一种彩膜基板及其制作方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 103091905 A (43)申请公布日 2013.05.08 CN 103091905 A *CN103091905A* (21)申请号 201110337930.2 (22)申请日 2011.10.31 G02F 1/1339(2006.01) G02F 1/1335(2006.01) G02F 1/1333(2006.01) G02B 5/20(2006.01) (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路 10 号 申请人 成都京东方光电科技有限公司 (72)发明人 莫再隆 石天雷 朴承翊 (74)专利代理机构 北京路。

2、浩知识产权代理有限 公司 11002 代理人 韩国胜 王莹 (54) 发明名称 一种彩膜基板及其制作方法 (57) 摘要 本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器技术领 域， 特别涉及一种彩膜基板及其制作方法。 该彩膜 基板包括基板、 在所述基板上形成的黑矩阵、 位于 基板上方的彩色像素层， 所述彩色像素层包括第 一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩色像素层 和隔垫物， 所述隔垫物包括两个或两个以上的隔 垫层， 每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料 相同。 本发明提供的彩膜基板及其制作方法， 所述 隔垫物包括两个或两个以上的隔垫层， 每个隔垫 层与一种所述彩色像素层的材料相同， 可与彩色 像素层同时。

3、形成， 因而可最大程度地减少使用掩 模版的次数， 具有制作工艺简单， 制作成本较低等 优点。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (10)申请公布号 CN 103091905 A CN 103091905 A *CN103091905A* 1/1 页 2 1. 一种彩膜基板， 包括 ： 基板、 在所述基板上形成的黑矩阵、 位于基板上方的彩色像素 层， 所述彩色像素层包括第一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩色像素层和隔垫物， 其 特征在于， 所述隔垫物包括。

4、两个或两个以上的隔垫层， 每个隔垫层与一种所述彩色像素层 的材料相同。 2. 如权利要求 1 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述隔垫物设置在所述黑矩阵的上方。 3. 如权利要求 1 所述的彩膜基板， 其特征在于， 与黑矩阵相接触的隔垫层与相邻的彩 色像素层相连接。 4. 如权利要求 2 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述隔垫物位于黑矩阵的中部。 5. 如权利要求 4 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述隔垫物厚度为 2.0 4.0m。 6. 如权利要求 1 所述的彩膜基板， 其特征在于， 还包括保护层， 覆盖于第一彩色像素 层、 第二彩色像素层、 第三彩色像素层和隔垫物上。 7. 如权利要。

5、求 1 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述保护层的厚度为 2.0-3.0m。 8. 一种如权利要求 1-7 所述的彩膜基板的制作方法， 其特征在于， 包括如下步骤 ： 步骤 S1、 在基板上形成黑矩阵图形 ； 步骤 S2、 在完成步骤 S1 的基板上形成第一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩色像 素层和隔垫物的隔垫层， 而且隔垫物的各隔垫层是与相应颜色的彩色像素层同时形成。 9. 如权利要求 8 所述的彩膜基板的制作方法， 其特征在于， 在完成步骤 S2 的基板上涂 布保护层， 并对其进行固化。 权 利 要 求 书 CN 103091905 A 2 1/3 页 3 一种彩膜基板及其制作方。

6、法 技术领域 0001 本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器技术领域， 特别涉及一种彩膜基板及其制作方 法。 背景技术 0002 TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display， 薄膜晶体管液晶显 示器 ) 是目前平面显示器的主流， 其具有功耗低、 成本相对较低以及基本无辐射等优点。 TFT-LCD 面板由彩膜基板和阵列基板对盒而成， 并且通过隔垫物来维持液晶盒的厚度。 0003 如图1所示， 为现有技术彩膜基板结构的侧视图。 该彩膜基板包括玻璃基板10、 黑 矩阵 11、 像素层、 光刻隔垫物 15 和保护层 16。现有的彩膜基板中的光刻隔垫。

7、物 15 的制作 方法通常采用在玻璃基板10上首先形成黑矩阵11， 然后在形成黑矩阵11的玻璃基板10上 依次形成红色像素层 12、 绿色像素层 13、 蓝色像素层 14 和保护层 16， 待完成上述工艺步骤 之后， 需要额外增加一道掩模版重新进行清洗、 涂胶、 固化、 光刻、 显影等一系列工艺流程才 形成光刻隔垫物 15， 并且该额外形成的光刻隔垫物只有一层， 其层数和弹性参数比较固定。 由于现有技术中的隔垫物需要额外使用一道掩模版对其进行相应的工艺流程才能形成， 导 致隔垫物的制作流程方法比较复杂， 并且增加了液晶显示器的生产成本。 发明内容 0004 ( 一 ) 要解决的技术问题 000。

8、5 本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及其制作方法， 以克服需要额外增 加一道掩模版单独进行工艺制作而带来的制作工艺复杂、 制作成本高的问题。 0006 ( 二 ) 技术方案 0007 为了解决上述问题， 本发明一方面提供一种彩膜基板， 包括 ： 基板、 在所述基板上 形成的黑矩阵、 位于基板上方的彩色像素层， 所述彩色像素层包括第一彩色像素层、 第二彩 色像素层、 第三彩色像素层和隔垫物， 其特征在于， 所述隔垫物包括两个或两个以上的隔垫 层， 每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同。 0008 进一步地， 所述隔垫物设置在所述黑矩阵的上方。 0009 进一步地， 与黑矩阵相接触的隔。

9、垫层与相邻的彩色像素层相连接。 0010 进一步地， 所述隔垫物位于黑矩阵的中部。 0011 进一步地， 所述隔垫物厚度为 2.0 4.0m。 0012 进一步地， 还包括保护层， 覆盖于第一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩色像 素层和隔垫物上。 0013 进一步地， 所述保护层的厚度为 2.0-3.0m。 0014 另一方面， 本发明还提供一种上述彩膜基板的制作方法， 包括如下步骤 ： 0015 步骤 S1、 在基板上形成黑矩阵图形 ； 0016 步骤 S2、 在完成步骤 S1 的基板上形成第一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩 说 明 书 CN 103091905 A 3 2/3。

10、 页 4 色像素层和隔垫物的隔垫层， 而且隔垫物的各隔垫层是与相应颜色的彩色像素层同时形 成。 0017 进一步地， 在完成步骤 S2 的基板上涂布保护层， 并对其进行固化。 0018 ( 三 ) 有益效果 0019 本发明提供的彩膜基板及其制作方法， 所述隔垫物包括两个或两个以上的隔垫 层， 每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同， 可与彩色像素层同时形成， 因而可最大 程度地减少使用掩模版的次数， 具有制作工艺简单， 制作成本较低等优点。 附图说明 0020 图 1 为现有技术彩膜基板结构侧视图 ； 0021 图 2 为本发明实施例彩膜基板侧视图 ； 0022 图 3 为本发明实施例彩膜。

11、基板俯视图 ； 0023 图 4 为本发明实施例彩膜基板制作方法的流程图。 0024 其中 ： 10、 玻璃基板 ； 11、 黑矩阵 ； 12、 红色像素层 ； 13、 绿色像素层 ； 14、 蓝色像素 层 ； 15、 光刻隔垫物 ； 16、 保护层 ； 17、 红色像素隔垫层 ； 18、 绿色像素隔垫层 ； 19、 蓝色像素隔 垫层。 具体实施方式 0025 下面结合附图和实施例， 对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施 例用于说明本发明， 但不用来限制本发明的范围。 0026 如图 2-3 所示， 本发明实施例提供的彩膜基板， 包括 ： 玻璃基板 10、 在玻璃基板 10 上形成。

12、的黑矩阵 11 和位于基板上方的彩色像素层， 该彩色像素层包括红色像素层 12、 绿色 像素层 13 和蓝色像素层 14， 还包括， 保护层 16 和隔垫物， 该保护层位于彩膜基板的顶层 ； 隔垫物位于黑矩阵 11 和保护层 16 之间。其中， 隔垫物包括两个或两个以上的隔垫层， 每个 隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同。 0027 其中， 通过形成红色像素层 12 的工艺过程可形成红色像素隔垫层 17， 通过形成绿 色像素层 13 的工艺过程可形成绿色像素隔垫层 18， 通过形成蓝色像素层 14 的工艺过程可 形成蓝色像素隔垫层19， 该隔垫层依次纵向排列在黑矩阵11的上方。 通过隔垫层不。

13、同的层 数可实现隔垫物不同的厚度， 并且可以通过调整各层隔垫物的厚度来获得较好的隔垫物支 撑特性和弹性恢复特性。具体隔垫物的层数可根据实际隔垫物的厚度要求而定。通常各彩 色像素层和单层隔垫物的厚度为 1.0-3.0m。 0028 保护层 16 由树脂材料制成， 其覆盖在形成上述各部分后的基板上， 起到保护黑矩 阵 11、 红色像素层 12、 绿色像素层 13、 蓝色像素层 14、 红色像素隔垫层 17、 绿色像素隔垫层 18 和蓝色像素隔垫层 19 的作用， 并且可以减小彩色像素层的厚度差。该保护层 16 的厚度 为 2.0-3.0m。 0029 为了较好的获得隔垫物的支撑特性， 隔垫物位于黑。

14、矩阵的中部。设置位于黑矩阵 11 第一层的隔垫物与相邻彩色像素层相连接， 进一步来增强隔垫物的支撑能力和稳定性。 设置该隔垫物的俯视截面结构为多边形或圆形。 0030 为了较好的获得隔垫物的弹性恢复特性， 每层隔垫物的厚度大于黑矩阵的厚度， 说 明 书 CN 103091905 A 4 3/3 页 5 较优地， 多层隔垫物的厚度应为黑矩阵厚度的 2-4 倍， 并可适当调整隔垫物单位英寸内的 密度。设置该隔垫物的侧视截面结构为近似梯形。 0031 如图 4 所示， 本发明彩膜基板的工艺方法， 包括如下步骤 ： 0032 步骤 S1、 在基板上形成黑矩阵图形 ； 0033 具体包括 ： 通过涂布光。

15、刻胶、 物理溅射或化学沉积等工艺方法在玻璃基板上形成 黑矩阵层， 通过曝光、 显影和刻蚀工艺在具有黑矩阵层的玻璃基板上形成金属或树脂黑矩 阵。 0034 步骤 S2、 在完成步骤 S1 的基板上形成第一彩色像素层、 第二彩色像素层、 第三彩 色像素层和隔垫物的隔垫层， 而且隔垫物的各隔垫层是与相应颜色的彩色像素层同时形 成。 具体包括 ： 在完成步骤S1的基板上涂布红色像素光刻胶， 通过曝光、 显影工艺后形成红 色像素图形， 同时将位于黑矩阵图形上方的红色像素图形通过半灰阶曝光技术形成红色像 素隔垫层， 具体为， 通过控制半灰阶掩模板的光透光量的不同， 调整半曝光区的光刻胶膜层 的厚度。 可采。

16、用上述相同的方法依次形成绿色像素图形和绿色像素隔垫层以及蓝色像素图 形和蓝色像素隔垫层。隔垫物为红色像素隔垫层、 绿色像素隔垫层和蓝色像素隔垫层中的 两层或两层以上， 其均罗列于黑矩阵的上方。具体隔垫物的层数可根据实际隔垫物的厚度 要求而定。通常各彩色像素图形和单层隔垫物的厚度为 1.0-3.0m。 0035 步骤S3、 在完成步骤S2的基板上涂布保护层， 并对其进行固化。 其中， 保护层通常 采用树脂材料制成， 其厚度为 2.0-3.0m。 0036 本发明提供的彩膜基板及其制作方法， 所述隔垫物包括两个或两个以上的隔垫 层， 每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同， 可与彩色像素层同时形成， 因而可最大 程度地减少使用掩模版的次数， 具有制作工艺简单， 制作成本较低等优点。 0037 以上实施方式仅用于说明本发明， 而并非对本发明的限制， 有关技术领域的普通 技术人员， 在不脱离本发明的精神和范围的情况下， 还可以做出各种变化和变型， 因此所有 等同的技术方案也属于本发明的范畴， 本发明的专利保护范围应由权利要求限定。 说 明 书 CN 103091905 A 5 1/2 页 6 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103091905 A 6 2/2 页 7 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 103091905 A 7 。