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利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法及据此方法制作的铜铟镓硒系薄膜.pdf

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  • 摘要
    申请专利号:

    CN201380000852.4

    申请日:

    2013.01.31

    公开号:

    CN104094412A

    公开日:

    2014.10.08

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情:

    授权|||实质审查的生效IPC(主分类):H01L 31/032申请日:20130131|||公开

    IPC分类号:

    H01L31/032; H01L21/02

    主分类号:

    H01L31/032

    申请人:

    韩国能源技术研究院

    发明人:

    鱼英柱; 尹庆勋; 安世镇; 郭智惠; 尹载浩; 赵雅拉; 申基植; 安承奎; 赵俊植; 柳镇洙; 朴相炫; 朴柱炯

    地址:

    韩国大田市儒城区柯亭路152

    优先权:

    2012.02.02 KR 10-2012-0010638

    专利代理机构:

    北京冠和权律师事务所 11399

    代理人:

    龚建华

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    内容摘要

    本发明公开了一种利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法及据此方法制作的铜铟镓硒系薄膜。本发明的铜铟镓硒系薄膜的制作方法,包括:制作铜铟镓硒系纳米颗粒的步骤(a);含有上述铜铟镓硒系纳米颗粒与熔点为30-400℃范围的助熔剂的浆料的制作步骤(b);在基板上非真空涂覆上述浆料而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(c);干燥铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(d);利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤(e)。据此可使用比以前铜铟镓硒系薄膜制作时低的温度进行硒化热处理,从而节减制作费用,并用低温也能够充分完成薄膜内结晶生长。

    权利要求书

    权利要求书1.  一种利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,包括:制作铜铟镓硒系纳米颗粒的步骤(a);含有上述铜铟镓硒系纳米颗粒与熔点为30-400℃范围的助熔剂的浆料的制作步骤(b);在基板上非真空涂覆上述浆料而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(c);干燥上述铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(d);利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤(e)。2.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述铜铟镓硒系纳米颗粒选自:包含选自Cu-Se、In-Se、Ga-Se、Cu-S、In-S及Ga-S粒子组成的组中的任意一个的二元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Se、Cu-In-S、Cu-Ga-S及Cu-Ga-Se粒子组成的组中的任意一个的三元纳米颗粒;Cu-In-Ga-Se四元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Ga-Se-(S、Se)及Cu-In-Al-Ga-(S、Se)组成的组中的任意一个的五元纳米颗粒;Cu-In-Al-Ga-Se-S六元纳米颗粒;包含选自Cu-Zn-Sn-(Se、S)及Cu-In-Ga-Zn-Sn-(Se、S)粒子组成的组中的任意一个的铜锌锡硫系纳米颗粒;以及包含选自Cu、In、Ga、Al、Zn、Sn、S及Se元素粉末组成的组中的任意一个的纳米颗粒。3.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(a)采用低温胶体法、溶剂热合成法、微波法及超声波合成法中任意一种方法。4.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(b)中的浆料是混合上述铜铟镓硒系纳米颗粒、上述助熔剂、溶剂、络合剂、交联剂制作的。5.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法, 其特征在于,上述助熔剂是选自硫酰胺、硒酸钠(十水物)、亚硒酸钠及氨基磺酸组成的组中的任意一个。6.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(c)采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法及喷墨印刷法中任意一种。7.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(d)中,在60-300℃温度下干燥2-10分钟,并且2-10次重复上述干燥。8.  根据权利要求1所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(e)中,在250-450℃范围下,硒化热处理30-120分钟。9.  一种按权利要求1所述的制作方法制作的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜。10.  一种利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,包括:含有熔点为30-400℃范围的助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液的制作步骤(l);在基板上非真空涂覆含有上述助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液,而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(m);干燥上述铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤(n);利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤(o)。11.  根据权利要求10所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述铜铟镓硒系前驱体溶液包括:分别包括Cu、In及Ga的金属盐溶液;含有铜铟镓硒系纳米颗粒的肼溶液。12.  根据权利要求11所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述铜铟镓硒系纳米颗粒选自:包含选自Cu-Se、In-Se、Ga-Se、Cu-S、In-S及Ga-S粒子组成的组中的任意一个的二元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Se、Cu-In-S、Cu-Ga-S及Cu-Ga-Se粒子组成的组中的任意一个的三元纳米 颗粒;Cu-In-Ga-Se四元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Ga-Se-(S、Se)及Cu-In-Al-Ga-(S、Se)组成的组中的任意一个的五元纳米颗粒;Cu-In-Al-Ga-Se-S六元纳米颗粒;包含选自Cu-Zn-Sn-(Se、S)及Cu-In-Ga-Zn-Sn-(Se、S)粒子组成的组中的任意一个的铜锌锡硫系纳米颗粒;包含选自Cu、In、Ga、Al、Zn、Sn、S及Se元素粉末组成的组中的任意一个的纳米颗粒。13.  根据权利要求11所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述金属盐溶液是选自氯化物、醋酸盐、硝酸盐及硫酸盐组成的组中的任意一个。14.  根据权利要求10所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(n)采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法及喷墨印刷法中的任意一种。15.  根据权利要求10所述的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,其特征在于,上述步骤(o)中,在250-450℃范围下,硒化热处理30-120分钟。16.  一种按权利要求10所述的制作方法制作的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜。

    说明书

    说明书利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法及据此方法制作的铜铟镓硒系薄膜
    技术领域
    本发明涉及一种太阳电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,尤其涉及一种用非真空涂覆法制作铜铟镓硒系薄膜时,形成前驱体薄膜的步骤中,使用熔点比以前硒化热处理时的温度相对低的助熔剂,从而降低最终热处理温度,也能够充分进行结晶生长的铜铟镓硒系薄膜的制作方法及据此方法制作的铜铟镓硒系薄膜。
    背景技术
    太阳能电池根据作为光吸收层的使用的物质,分为多样的种类,目前使用最广泛的是利用硅的硅太阳能电池。然而最近硅供应不足,价格爆涨,对薄膜式太阳能电池的关注日益增加。薄膜式太阳能电池制作成很薄的厚度,因此材料消耗更少,且重量轻,因此应用范围十分广泛。对作为这种薄膜式太阳能电池的材料使用的非晶硅与碲化镉(CdTe)、铜铟硒(CIS)或铜铟镓硒(CIGS)的研究十分活跃。
    铜铟硒系薄膜或铜铟镓硒系薄膜是Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ族化合物半导体中之一,并且在实验室制作的薄膜太阳能电池中,具有最高的转换率(20.3%)。尤其能够制作成10微米以下的厚度,且长期使用时性能也稳定,从而作为能够替代硅的低廉高效率的太阳能电池,颇受瞩目。
    铜铟镓硒系薄膜是为了改善铜铟硒系薄膜的较低的开路电压而用Ga替代部分In或用Se替代S而开发的材料。铜铟镓硒系太阳能电池利用数微米厚度的薄膜制作太阳能电池,并且该制作方法主要有采用真空蒸镀的方法与、非真空涂覆前驱体物质后进行热处理的方法。
    非真空状态下涂覆前驱体物质而成的铜铟镓硒系薄膜,微孔多、致密性差,因此需要进行硒化热处理。硒化热处理时有助于铜铟镓硒系薄膜内结晶生长的CuSe的熔点是500℃以上,因此需要在500℃以上的条件下进行。因此,存在铜铟镓硒系薄膜的制作费用上升的问题。
    与上述背景技术有关的内容可参照韩国授权专利第10-1030780号、第10-1039667号等。
    发明内容
    本发明的目的在于在非真空条件下制作太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜时,形成包括低熔点助熔剂的前驱体薄膜,即使用比以前低的温度进行硒化热处理,也能够充分进行薄膜内结晶生长,从而最终提高包含该薄膜的太阳能电池的效率。
    为实现上述目的,本发明的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,包括:制作铜铟镓硒系纳米颗粒的步骤a;含有上述铜铟镓硒系纳米颗粒与熔点为30-400℃范围的助熔剂的浆料的制作步骤b;在基板上非真空涂覆上述浆料而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤c;干燥上述铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤d;利用硒(Se)蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤e。
    上述铜铟镓硒系纳米颗粒可以是选自:包含选自Cu-Se、In-Se、Ga-Se、Cu-S、In-S及Ga-S粒子组成的组中的任意一个的二元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Se、Cu-In-S、Cu-Ga-S及Cu-Ga-Se粒子组成的组中的任意一个的三元纳米颗粒;Cu-In-Ga-Se四元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Ga-Se-(S、Se)及Cu-In-Al-Ga-(S、Se)组成的组中的任意一个的五元纳米颗粒;Cu-In-Al-Ga-Se-S六元纳米颗粒;包含选自Cu-Zn-Sn-(Se、S)及Cu-In-Ga-Zn-Sn-(Se、S)粒子组成的组中的任意一个的铜锌锡硫系纳米颗粒;以及包含选自Cu、In、Ga、Al、Zn、Sn、S及Se元素粉末组成的组中的任意一个的纳米颗粒。
    上述步骤a可采用低温胶体法、溶剂热合成法、微波法及超声波合成法中任意一种方法。
    上述步骤b中的浆料可以混合上述铜铟镓硒系纳米颗粒、上述助熔剂、溶剂、络合剂、交联剂制作。
    上述助熔剂可以是选自硫酰胺、硒酸钠(十水物)、亚硒酸钠及氨基磺酸组成的组中的任意一个。
    上述步骤c可采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法及喷墨印刷法中的任意一种。
    上述步骤d中,可在60-300℃温度下干燥2-10分钟,并且2-10次重复上述干燥。
    上述步骤e中,可在250-450℃范围下,硒化热处理30-120分钟。
    为实现上述目的本发明的另一利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法,包括:含有熔点为30-400℃范围的助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液的制作步骤l;在基板上非真空涂覆含有上述助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤m;干燥上述铜铟镓硒系前驱体薄膜的步骤n;利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤o。
    上述铜铟镓硒系前驱体溶液可以包括:分别包括Cu、In及Ga的金属盐溶液;含有铜铟镓硒系纳米颗粒的肼溶液。
    上述铜铟镓硒系纳米颗粒可以是选自:包含选自Cu-Se、In-Se、Ga-Se、Cu-S、In-S及Ga-S粒子组成的组中的任意一个的二元纳米颗粒;包含选自Cu-In-Se、Cu-In-S、Cu-Ga-S及Cu-Ga-Se粒子组成的组中的任意一个的三元纳米颗粒;Cu-In-Ga-Se四元纳米颗粒;包含选自 Cu-In-Ga-Se-(S、Se)及Cu-In-Al-Ga-(S、Se)组成的组中的任意一个的五元纳米颗粒;Cu-In-Al-Ga-Se-S六元纳米颗粒;包含选自Cu-Zn-Sn-(Se、S)及Cu-In-Ga-Zn-Sn-(Se、S)粒子组成的组中的任意一个的铜锌锡硫系纳米颗粒;包含选自Cu、In、Ga、Al、Zn、Sn、S及Se元素粉末组成的组中的任意一个的纳米颗粒。
    上述金属盐溶液可以是选自氯化物、醋酸盐、硝酸盐及硫酸盐组成的组中的任意一个。
    上述步骤n可采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法及喷墨印刷法中的任意一种。
    上述步骤o中,可在250-450℃范围下,硒化热处理30-120分钟。
    为实现上述目的,本发明的利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜,可以按如下步骤制作,含有铜铟镓硒系纳米颗粒与熔点为30-400℃范围的助熔剂的浆料的制作步骤;在基板上非真空涂覆上述浆料而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜并干燥的步骤;利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤。
    为实现上述目的,本发明的另一利用低熔点助熔剂的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜,可以按如下步骤制作,含有熔点为30-400℃范围的助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液的制作步骤;在基板上非真空涂覆含有上述助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液而形成铜铟镓硒系前驱体薄膜并干燥的步骤;利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理的步骤。
    附图说明
    图1是依次显示本发明的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法的流程图。
    图2是依次显示本发明的另一太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法的流程图。
    具体实施方式
    本发明的太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法应用了非真空涂覆法,上述非真空涂覆法可以采用利用含有铜铟镓硒系纳米颗粒的浆料的方法,也可以采用利用铜铟镓硒金属盐前驱体溶液的方法。
    首先,对利用含有铜铟镓硒系纳米颗粒的浆料的方法进行说明后,再对利用铜铟镓硒金属盐前驱体溶液的方法进行说明。
    下面,参照图1说明本发明的铜铟镓硒系薄膜的制作方法。上述铜铟镓硒系薄膜的制作方法共分为五个步骤。
    首先,制作铜铟镓硒系纳米颗粒-步骤a。
    上述铜铟镓硒系纳米颗粒,可以混合Cu-Se、In-Se、Ga-Se、Cu-S、In-S、Ga-S等二元纳 米颗粒使用,根据情况,也可以包含:IB-IIIA-VIA族化合物半导体即Cu-In-Se为主的Cu-In-S、Cu-Ga-S、Cu-Ga-Se等三元化合物;Cu-In-Ga-Se等四元化合物;Cu-In-Ga-Se-(S、Se)、Cu-In-Al-Ga-(S、Se)、Cu-In-Al-Ga-Se-S等五元、六元化合物的纳米颗粒。
    进而,也可以包含:用IIB族元素(Zn等)+IVA族元素(Sn等)置换在上述铜铟硒系或铜铟镓硒系化合物中的全部In、Ga、Al等IIIA族元素的Cu-Zn-Sn-(Se、S);进行部分置换的Cu-In-Ga-Zn-Sn-(Se、S)等铜锌锡硫系化合物的纳米颗粒。
    并且,根据上述化合物的种类,也可以使用Cu、In、Ga、Al、Zn、Sn、S、Se等的元素粉末。
    上述铜铟镓硒系纳米颗粒可采用低温胶体法、溶剂热(solvothermal)合成法、微波法、超声波合成法等本发明所属技术领域公知的方法制作。
    接着,制作含有低温助熔剂与铜铟镓硒系纳米颗粒的浆料-步骤b。
    上述浆料是混合在上述步骤a中制成的铜铟镓硒系纳米颗粒、溶剂、络合剂(chelating agent)、交联剂及低温助熔剂(flux)而制作的。
    此时,上述溶剂可使用甲醇、乙醇、戊醇、丙醇、丁醇等醇类、乙醚类、酮类、乙二醇乙醚类溶剂等。
    上述络合剂可使用乙醇胺(monoethanolamine)、二乙醇胺(diethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、乙二胺(ethylenenediamine)、乙二胺四乙酸(ethylenediaminetetraacetic acid)、氨三乙酸(nitrilotriacetic acid)、羟乙基乙二胺三乙酸(hydroxyethyl ethylenediamine triacetic acid)、乙二醇醚二胺四乙酸(glycol ether diamine tetraacetic acid)、三乙四胺六乙酸(triethylene tetraamine hexaacetic acid)等胺类化合物。
    另外,为在上述浆料中充分混合上述低温助熔剂,还可以添加少量的溶剂即水。
    上述交联剂可使用乙二醇(ethylene glycol)、丙二醇(propylene glycol)等的高分子醇类。
    上述低温助熔剂是指,具有与以前帮助铜铟镓硒系薄膜结晶生长的CuSe熔点相比,相对低的温度即400℃以下优先为30-400℃范围熔点的物质,其定义为在本发明铜铟镓硒系薄膜制作时的硒化热处理工序中,能够在相对低的温度下熔融,而使迁移(migration)更为简易,从而有助于结晶生长的物质。
    此时,上述低温助熔剂可使用硫酰胺(Sulfamide)、硒酸钠(十水物)(sodium Selenate Decahydrate)、亚硒酸钠(Sodium Selenite)、氨基磺酸(Sulfamic acid)组成的组中的任意一个。
    上面罗列的低温助熔剂资料如下表1所示。
    [表1]
    名称化学式CAS/Aldrich分子量熔点(℃)硫酰胺(NH2)2SO27803-58-9/21137096.1190~92硒酸钠(十水物)Na2SeO4-10H2O10102-23-5/450294369.0935亚硒酸钠Na2SeO310102-18-8/24485172.94350氨基磺酸NH2SO3H5329-14-6/48150597.09~220
    如上表1所示,上述低温助熔剂可在350℃以下温度下熔融,从而在比以前硒化热处理时的500℃温度低的温度下,使元素的迁移更简易,从而铜铟镓硒系薄膜内的结晶生长很好。
    在上述低温助熔剂中所包含的Na元素,其本身对铜铟镓硒系薄膜的结晶生长十分有帮助,Se与S是构成薄膜的元素,虽然N与O是异物,但对铜铟镓硒系薄膜的性能几乎没有影响。并且,O在硒化热处理过程中自己蒸发而不遗留在薄膜。
    接着,在基板上涂覆上述浆料而制作铜铟镓硒系前驱体薄膜-步骤c。
    特征为在制作上述铜铟镓硒系前驱体薄膜时使用非真空涂覆法。作为上述非真空涂覆法,可采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法、喷墨印刷法等本发明所属技术领域公知的所有非真空涂覆法。这种非真空涂覆法与共蒸镀法相比,能够相对节减制作费。
    然后,干燥上述涂覆的铜铟镓硒系前驱体薄膜-步骤d。
    上述干燥优先为在60-300℃温度下干燥2-10分钟,并且2-10次重复上述干燥。
    据此能够除去上述溶剂、交联剂。
    最后,利用硒(Se)蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化(selenization)热处理-步骤e。
    上述利用硒蒸汽热处理的工程中,加热硒固体使其蒸发而提供硒蒸汽,并提升设有上述薄膜的基板温度而完成。此时,上述基板的温度为比以前硒化热处理时低的250-450℃范围下,进行30-120分钟为佳。
    据此,上述铜铟镓硒系前驱体薄膜被硒化,并且上述低温助熔剂被熔融而完成结晶生长。
    并且,本发明提供按上述制作方法制作的铜铟镓硒系薄膜。
    并且,本发明提供作为光吸收层包含上述铜铟镓硒系薄膜的太阳能电池。
    下面,说明本发明的另一太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜的制作方法。上述制作方法是利用铜铟镓硒前驱体溶液的方法。图2中依次显示了上述制作方法。
    参照图2,首先,制作含有低温助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液-步骤l。
    上述铜铟镓硒系前驱体溶液选自:分别包含Cu、In、Ga的金属盐溶液(metal salt);以及包含Se或S的二元、三元、四元、五元、六元铜铟硒系、铜铟镓硒系、铜锌锡硫系化合物纳米颗粒中任意一个的肼(hydrazine)溶液。上述化合物纳米颗粒与上述另一铜铟镓硒系薄膜制作方法的步骤a中记载的内容相同,因此详细内容参照该部分。
    此时,上述金属盐溶液作为溶剂可以使用醇类溶剂或水。并且,包含在上述金属盐溶液中的金属盐可以是氯化物(chloride)、醋酸盐(acetate)、硝酸盐(nitrate)、硫酸盐(sulfate)等的有机盐或无机盐。
    并且,上述含有Se的二元化合物,包括Cu2Se、In2Se3以及Ga2Se3纳米颗粒,在此还可以添加Se。
    上述低温助熔剂,与利用上述浆料的铜铟镓硒系薄膜的制作方法步骤b中表1的内容相同,因此详细内容参照该部分。
    接着,在基板上涂覆含有上述低温助熔剂的铜铟镓硒系前驱体溶液,而制作铜铟镓硒系前驱体薄膜-步骤m。
    特征为在制作上述铜铟镓硒系前驱体薄膜时采用非真空涂覆法,该具体方法可以采用喷涂法、超声波喷涂法、旋转涂覆法、刮刀涂布法、丝网印刷法、喷墨印刷法等本发明所属技术领域公知的所有非真空涂覆法。
    然后,干燥上述涂覆的铜铟镓硒系前驱体薄膜-步骤n。
    最后,利用硒蒸汽将上述铜铟镓硒系前驱体薄膜进行硒化热处理-步骤o。
    上述步骤n及步骤o的方法及条件,与上述另一铜铟镓硒系太阳能电池用薄膜的制作方法中步骤d及步骤e相同,详细内容参照该内容。
    并且,本发明提供按上述制作方法制作的铜铟镓硒系薄膜。
    并且,本发明提供作为光吸收层包含上述铜铟镓硒系薄膜的太阳能电池。
    [实施例1]
    在手套箱内混合CuI:0.343g、InI3:0.673g、GaI3:0.207g与蒸馏的吡啶溶剂30ml,并在100℃加热板(Hot Plate)上面搅拌30分钟。约搅拌10分钟后可以确认不透明的溶液变透明了。混合此Cu、In混合物与在蒸馏的甲醇20ml内溶化的Na2Se0.48g。该原子比为Cu:In:Ga:Se=0.9:0.68:0.23:1.91。
    然后,在0℃冰浴内机械搅拌甲醇/吡啶混合物,并反应1分钟而合成铜铟镓硒氯化物。用4000rpm对合成的铜铟镓硒氯化物离心分离约30分钟后,超声波处理5分钟,并用蒸馏的甲醇清洗,重复该过程完全除去产物内的副产物及吡啶,从而合成高纯度的Cu-In-Ga-Se纳米颗粒。
    然后,混合上述Cu-In-Ga-Se纳米颗粒0.3g、络合剂0.3g、乙二醇0.3g、甲醇1.2g、低温助 熔剂即硫酰胺0.03g、作为低温助熔剂的溶剂使用的少量水,然后超声波处理60分钟而制作浆料。
    然后,在蒸镀Mo薄膜的钠钙玻璃基板上,利用旋转涂覆法涂覆上述浆料。此时,上述玻璃基板的旋转速度设定为800rpm、旋转时间设定为20秒。涂覆后,在加热板上面分三个步骤进行了干燥。此时,第一步骤是在60℃下5分钟干燥,第二步骤是在200℃下2分钟干燥,第三步骤是在300℃下10分钟干燥。
    最后,400℃基板温度下供应Se蒸汽,硒化热处理30分钟而完成了铜铟镓硒系薄膜。
    [实施例2]
    在手套箱内混合CuI:0.343g、InI3:0.991g与蒸馏的吡啶溶剂30ml,并在50℃加热板上面搅拌10分钟。约搅拌10分钟后可以确认不透明的溶液变透明了。混合此Cu、In混合物与在蒸馏的甲醇20ml内溶化的Na2Se0.5g。该原子比为Cu:In:Se=0.9:1:2。
    然后,在0℃冰浴内机械搅拌甲醇/吡啶混合物,并反应1分钟而合成纳米颗粒。用4000rpm对合成的铜铟硒氯化物离心分离约30分钟后,超声波处理5分钟,并用蒸馏的甲醇清洗,重复该过程完全除去产物内的副产物及吡啶,而合成高纯度的Cu-In-Se纳米颗粒。
    备好上述纳米颗粒Cu-In-Se纳米颗粒0.3g,然后通过与上述实施例1相同的条件与方法,完成了铜铟硒系薄膜。
    [实施例3]
    在手套箱内混合CuI:0.762g与蒸馏的吡啶溶剂30ml,并在100℃加热板上搅拌30分钟。约搅拌10分钟后可以确认不透明的溶液变透明了。混合此Cu溶液与在蒸馏的甲醇10ml内溶化的Na2Se0.25g。该原子比为Cu:Se=1:2。然后,在0℃冰浴内机械搅拌甲醇/吡啶混合物,并反应1分钟而合成Cu2Se氯化物。用4000rpm对合成的Cu2Se氯化物离心分离约30分钟后,超声波处理5分钟,并用蒸馏的甲醇清洗,重复该过程完全除去产物内的副产物及吡啶,而合成高纯度的Cu2Se颗粒。
    并且,在手套箱内混合InI3:1.487g与蒸馏的吡啶溶剂30ml,并在100℃加热板上搅拌30分钟。约搅拌10分钟后可以确认不透明的溶液变透明了。混合此In溶液与在蒸馏的甲醇20ml内溶化的Na2Se0.75g混合。该原子比为In:Se=2:3。然后,在0℃冰浴内机械搅拌甲醇/吡啶混合物,并反应1分钟而合成In2Se3氯化物。用4000rpm对合成的In2Se3氯化物离心分离约30分钟后,超声波处理5分钟,并用蒸馏的甲醇清洗,重复该过程完全除去产物内的副产物及吡啶,而合成高纯度的In2Se3颗粒。
    并且,在手套箱内混合GaI3:1.80g与蒸馏的吡啶溶剂50ml,并在100℃加热板上搅拌30分钟。约搅拌10分钟后可以确认不透明的溶液变透明了。将此Ga溶液与在蒸馏的甲醇20ml内溶 化的Na2Se0.75g混合。该原子比为Ga:Se=2:3。然后,在0℃冰浴内机械搅拌甲醇/吡啶混合物,并反应1分钟而合成Ga2Se3氯化物。用4000rpm对合成的Ga2Se3氯化物离心分离约30分钟后,超声波处理5分钟,并用蒸馏的甲醇清洗,重复该过程完全除去产物内的副产物及吡啶,而合成高纯度的Ga2Se3颗粒。
    混合通过上述方法合成的Cu2Se、In2Se3、Ga2Se3纳米颗粒,并吸取0.3g,通过与上述实施例1相同的方法制作浆料,然后完成铜铟镓硒系薄膜。
    [实施例4]
    通过与上述实施例1相同的方法制作Cu-In-Ga-Se纳米颗粒,并用它制作含有低温助熔剂硒酸钠(十水物)的铜铟镓硒系金属盐溶液。
    利用旋转涂覆法,在蒸镀Mo薄膜的钠钙玻璃基板上,涂覆上述铜铟镓硒系金属盐溶液,通过与上述实施例1相同的方法进行涂覆、干燥及硒化热处理而完成铜铟镓硒系薄膜。
    [实施例5]
    通过与上述实施例2相同的方法制备Cu-In-Se纳米颗粒,用它制作含有低温助熔剂硒酸钠(十水物)的铜铟硒金属盐溶液。
    利用旋转涂覆法,在蒸镀Mo薄膜的钠钙玻璃基板上,涂覆上述铜铟硒金属盐溶液,通过与上述实施例1相同的方法进行涂覆、干燥及硒化热处理而完成铜铟镓硒系薄膜。
    [实施例6]
    通过与上述实施例3相同的方法制备Cu2Se、In2Se3、Ga2Se3纳米颗粒,用它制作含有低温助熔剂硒酸钠(十水物)的铜铟镓硒系金属盐溶液。
    利用旋转涂覆法,在蒸镀Mo薄膜的钠钙玻璃基板上,涂覆上述铜铟镓硒金属盐溶液,通过与上述实施例1相同的方法进行涂覆、干燥及硒化热处理而完成铜铟镓硒系薄膜。
    在非真空条件下制作太阳能电池用铜铟镓硒系薄膜时,形成含有低熔点助熔剂的前驱体薄膜,从而能够在比以前低的温度下进行硒化热处理,从而节减制作费,并且在低温下也能够充分进行薄膜内结晶生长。
    如上说明了本发明的优先实施例,但本发明并不限于上述特定实施例,具有本发明所属技术领域通常知识的人,可在该技术思想范围内进行多样的变形实施。因此本发明的权利范围并不依据特定实施例,而应根据附件中权利要求书的内容而定。

    关 键  词:
    利用 熔点 熔剂 太阳能电池 用铜铟镓硒系 薄膜 制作方法 据此 方法 制作 铜铟镓硒系
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