2% 的氧化锡。 5. 如权利要求 1 所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述底釉为硼钙多相乳浊 釉时, 所述的钙元素是通过硅灰石引入的。 6. 如权利要求 1 所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述底釉中的铁或锰元素 含量之和 0.1%。 7. 如权利要求 1 所述的一种抛釉砖生产工艺, 其特征在于, 所述施底釉步骤形成的底 釉层厚度为 0.2mm 0.5mm。 权 利 要 求 书 CN 103524147 A 2 1/6 页 3 一种抛釉砖生产工艺 技术领域 0001 本发明涉及建筑陶瓷生产技术, 尤其涉及一种抛釉砖生产工艺。 背景技术 00。
6、02 抛釉砖是近年来流行的一种陶瓷墙地砖产品, 其通过在砖坯上施以底釉后印花, 之后再施以一层透明面釉, 入窑烧成后, 再对透明面釉层进行抛光, 得到抛釉砖产品。其具 有釉中彩的效果, 印花层在透明面釉层的保护下, 基本不会被磨损 ; 而且经抛光处理, 使产 品光泽度高, 装饰效果好。 0003 喷墨打印技术是继滚筒印花和丝网印花后的第三代印花技术, 其通过喷墨打印 机, 在砖坯上依照预设图案打印出图案花纹。目前陶瓷喷墨打印机所使用的油墨多为油性 油墨, 需要高温烧结后依然保持图案的色泽, 油墨中的发色组分主要为高温无机色料, 而且 需要发色稳定。为保证图案印花层的清晰, 施于坯体表面的底釉层。
7、需要较高的白度, 这样 才能保证喷墨印花后图案的清晰度, 因此底釉基本采用锆基釉料, 但锆基底釉对多数墨水 呈色有影响, 这就需要增大用墨量来保证发色效果。而且有些色系对底釉组分比较敏感, 例如蓝色和洋红色系墨水在锆基底釉中会有一定色偏, 造成对于呈现紫色、 粉红色等色泽 影响较大。这是因为墨水中发色颜料细度 1m, 在烧结过程中, 容易被锆基包裹, 影响发 色效果, 造成色偏、 色浅等缺陷。 而且锆基釉料具有一定放射性, 虽然目前选择多选择硅 酸锆或硼锆熔块使用, 但较其它组分的釉料放射性还偏高。 “中国工业陶瓷” 2010 年 8 月第 17 卷第 4 期公开了文献号为 : 1006-28。
8、74(2010) 04-0001-07 的文献资料 环境友好型高 白乳浊釉的研究 , 其公开了 : 以 Ca3(PO3)2、 滑石、 石英及硼熔块为基本组成, 研制了无乳浊 剂 R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3体系环境友好型高白乳浊釉。通过 X 射线衍射及扫描电镜 分析, 研究了不同 B2O3/P2O5 质量比和烧成温度对釉面性能及釉的显微结构等的影响, 并对 磷硼多相乳浊釉的乳浊机理进行了分析。结果表明 : 在 B2O3/P2O5 质量比为 1/2 2 区域, 1200烧成温度, 可以得到白度较高的乳浊釉 ; B2O3/P2O5质量比不同时, 釉熔体产生多次不 混溶相,。
9、 出现微相功能转换, 乳浊度也随之改变 ; B2O3/P2O5质量比为 1 时, 釉中分相小滴 相对较多, 尺寸与可见光相近, 且分散性高, 使釉对光的折射与散射能力强, 釉面呈现高乳 白效果, 白度可达 87。虽然此种釉料作为底釉放射性较低, 但釉中分相小滴较多, 底釉层表 面的分相小滴容易包裹油墨中的发色色料, 作为喷墨打印用底釉还是有锆基底釉相似的问 题, 即油墨发色不好, 需要增加用墨量才能达到预期效果, 这不仅浪费油墨, 造成喷头堵塞 概率增高, 而且对生产调色也有一定影响。 发明内容 0004 本发明的目的在于提出一种抛釉砖生产工艺, 其能避免在烧成过程中底釉对喷墨 印花层发色的影。
10、响, 节省油墨, 降低喷头阻塞概率, 提高生产效率。 0005 为达此目的, 本发明采用以下技术方案 : 一种抛釉砖生产工艺, 其包括如下步骤 : 步骤 1) 布料成型 : 选择陶瓷墙地砖生产常用原料, 经球磨、 除铁、 陈腐、 造粒后冲压成 说 明 书 CN 103524147 A 3 2/6 页 4 型, 制成砖坯 ; 步骤 2) 施底釉 : 将步骤 1 冲压成型的砖坯干燥后, 通过喷釉或淋釉的方式施底釉 ; 步骤 3) 印花 : 待底釉干燥后, 选择陶瓷喷墨印花机在底釉上喷墨印花形成喷墨印花 层 ; 步骤 4) 施面釉 : 印花后, 通过喷釉或淋釉方式施面釉, 所述面釉为透明釉 ; 步骤。
11、 5) 烧成 : 入辊道窑氧化气氛烧成, 烧成温度 1100 1220, 烧成周期 70 120 分 钟 ; 步骤 6) 抛磨 : 烧成后, 待制品冷却, 进行磨边和抛光加工, 得到成品 ; 其特征在于 : 步骤 2) 中所述底釉为磷硼或硼钙多相乳浊釉, 且所述底釉中含有质量份 数为 0.5% 3% 的锐钛型氧化钛或 0.5% 5% 凹凸棒土。 0006 选用磷硼或硼钙多相乳浊釉中不含有锆, 放射性较低 ; 而且在其中加入锐钛型氧 化钛可以进入釉中分相小液滴中, 进而减少油墨中发色色料被包裹的概率, 而且锐钛型氧 化钛本身就有乳浊效果, 可以进一步增加底釉白度, 让油墨获得更佳的显色效果。凹凸。
12、棒 土又称坡缕石 (Palygouskite) 或坡缕缟石, 是一种具链层状结构的含水富镁硅酸盐粘土矿 物。凹凸棒石具有独特的分散、 耐高温、 抗盐碱等良好的胶体性质和较高的吸附脱色能力。 并具有一定的可塑性及粘结力, 具有介于链状结构和层状结构之间的中间结构。其结构属 2 : 1 型粘土矿物。在每个 2 : 1 单位结构层中, 四面体晶片角顶隔一定距离方向颠倒, 形成层 链状。在四面体条带间形成与链平行的通道, 通道中充填沸石水和结晶水。因此加入底釉 中可以增加釉浆的粘度, 有较好的附着 ; 而且, 在烧成时, 上述通道中充填沸石水和结晶水 会分解, 底釉中乳浊分相小液滴会部分插入上述通道中。
13、, 减少对油墨发色的影响, 使油墨获 得较佳的发色效果。 0007 优选地, 在上述抛釉砖生产工艺中, 所述底釉中锐钛型氧化钛所占质量份数为 1% 1.5%。加入量较少时, 效果不明显, 加入较多时可能会使得乳浊效果变差, 釉面毛糙、 针孔等缺陷增多。 0008 优选地, 在上述抛釉砖生产工艺中, 所述底釉中凹凸棒土所占质量份数为 2% 4%。同锐钛型氧化钛类似, 加入少时, 效果不明显, 较多时, 也会降低釉面质量。 0009 本发明还公开一种优选方案, 即在上述抛釉砖生产工艺中, 在所述底釉中加入质 量份数为 0.5% 2% 的氧化锡。氧化锡, 作为一种优良的乳浊剂, 可以获得乳浊效果更好。
14、的 釉面, 而且可以改善釉面质量, 使釉面光滑、 基本无针孔缺陷。 0010 本发明还公开一种优选方案, 即在上述抛釉砖生产工艺中, 所述底釉为硼钙多相 乳浊釉时, 其中所述的钙元素是通过硅灰石引入的。 0011 在上述抛釉砖生产工艺中, 所述底釉中的铁或锰元素含量之和 0.1%。 0012 在上述抛釉砖生产工艺中, 所述施底釉步骤形成的底釉层厚度为 0.2mm 0.5mm。 0013 和现有技术相比, 本发明提供的抛釉砖生产工艺具有如下优势 : 墨水用量少, 发色 清晰, 基本无色差色偏, 而且喷墨阻塞概率降低, 喷头清洗保养次数减少, 提高生产的连续 性, 除必要的检修外, 很少有中途停机。
15、情况发生。 具体实施方式 0014 下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。应当理解, 以下实施例 说 明 书 CN 103524147 A 4 3/6 页 5 为本发明的优选实施例或可实施范围截取的部分实例, 对于工艺参数或工艺步骤的描述不 应仅局限于实施例中给出的特定例子, 而且在描述中, 为了节省篇幅, 对于背景技术或本领 域普通技术人员公知的知识将仅进行简要说明。 0015 实施例 1 本实施例中选用硼钙乳浊釉作为底釉, 其中含有质量份数为 0.5% 的锐钛型氧化钛。 0016 底釉中化学组成具体如下 : 二氧化硅 55.5% 61.5% ; 氧化铝 : 8.5% 11.5%。
16、 ; 氧 化铁 : 0.09% ; 氧化钙 : 7.5% 12.5% ; 氧化硼 : 7.5% 10.5% ; 氧化镁 : 1.0% ; 氧化钠 : 1.0% 2.0% ; 氧化锌 : 5.0% 6.0% ; 氧化钾 : 9.0% 10.0% ; 氧化锂 : 1.0% ; 锐钛型氧化 钛 : 0.5%。 0017 按照如上配方比例计算所用原料配方, 在本实施例中选用钾长石、 石英粉、 硅灰 石、 高岭土、 滑石、 硼熔块、 锐钛型氧化钛、 氧化锌等为原料, 加水球磨, 在球磨时需要额外加 釉料干料重量 0.03% 0.05% 的羧甲基纤维素和 0.1% 0.3% 的三聚磷酸钠。球磨后釉浆 的 。
17、325 目筛余 1 2%, 流动性 100S。施釉时釉浆比重为 1.60 1.70。使用硅灰石作为 原料能提高釉面性能, 而且能使得更易形成硼钙乳浊相。 0018 下面详细介绍此种抛釉砖生产工艺。 0019 步骤 1) 布料成型 : 选择陶瓷墙地砖生产常用原料长石、 粘土、 砂、 添加剂等, 经 球磨、 除铁、 陈腐、 造粒后冲压成型, 制成砖坯。在本实施例中选用 600mm600mm 规格的模 具, 模具系数为 1.1。冲压时, 粉料含水率以 5% 左右为宜。 0020 步骤 2) 施底釉 : 将步骤 1 冲压成型的砖坯干燥后, 通过喷釉或淋釉的方式施底釉。 底釉配方和工艺参数上面已经介绍,。
18、 这里就不额外赘述。在施底釉前, 优选对坯体进行清 扫, 并喷水润湿。 0021 步骤 3) 印花 : 待底釉干燥后, 选择陶瓷喷墨印花机在底釉上喷墨印花形成喷墨印 花层。在本实施例中选用的是希望陶瓷机械有限公司生产的四色喷墨打印系统, 墨水采用 西班牙意达加 (esmaglass itaca) 公司所生产的粉红、 黄色、 棕色、 蓝色墨水。因作为测试 使用, 印花图案为紫色。 0022 步骤 4) 施面釉 : 印花后, 通过喷釉或淋釉方式施面釉, 所述面釉为透明釉。在本实 施例中其配方干料组分质量比为 : 透明熔块类助熔剂65%, 高岭土/煅烧高岭土10%, 煅烧滑 石 5%, 氧化铝 5%。
19、, 氧化锌 10%, 碳酸钙 5%。外加干料总重 0.05% 的羧甲基纤维素、 0.3% 的三 聚磷酸钠、 35% 的水球磨。球磨后釉浆的 325 目筛余 1 2%, 流动性 100S。施釉时釉浆比 重为 1.59, 施釉厚度为 0.2mm 0.4mm。 0023 本领域技术人员应当理解, 以上关于透明釉的配方和工艺参数仅是示例性的, 在 实际生产中, 可以根据烧成制度来进行相应调整。 0024 步骤 5) 烧成 : 入辊道窑氧化气氛烧成, 烧成温度 1100 1220, 烧成周期 70 120 分钟 ; 步骤 6) 抛磨 : 烧成后, 待制品冷却, 进行磨边和抛光加工, 得到成品。 0025。
20、 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 8.0g/ 片 ; 连续生产 10 班 次, 因喷头阻塞而进行的检修 2 次。 0026 实施例 2 与实施例 1 基本相同, 所不同之处在于, 所采用的底釉为硼磷多相乳浊釉, 且其中锐钛 说 明 书 CN 103524147 A 5 4/6 页 6 型氧化钛质量份数为1.0%。 背景技术中已经公开在B2O3/P2O5质量比为1 时, 釉中分相小滴 相对较多, 尺寸与可见光相近, 且分散性高, 使釉对光的折射与散射能力强, 釉面呈现高乳 白效果, 化学组成具体如下 : 二氧化硅 55.5% 61.5% ; 氧化铝 : 8.5% 11.5% 。
21、; 氧化铁 : 0.09% ; 氧化钙 : 1.5% 2.5% ; 五氧化二磷 : 5.0% 9.5% ; 氧化硼 : 5.0% 9.5% ; 氧化镁 : 1.0% ; 氧化钠 : 1.0% 2.0% ; 氧化锌 : 5.0%6.0% ; 氧化钾 : 9.0%10.0% ; 氧化锂 : 1.0% ; 锐钛型氧化钛 : 1.0%。 0027 按照如上配方比例计算所用原料配方, 在本实施例中选用钾长石、 石英粉、 硅灰 石、 骨灰、 高岭土、 滑石、 硼熔块、 锐钛型氧化钛、 氧化锌等为原料, 加水球磨, 在球磨时需要 额外加釉料干料重量 0.03% 0.05% 的羧甲基纤维素和 0.1% 0.3。
22、% 的三聚磷酸钠。球磨 后釉浆的 325 目筛余 1 2%, 流动性 100S。施釉时釉浆比重为 1.60 1.70。形成底釉 层厚度以 0.2mm 0.5mm。为宜。 0028 其余步骤如实施例 1。生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 7.0g/ 片 ; 连续生产 10 班次, 因喷头阻塞而进行的检修 0 次。 0029 实施例 3 与实施例 1 基本相同, 所不同之处在于, 底釉中锐钛型氧化钛质量份数为 1.5%。 0030 底釉中化学组成具体如下 : 二氧化硅 55.5% 61.5% ; 氧化铝 : 8.5% 11.5% ; 氧 化铁 : 0.09% ; 氧化钙 : 7.。
23、5% 12.5% ; 氧化硼 : 7.5% 10.5% ; 氧化镁 : 1.0% ; 氧化钠 : 1.0% 2.0% ; 氧化锌 : 5.0% 6.0% ; 氧化钾 : 9.0% 10.0% ; 氧化锂 : 1.0% ; 锐钛型氧化 钛 : 1.5%。 0031 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 6.8g/ 片 ; 连续生产 10 班 次, 因喷头阻塞而进行的检修 0 次。 0032 实施例 4 与实施例 2 基本相同, 所不同之处在于, 基釉中锐钛型氧化钛质量份数为 3.0%。 0033 生产测试表面, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 7.5g/ 片 ; 连续生产 10。
24、 班 次, 因喷头阻塞而进行的检修 1 次。因含有较多的氧化钛, 底釉白度有一定下降, 造成色泽 略偏黄。单独将此底釉烧成后, 测试白度仅为 82 度, 低于生产的不低于 85 度的需求。 0034 实施例 5 本实施例中选用硼钙乳浊釉作为底釉, 其中含有质量份数为 0.5% 的凹凸棒土。 0035 底釉中凹凸棒土所占质量份数为 0.5%。除凹凸棒土外的化学组成具体如下 : 二氧 化硅 54.5% 60.5% ; 氧化铝 : 8.5% 11.5% ; 氧化铁 / 氧化锰 : 0.1% ; 氧化钙 : 7.5% 12.5% ; 氧化硼 : 7.5% 10.5% ; 氧化镁 : 1.0% ; 氧化。
25、钠 : 1.0% 2.0% ; 氧化锌 : 5.5% 6.5% ; 氧化钾 : 8.5% 9.5% ; 氧化锂 : 1.0%。 0036 按照如上配方比例计算所用原料配方, 在本实施例中选用钾长石、 石英粉、 硅灰 石、 高岭土、 滑石、 硼熔块、 氧化锌、 凹凸棒土等为原料, 加水球磨, 在球磨时需要额外加釉料 干料重量 0.03% 0.05% 的羧甲基纤维素和 0.1% 0.3% 的三聚磷酸钠。球磨后釉浆的 325 目筛余 1 2%, 流动性 100S。施釉时釉浆比重为 1.55 1.65。 0037 生产工艺基本如实施例 1 所示, 所不同的是样板测试颜色为浅粉红色。 0038 生产测试。
26、表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 6.5g/ 片 ; 连续生产 10 班 次, 因喷头阻塞而中途进行的检修 1 次。 说 明 书 CN 103524147 A 6 5/6 页 7 0039 实施例 6 本实施例采用的底釉为硼磷多相乳浊釉, 底釉中凹凸棒土所占质量份数为 2.0%。除凹 凸棒土外的化学组成具体如下 : 二氧化硅 54.5% 60.5% ; 氧化铝 : 7.5% 10.5% ; 氧化铁 / 氧化锰 : 0.1% ; 氧化钙 : 1.5% 2.5% ; 五氧化二磷 : 5.0% 9.5% ; 氧化硼 : 5.0% 9.5% ; 氧化镁 : 0.5% ; 氧化钠 : 1.0%。
27、2.0% ; 氧化锌 : 5.0%6.0% ; 氧化钾 : 9.0%10.0% ; 氧化 锂 : 1.0%。 0040 按照如上配方比例计算所用原料配方, 在本实施例中选用钾长石、 石英粉、 硅灰 石、 高岭土、 滑石、 硼熔块、 骨灰、 氧化锌、 凹凸棒土等为原料, 加水球磨, 在球磨时需要额外 加釉料干料重量 0.03% 0.05% 的羧甲基纤维素和 0.1% 0.3% 的三聚磷酸钠。球磨后釉 浆的 325 目筛余 1 2%, 流动性 100S。施釉时釉浆比重为 1.55 1.65。 0041 生产工艺与实施例 6 相同。生产测试表明, 生产选定浅粉红色标准色板需要耗费 油墨约为 6.0g。
28、/ 片 ; 连续生产 10 班次, 因喷头阻塞而中途进行的检修 0 次。 0042 实施例 7 与实施例5工艺基本相同, 所不同之处在于, 底釉中凹凸棒土质量份数为4%。 生产测试 表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为6.2g/片 ; 连续生产10班次, 因喷头阻塞而中 途进行的检修 0 次。 0043 实施例 8 与实施例6工艺基本相同, 所不同之处在于, 底釉中凹凸棒土质量份数为5%。 生产测试 表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为6.5g/片 ; 连续生产10班次, 因喷头阻塞而中 途进行的检修 1 次。当凹凸棒土使用量达到 5% 时, 底釉烧成温度偏高, 造成底釉釉面质量 。
29、变差, 在生产精细构图的图案时会对图案分辨率造成一定影响, 而且也有可能出现分层或 造成透明保护釉面质量变差的影响。 0044 实施例 9 氧化锡, 作为一种优良的乳浊剂, 不仅能提高釉面白度, 而且能改善釉面质量。在此实 施例中, 我们选择在实施例4的底釉基础上, 添加质量份数为0.5%的氧化锡, 其它工艺基本 相同。 0045 添加氧化锡后, 底釉白度增加, 单独烧成后经白度仪测试, 白度达到 87 度, 符合生 产需求, 而且釉面平滑细腻。 0046 生产测试表明, 生产测试表面, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 7.3g/ 片 ; 连续生产 10 班次, 因喷头阻塞而进行的检修 1。
30、 次。 0047 实施例 10 在此实施例中, 我们选择再实施例8的底釉基础上, 添加质量份数为2%的氧化锡, 其它 工艺基本相同。 0048 添加氧化锡后, 釉面质量明显提高, 而且釉质细腻。生产测试表明, 生产选定的标 准色板需要耗费油墨约为6.3g/片 ; 连续生产10班次, 因喷头阻塞而中途进行的检修0次。 0049 为了能更好说明本发明提供方案的有限, 提供如下对比实施例 1-4。 0050 对比实施例 1 选用锆基底釉, 锆基底釉以钠长石、 硼熔块、 硅酸锆、 高岭土、 石英石为原料, 具体组分 为钠长石40%, 硼熔块20%, 硅酸锆10%, 高岭土10%, 石英20%。 加水球。
31、磨, 在球磨时需要额外 说 明 书 CN 103524147 A 7 6/6 页 8 加釉料干料重量 0.03% 0.05% 的羧甲基纤维素和 0.1% 0.3% 的三聚磷酸钠。球磨后釉 浆的 325 目筛余 2 3%, 流动性 100S。施釉时釉浆比重为 1.59。 0051 选用如实施例 1 的生产工艺生产如实施例 1-4、 9 的紫色样板。 0052 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为10.2g/片 ; 连续生产10班 次, 因喷头阻塞而中途进行的检修 5 次。 0053 对比实施例 2 选用如对比实施例 1 的工艺生产样板, 所不同的是, 喷墨打印生产的标准色板如实施 。
32、例5-8、 10的浅粉红样板。 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为8.4g/片 ; 连续生产 10 班次, 因喷头阻塞而中途进行的检修 4 次。 0054 对比实施例 3 选用文献 环境友好型高白乳浊釉的研究 中公开的以 Ca3(PO3)2、 滑石、 石英及硼熔块 为基本组成, 制备的无乳浊剂 R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3体系环境友好型高白乳浊釉作为 底釉。 0055 采用如实施例 1 的制备工艺生产如实施例 1-4、 9 的紫色样板。 0056 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 9.8g/ 片 ; 连续生产 10 班 次, 因喷头阻。
33、塞而中途进行的检修 4 次。 0057 对比实施例 4 选用文献 环境友好型高白乳浊釉的研究 中公开的以 Ca3(PO3)2、 滑石、 石英及硼熔块 为基本组成, 制备的无乳浊剂 R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3体系环境友好型高白乳浊釉作为 底釉。 0058 采用如对比实施例 3 的生产工艺生产样板。与对比实施例 3 所不同的是选定的标 准色板为如实施例 5-8、 10 的浅红色样板。 0059 生产测试表明, 生产选定的标准色板需要耗费油墨约为 8.5g/ 片 ; 连续生产 10 班 次, 因喷头阻塞而中途进行的检修 4 次。 0060 通过实施例 1-10 与对比实施。
34、例 1-4 的比较, 我们可以得出以下结论 : 底釉为磷 硼或硼钙多相乳浊釉, 且所述底釉中含有质量份数为 0.5% 5% 的锐钛型氧化钛或凹凸棒 土的工艺具有节省油墨, 减少喷头阻塞等故障率的优点, 进而降低生产成本, 提高生产连续 性。 0061 另外, 公知锆具有较高的放射性, 使用其作为乳浊剂的釉面具有较高的放射性。 而 本发明提供的抛釉砖生产工艺中所采用底釉不含有锆, 而且也不含有其它高放射性的矿物 原料, 因此更为绿色环保, 对人体危害更小。 0062 以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。 这些描述只是为了解释本发明的 原理, 而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。 基于此处的解释, 本领域的技术 人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式, 这些方式都将落入 本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 103524147 A 8 。