包括铰链组件的等离子体处理组件.pdf

《包括铰链组件的等离子体处理组件.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《包括铰链组件的等离子体处理组件.pdf（16页完整版）》请在专利查询网上搜索。

1、(10)申请公布号 CN 104041194 A (43)申请公布日 2014.09.10 CN 104041194 A (21)申请号 201280057151.X (22)申请日 2012.11.07 61/562,124 2011.11.21 US 13/315,929 2011.12.09 US H05H 1/34(2006.01) H05H 1/46(2006.01) (71)申请人 朗姆研究公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 格雷格塞克斯顿 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263 代理人 李献忠 (54) 发明名称 包括铰链组件的等离子体处理组件 (57) 。

2、摘要 在一个实施方式中， 等离子体处理组件可以 包括耦合到铰链体的上处理体和耦合到基部铰链 构件的下处理体。所述铰链体能与所述基部铰链 构件可枢转地接合。自锁闩能与所述基部铰链构 件可枢转地接合。当铰链体围绕第一旋转轴旋转 时， 凸锁闩接合构件能接触所述自锁闩并且使所 述自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方 向旋转。所述自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方 向旋转并且能阻止所述铰链体围绕第一旋转轴旋 转。 (30)优先权数据 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2014.05.21 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2012/063789 2012.11.07 (87)PCT国际申。

3、请的公布数据 WO2013/078003 EN 2013.05.30 (51)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 7 页 附图 6 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书7页 附图6页 (10)申请公布号 CN 104041194 A CN 104041194 A 1/2 页 2 1. 一种等离子体处理组件， 其包括 ： 下处理体， 其包含形成于其中的下真空室 ； 安装到所述下处理体的基部铰链构件 ； 与所述基部铰链构件可枢转地接合并安装到上处理体的铰链体， 其中所述基部铰链构 件和所述铰链体彼此围绕第一旋转轴相对旋转， 使得所述上处理体。

4、的运动由所述基部铰链 构件和所述铰链体约束， 并且其中所述铰链体包括凸锁闩接合构件 ； 与所述基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩， 其中所述自锁闩和所述基部铰链构件彼 此围绕第二旋转轴相对旋转， 并且所述自锁闩被偏置在偏置方向， 并且其中 ： 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴从闭合位置并且朝向锁定位置旋转时， 所述凸锁闩 接合构件接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿与偏置方向相反的方 向旋转 ； 以及 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到锁定位置时， 所述自锁闩围绕所述第二旋转 轴沿偏置方向旋转并且阻止所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到所述闭合位置。 2. 如权利要求 1 所述的等离。

5、子体处理组件， 其中所述基部铰链构件包括被耦合到所述 下处理体的安装平台以及延伸远离所述安装平台的一个或多个瓣构件。 3. 如权利要求 2 所述的等离子体处理组件， 其还包括细长狭槽和铰链销， 其中所述细 长狭槽形成在所述瓣构件中的至少一个中， 并且所述铰链销基本上对准所述第一旋转轴插 入所述细长狭槽。 4. 如权利要求 3 所述的等离子体处理组件， 其中所述铰链体包围并围绕所述铰链销旋 转。 5. 如权利要求 4 所述的等离子体处理组件， 其中所述铰链体位于所述瓣构件中的两个 之间。 6. 如权利要求 3 所述的等离子体处理组件， 其中所述铰链销固定于所述细长狭槽内并 且在所述细长狭槽内垂直。

6、滑动。 7. 如权利要求 3 所述的等离子体处理组件， 还包括固定螺丝， 其中所述固定螺丝与所 述瓣构件中的一个接合并且接触位于所述细长狭槽内的所述铰链销。 8. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 其中所述第二旋转轴基本垂直于所述第一 旋转轴。 9. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 其中所述自锁闩包括凹进表面和倾斜的脊 部， 其中所述凹进表面和所述倾斜的脊部限定铰链锁定腔。 10. 如权利要求 9 所述的等离子体处理组件， 其中所述凸锁闩接合构件包括棘爪以及 所述自锁闩包括锁闩开口槽， 使得当所述自锁闩围绕所述第二旋转轴从所述闭合位置并且 朝向释放位置旋转时， 所述凸锁闩接合。

7、构件的所述棘爪接合所述自锁闩的所述锁闩开口槽 并且将所述自锁闩保持在所述释放位置。 11. 如权利要求 10 所述的等离子体处理组件， 其中当所述铰链体围绕所述第一旋转轴 旋转远离所述释放位置并且朝向所述闭合位置时， 所述凸锁闩接合构件的所述棘爪脱离所 述自锁闩的所述锁闩开口槽并且所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿所述偏置方向旋转。 12. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 其中所述上处理体是平衡的， 使得当所述 上处理体围绕所述第一旋转轴旋转小于相对于所述下处理体测得的平衡角的角度时， 所述 权 利 要 求 书 CN 104041194 A 2 2/2 页 3 上处理体自动旋转到所述闭合。

8、位置。 13. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 其中所述上处理体是平衡的， 使得当所述 上处理体围绕所述第一旋转轴旋转大于相对于所述下处理体测得的平衡角的角度时， 所述 上处理体自动旋转到所述锁定位置。 14. 如权利要求 13 所述的等离子体处理组件， 其中所述平衡角小于约 60 （约 1.05 弧 度） 。 15. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 还包括位于所述上处理体或者所述下处 理体中的 O 形环， 其中当处于所述闭合位置时， 所述上处理体与所述下处理体互锁并且所 述 O 形环密封所述下真空室。 16. 如权利要求 1 所述的等离子体处理组件， 其中所述上处理体包括。

9、定位销以及所述 下处理体包括销接收孔， 并且当处于闭合位置时， 所述定位销和所述销接收孔互锁以相对 于所述下处理体对准所述上处理体。 权 利 要 求 书 CN 104041194 A 3 1/7 页 4 包括铰链组件的等离子体处理组件 技术领域 0001 本说明书总体上涉及等离子体处理组件， 并且更具体地， 涉及包括铰链组件的等 离子体处理组件。 背景技术 0002 等离子体处理组件能够被用来将材料从由例如半导体或玻璃形成的基底蚀刻掉。 等离子体处理组件可以包括包围等离子体处理气体的真空室， 该处理气体能够被离子化并 且转化为等离子体。例如射频源 （RF 源） 能够向处理气体施加射频能量 （R。

10、F 能源） 以产生等 离子体。在一些等离子体处理组件中， 多个电极和电介质环能够同心地对准以将 RF 能量导 向基底的期望的部分。 0003 此外， 一个电极能够耦合到下处理体并且另一个电极能够耦合到上处理体。下处 理体和上处理体能够可枢转地彼此啮合以便相对旋转运动。例如 ： 上处理体可以周期性地 旋转远离下处理体以便维护和 / 或清洗下处理体。这种周期性的维护能够导致上处理体和 下处理体之间的错位。 0004 因此， 需要一种附加的包括铰链组件的等离子体处理组件。 发明内容 0005 在一种实施方式中， 等离子体处理组件可以包括 ： 下处理体、 基部铰链构件、 铰链 体、 以及自锁闩。下处理。

11、体可以包括形成于其中的下真空室。基部铰链构件能被安装到下 处理体。铰链体能与基部铰链构件可枢转地接合。铰链体能被安装到上处理体。基部铰链 构件和铰链体能够彼此围绕第一旋转轴相对转动， 使得上处理体的运动由基部铰链构件和 铰链体约束。铰链体可以包括凸锁闩接合构件。自锁闩能与基部铰链构件可枢转地接合。 自锁闩和基部铰链构件能彼此围绕第二旋转轴相对转动。自锁闩能被偏置在偏置方向。当 铰链体围绕第一旋转轴从闭合位置并朝向锁定位置旋转时， 凸锁闩接合构件能接触自锁闩 并且能使自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。 当铰链体围绕第一旋转轴 旋转到锁定位置时， 自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转。

12、并且能够阻止铰链体围绕第 一旋转轴旋转到闭合位置。 0006 鉴于下文结合附图的详细描述， 将更充分地理解这些和通过本文所述的实施方式 提供的附加特征。 附图说明 0007 示于附图中的实施方式是说明性和示例性的， 并非旨在限制由权利要求书所限定 的主题。 当结合下面的附图阅读时， 就能够理解本说明性实施方式的以下详细描述， 其中用 相同的附图标记表示相同的结构， 并且其中 ： 0008 图 1A 示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于闭合位 置的等离子体处理组件 ； 说 明 书 CN 104041194 A 4 2/7 页 5 0009 图 1B 示意性地描绘了根据本文所。

13、示和描述的一个或多个实施方式的等离子体处 理组件 ； 0010 图 2 示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件 ； 0011 图3A和3B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于初 始接触点处的铰链组件 ； 0012 图4A和4B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组 件 ； 0013 图5A和5B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于锁 定位置的铰链组件 ； 以及 0014 图6A和6B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于释 放位置的铰链组件。 具体实施方式 0015 图1一般地描绘了用。

14、于从基底蚀刻材料和/或在基底上沉积材料的等离子体处理 组件的一个实施方式。 等离子体处理组件通常包括通过铰链组件与下处理体可枢转地接合 的上处理体。根据此处所述的实施方式， 铰链组件通常包括与铰链体可枢转地接合的基部 铰链构件和与基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩。 在这里将更详细地描述等离子体处理 组件的各种实施方式和等离子体处理组件的操作。 0016 共同参考图 1A 和 1B， 等离子体处理组件 10 包括具有下真空室 22 的下处理体 20， 下真空室 22 形成于下处理体 20 中， 用于密闭 （enclose） 等离子体处理。在诸如蚀刻或沉 积之类的等离子体处理中， 下真空室 22 。

15、能够包围等离子体处理气体， 例如， 处理气体可以 包括卤素或卤族元素， 例如 ： 氟 （F） 、 氯 （Cl） 、 溴 （Br） 、 碘 （I） 、 和砹 （At） 。此外， 特定的处理 气体可以包括 CClF3、 C4F8、 C4F6、 CHF3、 CH2F3、 CF4、 HBr、 CH3F、 C2F4、 N2、 O2、 Ar、 Xe、 He、 H2、 NH3、 SF6、 BCl3、 Cl2和能够被离子化的其它气体。下处理体 20 能够进一步包括适于将等离子体 处理气体密封在下真空室 22 内的 O 形环 26。因此， O 形环 26 能与下真空室 22 同心并且与 下真空室 22 相邻。值。

16、得注意的是， 虽然在图 1B 中描绘的 O 形环 26 位于下处理体 20 中， 但 O 形环 26 能位于上处理体 30 中。 0017 等离子体处理组件 10 进一步包括上处理体 30， 其与下处理体 20 配合以密封下真 空室 22。具体而言， 上处理体 30 包括室盖 32， 室盖 32 与下处理体 20 互锁以使下真空室 22 能够维持在低压。在一些实施方式中， 上处理体 30 的室盖 32 能与位于下处理体 20 内的 O 形环 26 形成密封。例如 ： 能够使室盖 32 与 O 形环 26 接触 （即， 如图 1A 中所示的当上处理 体 30 被关闭时） 。上处理体 30 能引起。

17、 O 形环 26 的足以能够在下真空室 22 内抽真空的初 始收缩， 即， 上处理体 30 的重量能压缩 O 形环 26 和 / 或能利用夹紧装置来引起该初始压 缩。然后， 真空室内的压强能够逐渐减少并且 O 形环 26 能被逐渐地压缩。具体而言， 例如， 下真空室 22 能被降低到低压并保持在低压， 例如 ： 在毫托的范围， 或者约 100 毫托至约 200 毫托。因此， O 形环 26 能被配置使得保持合适的密封以允许下真空室 22 内的压强的降低。 0018 如图 1B 所示， 下处理体 20 可以包括销接收孔 28 以及上处理体 30 可以包括定位 销 34。销接收孔 28 和定位销 。

18、34 能被配置以使上处理体 30 与下处理体 20 的下真空室 22 对准。例如， 定位销 34 可以包括球形构件 36 以及销接收孔 28 能具有圆形横截面， 使得球 说 明 书 CN 104041194 A 5 3/7 页 6 形构件 36 和销接收孔 28 的尺寸例如， 沿着 X-Z 平面在相对小的径向游隙内， 例如 ： 少于约 0.002 英寸 （约 50 微米） ， 在一个实施方式中少于约 0.001 英寸 （约 25 微米） ， 或者在另一个 实施方式中从约 0.0003 英寸 （约 7 微米） 至约 0.0008 英寸 （约 20 微米） 。值得注意的是， 虽 然图 1B 中描绘。

19、的定位销 34 基本上为圆柱形以及销接收孔 28 基本上为圆形， 定位销 34 和 销接收孔 28 能以适于使下处理体 20 与上处理体 30 互锁和对准的任何方式成形。此外， 应 当注意的是上处理体30可以包括用于定位的孔以及下处理体20可以包括相应的用于定位 的销。 0019 共同参考图 1A 和 1B， 上处理体 30 可以任选地包括用于与基底装卸致动器 （未示 出） 耦合的穿过上处理体 30 形成的致动器口 38。基底装卸致动器能被配置来为等离子体 处理自动地装载和卸载基底。此外， 基底装卸致动器能够在斜面蚀刻操作中被用以确保电 极和电介质环的正确对准。 然而， 应当注意的是， 本文所。

20、述的实施方式可在有或者没有致动 器口 38 的情况下使用。 0020 现在参考图 2， 示意性地描绘了用于向等离子体处理组件 10 提供枢转运动和自锁 机构的铰链组件 100。铰链组件 100 包括与铰链体 130 可枢转地接合的基部铰链构件 110。 基部铰链构件 110 包括用于与下处理体 20（图 1A 和 1B） 耦合的安装平台 112。在一个实 施方式中， 基部铰链构件110能进一步包括第一瓣构件114和第二瓣构件116。 第一瓣构件 114和第二瓣构件116中的每个能够与安装平台112连接并且自安装平台112垂直延伸 （正 Y 方向） 。在一些实施方式中， 第一瓣构件 114 和第。

21、二瓣构件 116 能自安装平台 112 沿正 Z 方向横向偏移。第一瓣构件 114 和第二瓣构件 116 能够彼此沿 X 轴横向偏移并且在第一瓣 构件 114 和第二瓣构件 116 之间限定铰链体接收开口 120。 0021 细长狭槽 118 能够穿过每个第一瓣构件 114 和第二瓣构件 116 形成并且与第一旋 转轴 150 对准。细长狭槽 118 能具有基本上圆形的横截面， 其在垂直方向 （沿 Y 轴） 是细长 的。细长狭槽 118 能够被配置来与铰链销 122 配合以允许枢转运动和垂直调整。在一个实 施方式中， 铰链销 122 能基本上为圆柱形。铰链销 122 能基本上与第一旋转轴 15。

22、0 对准插 入细长狭槽 118 中。因此， 细长狭槽 118 能限制铰链销 122 并且允许铰链销 122 在细长狭 槽 118 内垂直滑动 （沿 Y 轴） 。例如， 当抽真空和 O 形环 26 被压缩时， 细长狭槽 118 能成形以 允许铰链销 122 滑向下处理体 20。类似地， 当释放真空和 O 形环 26 膨胀时， 细长狭槽 118 能成形以允许铰链销 122 滑离下处理体 20。 0022 铰链体 130 被配置来与上处理体 30（图 1A 和 1B） 接合。在一个实施方式中， 铰链 体 130 包括用于安装铰链体 130 的第一安装凸缘 134 和第二安装凸缘 136。铰链体 13。

23、0 进 一步包括用于与自锁闩160自动接合的凸锁闩接合构件132， 如下文更详细地描述。 凸锁闩 接合构件 132 为基本上细长的构件， 其自铰链体 130 向外延伸 （在图 2 中所示的闭合位置的 正 Z 方向） 。凸锁闩接合构件 132 形成锁闩偏转表面 138 和锁定表面 140， 它们被配置以与 自锁闩 160 配合。 0023 具体而言， 当在图2所示的闭合位置时， 锁定表面140朝向基本上垂直， 即， 锁定表 面 140 具有与正 Y 方向基本上对齐的表面法线。此外， 当位于闭合位置时， 锁闩偏转表面 138 朝向基本上向外， 即， 锁闩偏转表面 138 具有与正 Y 方向基本上对。

24、齐的表面法线。值得 注意的是， 虽然凸锁闩接合构件 132 被描绘为通过对准紧固件 131（例如， 螺钉、 螺栓等） 耦 合到铰链体 130， 凸锁闩接合构件 132 能使用任何已知的紧固系统耦合到铰链体 130， 或者 说 明 书 CN 104041194 A 6 4/7 页 7 凸锁闩接合构件 132 能与铰链体 130 是一体的。 0024 凸锁闩接合构件 132 能够进一步包括一个或更多个棘爪 （detent） 142， 其将自锁 闩160暂时保持在相对于凸锁闩接合构件132的释放位置， 如下文更详细的解释。 棘爪142 能够被耦合到凸锁闩接合构件132并且延伸出锁闩偏转表面138。 。

25、在一个实施方式中， 每个 棘爪 142 能够包括偏置轴承或者能被选择性释放的任何其他偏置机构。 0025 仍然参照图2， 铰链组件100进一步包括用于自动锁定铰链组件100的与基部铰链 构件 110 可枢转地接合的自锁闩 160。具体而言， 自锁闩 160 能与基部铰链构件 110 可枢转 地接合使得自锁闩 160 围绕第二旋转轴 152 旋转。如图 2 中示意性地描绘的， 第二旋转轴 152 基本上垂直于第一旋转轴 150。 0026 自锁闩 160 被偏置以确保自动锁定。具体而言， 自锁闩 160 被偏置阻止围绕第二 旋转轴152沿一个方向的旋转。 在一个实施方式中， 自锁闩160能够使用。

26、与第二旋转轴152 一致的闩锁紧固件168可枢转地接合到基部铰链构件110的安装平台112。 闩锁紧固件168 能够可操作地将扭转构件 （例如， 弹簧） 耦合到自锁闩 160 使得自锁闩 160 被偏置阻止围绕 第二旋转轴 152 的逆时针方向旋转。值得注意的是， 自锁闩 160 能够被偏置到适合于自动 锁定的任何旋转。 0027 在一个实施方式中， 自锁闩 160 包括凹进表面 162 和倾斜的脊部 164， 它们相互配 合以限定铰链锁定腔 172。当位于闭合位置时， 倾斜的脊部 164 垂直延伸 （沿正 Y 方向） 远 离凹进表面 162。倾斜的脊部 164 能够沿着相对于自锁闩 160 。

27、的凹进表面 162 的倾斜逐渐 增加高度。具体而言， 倾斜的脊部 164 能够倾斜设置使得当倾斜的脊部 164 横向延伸 （沿负 X 方向） 时倾斜的脊部 164 进一步延伸远离凹进表面 162。然而， 应当注意的是倾斜的脊部 164 能够沿任何方向倾斜设置。 0028 自锁闩160可以进一步包括形成于邻近凹进表面162的闩锁开口槽166， 用于与凸 锁闩接合构件132的一个或更多个棘爪142临时接合。 值得注意的是， 虽然闩锁开口槽166 被描绘为延伸穿过自锁闩 160 的细长通道， 但闩锁开口槽 166 能够是形成于自锁闩中适合 于与棘爪 142 临时接合的任何特征。在一些实施方式中， 自。

28、锁闩 160 可以进一步包括位于 凹进表面 162 与闩锁开口槽 166 之间的斜面 163。相比于凹进表面 162， 斜面 163 能够以适 于向闩锁开口槽 166 提供进一步的间隙的任意角度倾斜。 0029 共同参考图1A和图2， 铰链组件100能够通过紧固件188被固定于下处理体20和 上处理体 30 来约束下处理体 20 和上处理体 30 之间的枢转运动。例如， 紧固件 188 能是适 合将铰链组件 100 耦合到下处理体 20 和上处理体 30 的任何设备， 例如 ： 螺纹紧固件、 焊接 件、 铆钉、 等等。 0030 在一种实施方式中， 基部铰链构件 110 能被固定到下处理体 2。

29、0。铰链销 122 能被 接收在基部铰链构件 110 的细长狭槽 118 内。诸如销之类的紧固件 188 能与基部铰链构 件 110 以及铰链销 122 接合。因此， 铰链销 122 能够被保持在基部铰链构件 110 的细长狭 槽 118 内， 同时允许铰链销 122 在细长狭槽 118 内移动。具体而言， 在图 2 所示的实施方式 中， 铰链销 122 的基本上与 X 轴一致的水平运动以及围绕第一旋转轴 150 的旋转运动能被 缓解。然而， 铰链销 122 的基本上与 Y 轴一致的垂直运动能被允许在细长狭槽 118 的范围 内进行。 0031 铰链体 130 能够与铰链销 122 可枢转地接。

30、合以允许相对于基部铰链构件 110 的相 说 明 书 CN 104041194 A 7 5/7 页 8 对旋转运动。 具体而言， 铰链体130能够包围并围绕铰链销122和第一旋转轴150旋转。 因 此铰链体 130 被设置使得其能被接收在基部铰链构件 110 的铰链体接收开口 120 内。具体 而言， 沿第一旋转轴 150 测量， 铰链体 130 能具有比基部铰链构件 110 的第一瓣构件 114 与 第二瓣构件 116 之间的距离小的尺寸。 0032 在一些实施方式中， 能够调整下处理体 20 与上处理体 30 之间的对准。具体而言， 铰链体 130 的与铰链销 122 接合的部分以及铰链体。

31、 130 的与上处理体 30 接合的部分能被 配置来用于相对运动。在一个实施方式中， 铰链体 130 可以由通过对准紧固件 131 耦合到 一起的两片形成。因此， 在初始组装过程中， 上处理体 30 与下处理体 20 彼此固定到一起之 前， 上处理体 30 能与铰链体 130 的部分耦合并且下处理体 20 能耦合到铰链组件 100 的其 余部分。因此， 能够在铰链体 130 完全组装之前以及由此产生的铰链组件 100 完全组装之 前对准上处理体 30 和下处理体 20。例如， 定位销 34 和销接收孔 28（图 1B） 能互锁以确保 在使用对准紧固件 131 组装铰链体 130 之前上处理体 。

32、30 与下处理体 20 之间的正确对准。 0033 再次参考图 2， 基部铰链构件 110 能包括固定螺丝 156， 用于调节对 O 形环 26（图 1B） 的压缩以将下真空室 22 初始抽气到真空压强。具体而言， 第一瓣构件 114 和第二瓣构 件 116 每个都能与固定螺丝 156 螺纹接合。固定螺丝 156 能够移动穿过第一瓣构件 114 和 第二瓣构件 116 并且进入细长狭槽 118。因此， 例如， 固定螺丝 156 能限制在细长狭槽 118 内的铰链销 122 的例如在垂直方向 （沿 Y 轴） 的移动。在一些实施方式中， 例如， 固定螺丝 156 被涂覆有螺纹锁涂层， 例如 ： 聚。

33、合物、 甲基丙烯酸酯系粘接剂， 和类似物。可替代地或附 加地， 例如， 固定螺丝 156 能被耦合到阻止旋转的设备上， 该设备如 ： 锁紧垫圈、 锁紧螺母、 安全线、 等等。值得注意的是， 虽然在图 2 中固定螺丝 156 被描绘为平头螺丝， 但固定螺丝 156 能是适于调整在细长狭槽 118 内的铰链销 122 的移动的任何紧固件。 0034 共同参考图 1A 和 1B， 基部铰链构件 110 能被固定于下处理体 20 并且与下处理体 20 的外表面 24 相接触。铰链体 130 能被固定于上处理体 30 并且与上处理体 30 的外表面 33 相接触。因此， 下处理体 20 和上处理体 30。

34、 能可枢转地接合并且能够相对于第一旋转轴 150 相对旋转运动。在一些实施方式中， 等离子体处理组件 10 的上处理体 30 能保持平衡 使得当上处理体 30 旋转到小于平衡角 的角度时， 上处理体 30 自动旋转到闭合位置 （图 1A） 。例如， 如果等离子体处理组件 10 位于如图 1A 所示的其正常操作位置， 则上处理体 30 能被推动围绕第一旋转轴 150 旋转。例如， 如果上处理体 30 旋转没有超过平衡角 并且 推动力停止， 则例如 ： 根据作用在等离子体处理组件 10 上的重力， 上处理体 30 能返回到闭 合位置 （图 1A） 。 0035 类似地， 参考图1B、 图5A和图5。

35、B， 等离子体处理组件10的上处理体30能保持平衡 使得当上处理体 30 旋转到大于平衡角 的角度时， 上处理体 30 自动旋转到锁定位置 （图 5A 和 5B） 。例如， 如果等离子体处理组件 10 位于如图 1B 所示的其正常操作位置， 上处理体 30 能被推动围绕第一旋转轴 150 旋转。例如， 如果上处理体 30 旋转超过平衡角 并且推 动力停止， 则例如根据作用在等离子体处理组件10上的重力， 上处理体30能自动转换到锁 定位置 （图 5A 和 5B） 。平衡角 可以是小于约 60（约 1.05 弧度） 的任意角度， 例如， 在 一个实施方式中小于约 45（约 0.79 弧度） 或在。

36、另一个实施方式中小于约 30（约 0.52 弧度） 。 0036 现在参考图 3A 和 3B， 铰链体 130 能相对于基部铰链构件 110 围绕第一旋转轴 150 说 明 书 CN 104041194 A 8 6/7 页 9 旋转。在一个实施方式中， 凸锁闩接合构件 132 的锁闩偏转表面 138 能被推动与在平衡角 之前的自锁闩 160 的倾斜的脊部 164 接触。因此， 在与倾斜的脊部 164 接触后， 凸锁闩接 合构件 132 能抵消施加到自锁闩 160 的任何偏置。 0037 现在参考图 4A 和 4B， 当铰链体 130 被推动超过了初始接触点 （图 3A 和 3B） 时， 铰 链。

37、体 130 相对于第一旋转轴 150 的旋转能引起自锁闩 160 围绕第二旋转轴 152 旋转。在一 个实施方式中， 随着凸锁闩接合构件132被推动超过平衡角， 锁闩偏转表面138基本上沿 着负 Z 方向沿着倾斜的脊部 164 滑动。因此， 凸锁闩接合构件 132 能够克服施加到自锁闩 160 的偏置。铰链体 130 的继续旋转能清除路径以便于凸锁闩接合构件 132 进入铰链锁定 腔 172。凸锁闩接合构件 132 旋转进入铰链锁定腔 172 之后， 凸锁闩接合构件 132 能释放自 锁闩 160 的倾斜的脊部 164。 0038 一旦被释放， 自锁闩160能将凸锁闩接合构件132约束在如图5。

38、A和5B所示的锁定 位置。具体而言， 施加到自锁闩 160 的偏置能使自锁闩 160 保持在锁定位置。当位于锁定 位置时， 自锁闩 160 的倾斜的脊部 164 与凸锁闩接合构件 132 的锁定表面 140 相配合来限 制铰链组件 100 相对于第一旋转轴 150 的旋转运动。通过锁定表面 140 与自锁闩 160 的倾 斜的脊部 164 之间的相互作用能够阻止铰链体 130 围绕第一旋转轴 150 朝着闭合位置 （图 1A） 旋转。因此， 当凸锁闩接合构件 132 的锁定表面 140 接触自锁闩 160 的倾斜的脊部 164 时， 铰链组件 100 能被限制在锁定位置。 0039 现在参考图。

39、 5A， 当位于锁定位置时， 自锁闩 160 的凹进表面 162 沿着 Y 轴偏离铰 链销 122 的中心凹进距离 182。自锁闩 160 的倾斜的脊部 164 的部分沿着 Y 轴偏离铰链销 122 的中心脊距离 184。例如， 凸锁闩接合构件 132 的部分， 例如， 相对于 Y 轴锁定表面 140 的最低部分， 当位于锁定位置时， 沿着 Y 轴偏离铰链销 122 的中心凸距离 186。在一个实施 方式中， 凹进距离 182 能大于或等于凸距离 186 并且脊距离 184 能小于凸距离 186。在一些 实施方式中， 凸锁闩接合构件 132 的锁闩偏转表面 138 能被倾斜设置。具体而言， 当。

40、位于锁 定位置时， 锁闩偏转表面 138 的外端 （最接近倾斜的脊部 164） 最接近凹进表面 162 并且随 着其移动远离倾斜的脊部 164， 锁闩偏转表面 138 逐渐移动远离凹进表面 162。 0040 因此， 当位于锁定位置时， 铰链组件100能被阻止返回到闭合位置。 现在参考图6A 和 6B， 其描绘了释放位置， 自锁闩 160 能够在与施加到自锁闩 160 的偏置相反的释放方向 170 上旋转。由于自锁闩 160 在释放方向 170 上旋转， 凸锁闩接合构件 132 的棘爪 142 能 沿着自锁闩 160 朝向闩锁开口槽 166 滑动。例如， 棘爪 142 能沿着凹进表面 162 。

41、以及斜面 163 滑动。通过施加足够量的力来克服棘爪 142 的偏差能将棘爪 142 推动进入闩锁开口槽 166， 即棘爪142缩回。 一旦棘爪142被闩锁开口槽166接收， 则棘爪142能返回到它们的偏 离位置， 即棘爪 142 延伸。因此， 棘爪 142 能接合闩锁开口槽 166 并且将自锁闩 160 保持在 释放位置。一旦位于释放位置， 铰链组件 100 能被旋转到闭合位置。具体而言， 当棘爪 142 沿着闩锁开口槽 166 滑动时， 自锁闩 160 的倾斜的脊部 164 能被保持不接触凸锁闩接合构 件 132 的锁定表面 140。而且， 一旦铰链体 130 从自锁闩 160 释放， 棘。

42、爪 142 能脱离闩锁开 口槽 166 并且允许自锁闩 160 根据所施加的偏置围绕第二旋转轴 152 旋转。因此， 当等离 子体处理组件 10 返回到闭合位置时， 自锁闩 160 能自动复位。 0041 现在应当理解的是， 本文所描述的实施方式涉及具有能自动锁定在开放位置的上 处理体的等离子体处理组件。具体而言， 自锁闩能被偏置以确保铰链组件能自动锁定在锁 说 明 书 CN 104041194 A 9 7/7 页 10 定位置 （例如， 打开用于维护） ， 并且当上处理体转变到闭合位置时确保铰链组件的自锁闩 的自动复位。此外， 铰链组件能被配置为包括能在等离子体处理组件的初始制造过程中被 设。

43、置的对准特征。 0042 应当注意的是， 本文可能使用术语 “基本上” 和 “约” 来表示不确定性的固有程度， 其可能归因于任何定量比较、 值、 测量、 或其它表示。本文也使用这些术语来表示相对于所 描述的参考值， 定量表示可以变化而不会导致所讨论的主题的基本功能发生变化的程度。 0043 此外， 应当注意的是， 诸如上、 下、 垂直、 水平等参照方位在本文中是参考 XYZ 坐标 系统而言的。为清楚起见提供参照方位， 并不起限制作用。具体而言， 应当注意提供的这种 参照方位参考图 1A-6B 所示的 XYZ 坐标系统。因此， 通过对相对于所述结构提供的坐标系 统做相应的转换可以逆转方向或者朝向。

44、任何方向从而延伸本文所述的实施方式。 0044 尽管本文图示和描述了具体的实施方式， 但应当理解的是， 在不背离所要求保护 的主题和范围的情况下可以做出各种其他变化和修改。此外， 尽管本文已经描述了所要求 的保护的主题的各个方面， 但这些方面不需结合使用。 因此， 意图是所附权利要求覆盖所有 在所要求保护的主题的范围之内的这些变化和修改。 0045 值得注意的是， 一个或多个以下的权利要求使用术语 “其中” 作为过渡语。用于限 定本发明的目的而言， 应当注意的是权利要求中引入的该术语作为开放式过渡语， 其被用 来引入对结构的系列特征的详述并且应该以与解释更常用的开放式前序术语 “包括” 的方 式类似的方式解释。 说 明 书 CN 104041194 A 10 1/6 页 11 图 1A 图 1B 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 11 2/6 页 12 图 2 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 12 3/6 页 13 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 13 4/6 页 14 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 14 5/6 页 15 图 5A 图 5B 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 15 6/6 页 16 图 6A 图 6B 说 明 书 附 图 CN 104041194 A 16 。