喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法.pdf

《喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法.pdf（17页完整版）》请在专利查询网上搜索。

1、(10)申请公布号 CN 103084290 A (43)申请公布日 2013.05.08 CN 103084290 A *CN103084290A* (21)申请号 201210418788.9 (22)申请日 2012.10.26 10-2011-0111869 2011.10.31 KR 10-2011-0129094 2011.12.05 KR B05B 13/02(2006.01) B05B 13/04(2006.01) H01L 21/67(2006.01) H01L 21/02(2006.01) (71)申请人 细美事有限公司 地址 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛 枾里 278。

2、 (72)发明人 李俊镐 吴昌石 (74)专利代理机构 北京中博世达专利商标代理 有限公司 11274 代理人 申健 (54) 发明名称 喷嘴单元、 基板处理装置和基板处理方法 (57) 摘要 本发明提供了一种喷嘴单元、 基板处理装置 和基板处理方法， 以节省光刻胶的消耗量。 本发明 的基板处理装置包括 ： 板， 支承基板 ； 喷嘴单元， 向被所述板支承的所述基板涂敷药液 ； 驱动单 元， 使所述基板或所述喷嘴单元移动， 以使置于所 述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改 变 ； 所述喷嘴单元包括 ： 第一喷出部件， 沿第一方 向形成该第一喷出部件的横方向， 该第一喷出部 件向所述基板喷出。

3、第一药液 ； 第二喷出部件， 沿 第一方向形成该第二喷出部件的横方向， 该第一 喷出部件向所述基板喷出第二药液。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书 3 页 说明书 6 页 附图 7 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书6页 附图7页 (10)申请公布号 CN 103084290 A CN 103084290 A *CN103084290A* 1/3 页 2 1. 一种基板处理装置， 其特征在于， 包括 ： 板， 支承基板 ； 喷嘴单元， 向被所述板支承的所述基板涂敷药液 ； 驱动单元， 使所述基板或所述喷嘴单元移动， 以使。

4、置于所述板上的基板与所述喷嘴单 元之间的相对位置改变 ； 所述喷嘴单元包括 ： 第一喷出部件， 沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向， 该第一喷出部件向所述基 板喷出第一药液 ； 第二喷出部件， 沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向， 该第二喷出部件向所述基 板喷出第二药液。 2. 根据权利要求 1 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述喷嘴单元还包括 ： 主体， 沿所述第一方向形成该主体的横方向 ； 所述第一喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第一流道 ； 第二喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第二流道。 3. 根据权利要求 2 所述的基板处理装置， 其特征在于， 在所述主体中还形成吸入。

5、从所述基板产生的烟气的排气流道。 4. 根据权利要求 3 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述排气流道形成于所述第一流道与所述第二流道之间。 5. 根据权利要求 4 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述第一流道和第二流道以下 部向所述排气流道一侧倾斜的方式形成。 6. 根据权利要求 2 所述的基板处理装置， 其特征在于， 还包括 ： 抽引部件， 向从所述第一喷出部件喷出的所述第一药液提供吸入压力。 7. 根据权利要求 6 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述抽引部件以在所述主体中包含其流道的方式形成并提供， 所述第一流道位于所述 流道和所述第二流道之间。 8. 根据权利要求 2 所。

6、述的基板处理装置， 其特征在于， 所述第一流道和所述第二流道沿与所述第一方向相垂直的第二方向分离。 9. 根据权利要求 1 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述驱动单元包括 ： 支承台， 所述支承台与所述喷嘴单元结合 ； 垂直框架， 设置于所述支承台的两侧来支承所述支承台 ； 导轨， 以所述垂直框架能够向与所述第一方向垂直的第二方向移动的方式支承该垂直 框架 ； 所述基板处理装置还包括 ： 结合部件， 所述结合部件使所述喷嘴单元以可拆装的方式与所述支承台结合。 10. 根据权利要求 9 所述的基板处理装置， 其特征在于， 还包括 ： 喷嘴单元待机部， 从所述支承台分离的喷嘴单元置于该喷嘴单。

7、元待机部， 所述喷嘴单 元待机部配置于所述喷嘴单元移动的路径上。 11. 根据权利要求 9 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述结合部件包括 ： 吸入部， 形成于所述支承台的下表面， 提供吸入压力。 权 利 要 求 书 CN 103084290 A 2 2/3 页 3 12. 根据权利要求 11 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述结合部件还包括 ： 结合部， 设置于与所述支承台相接的所述喷嘴单元的外表面， 在 所述喷嘴单元与所述支承台结合时， 所述结合部插入所述吸入部。 13. 根据权利要求 1 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述喷嘴单元包括 ： 第一主体， 沿所述第一方向形成。

8、该第一主体的横方向 ； 第二主体， 沿所述第一方向形成该第二主体的横方向 ； 所述第一喷出部件被提供作为形成于所述第一主体内的第一流道 ； 所述第二喷出部件被提供作为形成于所述第二主体内的第二流道。 14. 根据权利要求 13 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述喷嘴单元在所述第一主体或所述第二主体中还形成排气流道， 该排气流道吸入在 所述基板产生的烟气。 15. 根据权利要求 1 所述的基板处理装置， 其特征在于， 在所述板上形成气体供应孔， 该气体供应孔被设置为喷出气体并使所述基板在漂浮状 态下被所述板所支承。 16. 根据权利要求 1 所述的基板处理装置， 其特征在于， 所述第一药液。

9、为有机溶剂， 所 述第二药液为光刻胶。 17. 一种基板处理方法， 其特征在于， 在利用权利要求 1 或权利要求 2 的基板处理装置 处理基板的方法中， 改变所述基板和所述喷嘴单元之间的相对位置， 并通过第一喷出部件向所述基板喷出 所述第一药液， 所述第二喷出部件向喷出的所述第一药液的表面上喷出所述第二药液。 18. 根据权利要求 17 所述的基板处理方法， 其特征在于， 在所述第一喷出部件开始工作之后， 所述第二喷出部件开始动作。 19. 根据权利要求 17 所述的基板处理方法， 其特征在于， 在所述主体中还形成排气流道， 该排气流道吸入从所述基板产生的烟气， 使所述第一喷出部件和所述排气流。

10、道共同工作， 喷出所述第一药液并吸入从所述基板 产生的烟气。 20. 根据权利要求 17 所述的基板处理方法， 其特征在于， 在所述板上形成气体供应孔， 该气体供应孔被设置为喷出气体并使所述基板在漂浮状 态下被所述板支承， 通过所述气体供应孔喷出所述气体， 在所述基板漂浮的状态下， 向所述基板喷出所述 第一药液和第二药液。 21. 一种喷嘴单元， 其特征在于， 包括 ： 主体， 沿第一方向提供该主体的横方向， 该主体形成有 ： 第一流道， 向基板喷出第一药液， 沿所述第一方向形成该第一流道的横方向 ； 第二流道， 向基板喷出第二药液， 沿所述第一方向形成该第二流道的横方向 ； 所述第一流道和所。

11、述第二流道被形成为沿与所述第一方向垂直的第二方向相隔离。 22. 根据权利要求 21 所述的喷嘴单元， 其特征在于， 在所述主体中还形成排气流道， 该排气流道吸入从所述基板产生的烟气。 23. 根据权利要求 22 所述的喷嘴单元， 其特征在于， 权 利 要 求 书 CN 103084290 A 3 3/3 页 4 所述排气流道形成于所述第一流道和所述第二流道之间。 24. 根据权利要求 23 所述的喷嘴单元， 其特征在于， 所述第一流道和所述第二流道以 下部向所述排气流道一侧倾斜的方式形成。 25. 根据权利要求 21 所述的喷嘴单元， 其特征在于， 还包括 ： 抽引部件， 向从所述第一流道喷。

12、出的所述第一药液提供吸入压力。 26. 根据权利要求 25 所述的喷嘴单元， 其特征在于， 所述抽引部件被配置为 ： 其流道位于所述主体， 所述第一流道位于所述流道和所述第 二流道之间。 权 利 要 求 书 CN 103084290 A 4 1/6 页 5 喷嘴单元、 基板处理装置和基板处理方法 技术领域 0001 本发明涉及向基板涂敷药液的基板处理装置， 更详细地， 涉及向基板喷出多种的 药液的喷嘴单元和具备该喷嘴单元的基板处理装置。 背景技术 0002 为了制造半导体元件或液晶显示器， 实施如下多种的工序 ： 向基板上供应药液的 光刻、 刻蚀、 离子注入蒸镀和洗净。这样的工序中， 光刻工序。

13、使基板上形成所需的图案。 0003 光刻胶工序依次实行下述工序 ： 涂敷工序， 向基板上涂敷如光刻胶这样的药液 ； 曝光工序， 在涂敷的感光膜上形成特定的图案 ； 以及显影工序， 在曝光的感光膜上去除不必 要的区域。 0004 其中， 一般而言， 基板向一个方向移动， 由固定的喷嘴被供应药液。 0005 在这之中， 在基板会被移动的涂敷工序中， 支承部件向基板的底面喷射气体， 使该 基板在其漂浮于空中的状态下移动。 但是， 基板随气体的振荡而产生振动， 由于气体的温度 在基板的区域之间产生温差。 0006 在先技术文献 0007 专利文献 1 ： 日本国特许公开第 2010-0221186 号。

14、公报。 发明内容 0008 本发明用于提供一种节省光刻胶的消耗量的喷嘴单元、 基板处理装置和基板处理 方法。 0009 另外， 本发明用于提供一种设置成在基板上均匀地涂敷光刻胶的喷嘴单元、 基板 处理装置和基板处理方法。 0010 基于本发明的实施方式的基板处理装置， 包括 ： 板， 支承基板 ； 喷嘴单元， 向被所 述板支承的所述基板涂敷药液 ； 驱动单元， 使所述基板或所述喷嘴单元移动， 以使置于所述 板上的基板和所述喷嘴单元之间的相对位置改变 ； 所述喷嘴单元包括 ： 第一喷出部件， 沿 第一方向形成该第一喷出部件的横方向， 该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液 ； 第二 喷出部件， 沿。

15、第一方向形成该第二喷出部件的横方向， 该第二喷出部件向所述基板喷出第 二药液。 0011 另外， 根据本发明的实施方式的基板处理方法， 利用基板处理装置处理基板， 该基 板处理装置， 包括 ： 板， 支承基板 ； 喷嘴单元， 向被所述板支承的所述基板涂敷药液 ； 驱动单 元， 使所述基板或所述喷嘴单元移动， 以使置于所述板上的基板和所述喷嘴单元之间的相 对位置改变 ； 所述喷嘴单元， 包括 ： 第一喷出部件， 沿第一方向形成该第一喷出部件的横方 向， 该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液 ； 第二喷出部件， 沿第一方向形成该第二喷出 部件的横方向， 该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。 在所。

16、述方法中， 改变所述基板和 所述喷嘴单元之间的相对位置， 从所述第一喷出部件向所述基板喷出所述第一药液且第二 喷出部件向喷出的所述第一药液的表面上喷出所述第二药液。 说 明 书 CN 103084290 A 5 2/6 页 6 0012 另外， 根据本发明的实施方式的喷嘴单元， 包括 ： 主体， 沿第一方向提供该主体的 横方向， 该主体形成有 ： 第一流道， 向基板喷出第一药液， 沿所述第一方向形成该第一流道 的横方向 ； 第二流道， 向基板喷出第二药液， 沿所述第一方向形成该第二流道的横方向 ； 所 述第一流道和所述第二流道被形成为沿与所述第一方向垂直的第二方向相隔离。 0013 发明效果 。

17、0014 根据本发明， 能够节省在基板上形成的光刻胶膜所消耗的光刻胶量。 0015 另外， 根据本发明， 在基板上能够均匀地形成光刻胶膜。 0016 另外， 根据本发明， 当在基板上形成多种种类的光刻胶膜时， 能够缩短所需的时 间。 附图说明 0017 图 1 为表示基于本发明一实施方式的基板处理装置的图 ； 0018 图 2 为表示结合支承台的喷嘴单元的截面的图 ； 0019 图 3 为表示喷嘴单元向基板涂敷药液的过程的图 ； 0020 图 4 为表示通过第一喷出部件向基板喷出第一药液的状态的图 ； 0021 图 5 为表示另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图 ； 0022 图 6 为表示另外。

18、的实施方式的喷嘴单元的截面的图 ； 0023 图 7 为表示另一实施方式的喷嘴单元结合支承台的形态的截面图 ； 0024 图 8 为表示另一实施方式的喷嘴单元结合支承台的形态的截面图 ； 0025 图 9 为表示另一实施方式的喷嘴单元的截面图 ； 0026 图 10 为表示另一实施方式的喷嘴单元的截面图 ； 0027 图 11 为表示另一实施方式的结合部件的形态的图。 0028 符号说明 0029 10板 0030 20基板移送部件 0031 30喷嘴单元 0032 40喷嘴移送部件 0033 41支承台 0034 50喷嘴单元待机部 具体实施方式 0035 下面， 参照附图的图 1 至图 5。

19、 详细说明本发明的实施方式。本发明的实施方式能 够变形为多种方式， 不可解释为本发明的范围被以下实施方式所限定。本实施方式是为了 向本领域中具有平均知识的从业者更完整地说明本发明而提供的。因此， 图中要件的形状 为了强调更明确的说明而有所夸张。 0036 图 1 为基于本发明的一实施方式的基板 s 处理装置的示意图。参照图 1， 基板 s 处 理装置包括 ： 板 10、 喷嘴单元 30、 基板移送部件 20、 喷嘴移送部件 40 以及喷嘴单元待机部 50。 0037 板 10 能够具有设定于第一方向 101 的宽度， 并具有从上部看时在与第一方向 101 说 明 书 CN 103084290 。

20、A 6 3/6 页 7 垂直的第二方向 102 上延长的形状。基板 s 位于板 10 上之后， 能够向第二方向 102 移动。 0038 在板 10 上形成气体供应孔 11。气体供应孔 11 通过气体供应线 （未图示） 连结气 体供应部 （未图示） 。从气体供应部所供应的气体通过气体供应孔 11 喷射。从气体供应孔 11 喷射的气体使位于板 10 上的基板 s 浮起。 0039 在板 10 的第一方向 101 的两侧面设置基板移送部件 20。基板移送部件 20 包括基 板移送用轨道 21 和夹持部件 22。 0040 基板移送用轨道 21 在板 10 的两侧面沿第二方向 102 延长而形成。夹。

21、持部件 22 位于各基板移送用轨道 21 上。夹持部件 22 被设置为可以沿基板移送用轨道 21 向第二方 向 102 移动。基板 s 在通过从气体供应孔 11 喷射的气体而浮起的状态下被夹持部件 22 支 承。夹持部件 22 若向第二方向 102 移动， 则基板 s 向第二方向 102 被移送。 0041 喷嘴单元 30 与喷嘴移送部件 40 结合， 并被设置为在板 10 上， 在与第一方向 101 及第二方向 102 垂直的第三方向 103 上与板 10 分离。喷嘴单元 30 向基板 s 喷出第一药液 和第二药液。 0042 喷嘴移送部件 40 包括支承台 41、 垂直框架 42 以及导轨。

22、 43。 0043 支承台 41 形成为在第一方向 101 上较长地延长的棒摸样。喷嘴单元 30 至少一个 面与支承台 41 结合， 并被设置为从板 10 向第三方向 103 隔离。另外， 通过以下说明的结合 部件 60， 喷嘴单元 30 以可拆装的方式与支承台 41 结合。 0044 支承台 41 的第一方向 101 的端部连结垂直框架 42。垂直框架 42 向第三方向 103 的下方延长并形成。垂直框架 42 可与支承台 41 一体形成， 或者分别形成后再与支承台 41 连结。 0045 垂直框架 42 位于导轨 43 上。导轨 43 在第一方向 101 上形成于基板移送用轨道 21 的外。

23、侧， 并向第二方向 102 延长。垂直框架 42 能够沿导轨 43 向第二方向 102 移动。 0046 喷嘴单元待机部 50 在导轨 43 的内侧具有设置于第二方向 102 的宽度， 并设置为 在第一方向101上延长的形状。 喷嘴单元待机部50配置在移动喷嘴单元30的路径上。 即， 垂直框架 42 沿导轨 43 移动， 使喷嘴单元 30 能够位于喷嘴单元待机部 50 的上方。 0047 当喷嘴单元待机部 50 位于板 10 的上方时， 喷嘴单元待机部 50 被设置为从板 10 在第 3 方向上分离。因此， 位于板 10 上的基板 s 能够在板 10 与喷嘴单元待机部 50 之间移 动。 00。

24、48 在喷嘴单元待机部 50 处能够使多个喷嘴单元 30 位于该处。另外， 在喷嘴单元待 机部 50 处能够具备未与支承台 41 结合的喷嘴单元 30。因此， 在设置使得与支承台 41 结合 着的喷嘴单元 30 分离并位于喷嘴单元待机部 50 之后， 能够设置以使位于喷嘴单元待机部 50 处的其他的喷嘴单元 30 与支承台 41 结合， 从而实现喷嘴单元 30 的更换。因此， 能够根 据从喷嘴单元 30 喷出的药液的种类， 更换并使用与支承台 41 结合的喷嘴单元 30。 0049 图 2 为表示与支承台结合着的喷嘴单元的截面的图。 0050 参照图1和图2， 喷嘴单元30包括 ： 第一喷出部。

25、件、 第二喷出部件、 抽引部件340以 及排气流道 330。 0051 喷嘴单元 30 可以具有缝隙状延长的主体 300。当喷嘴单元 30 与支承台 41 结合 时， 主体300的延长方向变为第一方向101。 在主体300上形成作为第一喷出部件提供的第 一流道 310 以及作为第二喷出部件提供的第二流道 320。第一流道 310 和第二流道 320 沿 说 明 书 CN 103084290 A 7 4/6 页 8 第一方向 101 形成。另外， 第一流道 310 和第二流道 320 以沿第二方向 102 隔离的方式形 成。 0052 第一流道 310 通过第一连结管 315 与第一药液供应部 。

26、317 连结， 第二流道 320 通 过第二连结管 325 与第二药液供应部 327 连结。从第一药液供应部 317 和第二药液供应部 327供应的药液可为不同种类的药液。 作为一个例子， 从第一药液供应部317供应的药液可 为有机溶剂， 从第二药液供应部 327 供应的药液可为感光液。 0053 排气流道 330 形成于第一流道 310 和第二流道 320 之间。排气流道 330 通过排气 连结管 335 与减压部件连结。作为一个例子， 减压部件 371 可通过泵形式提供。如果减压 部件 371 工作， 则在基板 s 上产生的烟气在被吸入排气流道 330 之后， 通过减压部件 371 排 出。

27、。 0054 抽引部件 340 可以附着于主体 300 的一个侧面或者作为流道形成于主体 300 中。 第一流道 310 位于抽引部件 340 和第二流道 320 之间。另外， 第一流道 310 位于抽引部件 340 和排气流道 330 之间。抽引部件 340 与减压部件 372 连结。如果减压部件 372 工作， 则 抽引部件 340 对从第一流道 310 喷出的药液提供吸入压力。因此， 第一药液一边向抽引部 件 340 这方被吸引一边被喷出。 0055 第一流道 310 和第二流道 320 以向排气流道 330 这方倾斜的方式形成。因此， 第 一流道 310 和第二流道 320 沿第二方向。

28、 102 隔离的距离在主体 300 的下部变窄， 在向基板 s 涂敷第一药液之后， 减少涂敷第二药液所需的时间。 0056 在支承台 41 上具有接合部件 60。接合部件 60 可以包括吸入部 61。吸入部 61 形 成于支承台 41 的下面。吸入部 61 可以包括与减压部件 373 连结的负压部 610。若减压部 件 373 工作而吸入负压部 610 周围的气体， 则在负压部 610 处产生负压， 使以与负压部 610 邻接的方式设置的喷嘴单元 30 与支承台 41 接合。另外， 若减压部件 373 停止， 则喷嘴单元 30 从支承台 41 分离。 0057 结合部件 60 可以进一步地包括。

29、结合部 630。结合部 630 设置于与支承台 41 相接 的喷嘴单元30的外表面。 另外， 吸入部61可以包括插入部620和负压部610， 该插入部620 与结合部 630 的形状相对应。因此， 若减压部件 373 工作， 则结合部 630 通过负压而向插入 部 620 插入。另外， 负压部 610 可以实施以使其起到插入部 620 的作用， 从而负压部 610 可 以与插入部 620 可以一体形成。 0058 图 3 为表示喷嘴单元向基板涂敷药液的过程的图。 0059 参照图3， 基板s和喷嘴单元30的相对位置沿第二方向102变化， 同时向基板s涂 敷药液。在基板 s 被夹持部件 22 支。

30、承之后， 夹持部件 22 沿基板移送用轨道 21 移动， 同时 能够改变基板 s 和喷嘴单元 30 之间的相对位置。另外， 垂直框架 42 沿导轨 43 移动， 同时 能够改变基板 s 与喷嘴单元 30 之间的相对位置。即， 通过基板移送部件 20 或者喷嘴移送 部件 40 改变基板 s 和喷嘴单元 30 之间的相对位置。因此， 将基板移送部件 20 和喷嘴移送 部件 40 称为驱动单元。 0060 以下， 举例说明基板 s 移动的情况。但是， 可以喷嘴单元 30 移动或喷嘴单元 30 和 基板 s 移动， 来同时向基板 s 涂敷药液。根据一个例子， 第一药液 318 为有机溶剂， 第二药 液。

31、 328 感光液。有机溶剂可为稀释剂 （Thinner） ， 感光液可为光刻胶。 0061 从气体供应孔 11 喷出气体， 在基板 s 漂浮的状态下夹持部件 22 沿基板移送用轨 说 明 书 CN 103084290 A 8 5/6 页 9 道 21 向第二方向 102 移动。此时， 基板 s 在第一喷出部件处向第二喷出部件的一方移动。 0062 喷嘴单元 30 在第一喷出部件开始工作后， 控制使得第二喷出部件开始工作。因 此， 在向基板 s 上涂敷有机溶液之后涂敷光刻胶。另外， 有机溶剂和光刻胶的涂敷可以从基 板 s 的端部开始。 0063 图 4 为表示通过第一喷出部件喷出第一药液的状态的。

32、图。 0064 参照图 3 和图 4， 在第一喷出部件的工作前或者工作的同时， 抽引部件开始工作， 第一药液 318 可以在受到向抽引部件方向的吸入压力的同时被喷出。因此， 第一药液 318 向基板 s 涂敷的地点被引导向抽引部件方向。并且， 向涂敷有第一药液 318 的基板 s 涂敷 第二药液 328。 0065 图 5 为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图。 0066 参照图 5， 喷嘴单元 30 包括第一流道 310、 第二流道 320 以及排气流道 330。因此， 喷嘴单元可以不提供抽引部件。 0067 图 6 为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图。 0068 参照图 。

33、6， 喷嘴单元 30 包括第一流道 310 和第二流道 320。因此， 喷嘴单元可以不 提供抽引部件和排气流道。 0069 图 7 和图 8 为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元与支承台结合的状态的截面 图。 0070 参照图 7 和图 8， 喷嘴单元 30 包括第一主体 301 和第二主体 302。第一主体 301 和第二主体 302 沿第一方向 101 形成。第一喷出部件可以在第一主体 301 内包括第一流道 310。另外， 第二喷出部件可以在第二主体 302 中包括第二流道 320。 0071 喷嘴单元30能够进一步地包括抽引部件。 抽引部件340可以附着于第一主体301 的一个侧面， 或。

34、者在第一主体 301 中作为流道形成。抽引部件 340 位于第一主体 301 与第 二主体 302 邻接之处的反向。 0072 在第一主体 301 或第二主体 302 中可以形成排气流道 330。当排气流道 330 形成 于第一主体 301 中时， 在邻接第二主体 302 的那侧沿第一方向 101 形成该排气流道 330。另 外， 当排气流道 330 形成于第二主体 302 中时， 在邻接第一主体 301 的那侧沿第一方向 101 形成该排气流道 330。 0073 支承台 41 可以包括第一支承台 410 和第二支承台 420。第一支承台 410 与第一主 体 301 结合， 第二支承台 4。

35、20 与第二主体 302 结合。第一支承台 410 或第二支承台 420 被 设置为能够在上下方向上移动， 从而第一主体 301 与第二主体 302 的下端的相对高度可以 调节。另外， 第一支承台 410 或第二支承台 420 可以向第二方向 102 移动， 第一主体 301 与 第二主体 302 之间的间隔可以调节。 0074 图 9 为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面图。 0075 参照图 9， 在第一主体 301 内提供第一流道 310， 在第二主体 302 内提供第二流道 320。另外， 抽引部件 340 可以附着于第一主体 301 的一个侧面， 或者作为流道形成于在第 一主体 。

36、301。因此， 喷嘴单元的那样可以不提供排气流道。 0076 图 10 为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面图。 0077 参照图 10， 在第一主体 301 内提供第一流道 310， 第二主体 302 内提供第二流道 320。因此， 喷嘴单元可以不提供排气流道和抽引部件。 说 明 书 CN 103084290 A 9 6/6 页 10 0078 图 11 为表示基于另外的实施方式的结合部件 60 的形态的图。 0079 参照图 11， 结合部件 60 包括电磁铁 640。电磁铁 640 可以设置于支承台 41 下表 面， 并与电源 641 和开关 642 连结。在喷嘴单元 30 上可以在。

37、与支承台 41 相接的面上设置 金属板 650。因此， 若启动开关 642 而将电源施加于电磁铁 640， 则金属板 650 附着于电磁 铁 640， 从而喷嘴单元 30 与支承台 41 结合。另外， 若关断开关 642 而阻断电源施加于电磁 铁 640， 则喷嘴单元 30 从支承台 41 分离。 0080 以上详细的说明不过是对本发明加以例示。另外， 前述内容为示出本发明的优选 的实施方式来进行说明， 本发明能够在多种其他组合、 变更以及环境下使用。即， 在本说明 书中揭示的发明的概念的范围、 与前述的揭示内容均等的范围和 / 或本领域的技术或知识 的范围内能够进行变更或修改。 前述的实施方。

38、式对实现本发明的技术的想法的较好的状态 进行了说明， 在本发明的具体的适用领域和用途的情况下也能够进行多种变更。 因此， 以上 发明的详细的说明并非是要将本发明限制于所揭示的实施状态。 另外， 必须要说明的是， 附 带的权利要求书也包括其他的实施状态。 说 明 书 CN 103084290 A 10 1/7 页 11 图 1 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 11 2/7 页 12 图 2 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 12 3/7 页 13 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 13 4/7 页 14 图 5 图 6 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 14 5/7 页 15 图 7 图 8 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 15 6/7 页 16 图 9 图 10 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 16 7/7 页 17 图 11 说 明 书 附 图 CN 103084290 A 17 。