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一种古陶瓷真伪的三维数控显微观测鉴定方法.pdf

  • 上传人:Y0****01
  • 文档编号:4533150
  • 上传时间:2018-10-18
  • 格式:PDF
  • 页数:12
  • 大小:4.33MB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN201510262721.4

    申请日:

    2015.05.21

    公开号:

    CN104807827A

    公开日:

    2015.07.29

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情:

    实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/84申请日:20150521|||公开

    IPC分类号:

    G01N21/84

    主分类号:

    G01N21/84

    申请人:

    四川雅知堂艺术品有限公司

    发明人:

    潘彦伯; 曹茂林

    地址:

    610000四川省成都市武侯区火车南站西路6号2栋1-2层118号

    优先权:

    专利代理机构:

    成都赛恩斯知识产权代理事务所(普通合伙)51212

    代理人:

    高利丹

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    内容摘要

    本发明涉及一种鉴别各类古陶瓷器物的真假品质及新旧属性的三维数控显微观测的科学鉴定方法。先用三维扫描仪对待鉴定陶瓷器的外观形态进行三维实物扫描,然后在200X-500X倍率显微仪器下观察陶瓷器的釉面,靶定陶瓷器釉面蚀刻痕迹,再通过步进电机或伺服电机数控驱动的1000X-5000X倍率显微仪器对靶定的陶瓷器釉面蚀刻痕迹进行大景深多焦平面观测,并将三维数控显微图形合成为立体图像,综合鉴别古陶瓷器的新旧属性及真假品质。本发明利用古陶瓷釉面在时空长河中自然发育形成的自然蚀刻痕迹特征,通过高分辨率显微观测仪器和三维数控显微图形合成的立体成像技术来鉴别古陶瓷器的新旧属性及真假品质,可以准确无误地做出鉴识和判别。

    权利要求书

    1.  一种古陶瓷真伪的三维数控显微观测鉴定方法,其特征在于,包括以下步骤:先用三维扫描仪对待鉴定陶瓷器的外观形态进行三维实物扫描,然后在200X-500X倍率显微仪器下观察陶瓷器的釉面,靶定陶瓷器的釉面蚀刻痕迹,再通过步进电机或伺服电机数控驱动的1000X-5000X倍率显微仪器对所靶定的陶瓷器釉面蚀刻痕迹进行大景深多焦平面观测,以显微仪器观测到的釉面蚀刻痕迹的特征和性质为依据,对该陶瓷器进行判断:
    (1)若陶瓷器釉面无蚀刻痕迹,为近百年出现的新仿品;
    (2)若陶瓷器釉面有蚀刻痕迹,再按以下标准进行判断:
    A.若蚀刻痕迹具备以下三个指标中的任意一个或一个以上,这样的蚀刻痕迹即为自然蚀刻痕迹:蚀刻痕迹形态特征不规整、蚀刻痕迹的分布呈现随机性、蚀刻痕迹发育的时序层次自然有序;只观测到自然蚀刻痕迹的釉面陶瓷器,可以判定为积年在100年以上的古陶瓷器真品;
    B.若蚀刻痕迹具备以下三个指标中的任意一个或一个以上,即为人为蚀刻痕迹:蚀刻痕迹的形态特征比较规整、蚀刻痕迹发育的时序层次不自然、蚀刻痕迹的分布呈等高线样的非随机性;只观测到人为蚀刻痕迹的釉面陶瓷器,可以判定为100年以内经过人工做旧处理的新仿做旧品;
    C.若陶瓷器釉面既出现了自然蚀刻痕迹,又出现了人为蚀刻痕迹,可以判定该陶瓷器为积年在100年以上的古陶瓷器仿品,即后仿做旧品。

    2.
      如权利要求1所述的古陶瓷真伪的三维数控显微观测鉴定方法,其特征在于:经数控驱动的1000X-5000X倍率显微仪器观察后,再采用电脑三维图形合成软件将靶定目标的所有观测图形合成为清晰的三维立体图像,并进一步以三维立体图像所显示出的釉面蚀刻痕迹的特征和性质为依据,对该陶瓷器进行判断。

    3.
      如权利要求1或2所述的古陶瓷真伪的三维数控显微观测鉴定方法,其特征在于:对A中判定积年在100年以上的古陶瓷器真品,进一步从以下三个方面鉴别:
    a.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物少,该古陶瓷器真品属于传世品;
    b.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物多,并以微细小沙粒为主,该古陶瓷器真品属于土古品;
    c.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物多,并以微生物残骸为主,该古陶瓷器真品属于水古品。

    说明书

    一种古陶瓷真伪的三维数控显微观测鉴定方法
    技术领域
    本发明涉及一种鉴别各类古陶瓷器物的真假品质及新旧属性的科学鉴定方法,具体涉及应用200X-5000X倍率的高分辨率显微仪器对陶瓷器釉面蚀刻痕迹的特征和性质进行三维数控显微观测的科学鉴定法。
    背景技术
    陶瓷是陶器和瓷器的总称,具有耐高温、耐磨、耐腐蚀、抗氧化、电绝缘、强度大、硬度高等优良特性。陶瓷的烧结是陶瓷坯体在高温下的致密化过程,其中陶器烧结温度相对较低(约600℃-1000℃),几乎没有玻璃相,断面粗糙无光泽,机械强度较低,吸水率较大。而瓷器烧结温度相对较高(约1280℃-1400℃),已形成大量玻璃相,断面细腻有光泽,机械强度较高,吸水率很低。
    在陶瓷器烧造过程中,一般合水为泥时外加的水分会在低于150℃前优先排放出来,而陶瓷坯体原料矿物结构中所含挥发组分(如H2O、CO2、CO等)会随着窑内温度的进一步升高而逐渐排出,如果温度升降较快,在矿物排气时没有经过充分的保温而急速升温,常常会把矿物排放的气体密封在釉层内部而形成微气泡。因此,陶瓷釉层里的气泡基本上都是矿物所排气氛密封在釉层内部而形成的。
    在陶瓷器与所处环境条件的相互作用过程中,将会不断与周围环境物质发生离子交换和化学反应。SiO2会彼此交连形成与石英晶体类似的 三维空间网络结构,其基本结构单元是硅氧四面体。这种硅氧四面体网络结构比石英晶体结构稍显疏松,均匀而无序,遇H2O即可生成一种极性分子Si(OH)4,该化合物能使周围的水分子极化,并将水分子吸附在自己周围形成硅酸凝胶膜(Si(OH)4-H2O)。这种在陶瓷釉面上形成的硅酸凝胶保护性薄膜,在陶瓷烧成后数天到数月内即可形成,它能使釉面具有较长时间的稳定性。
    陶瓷釉层中Ca、Mg、Na、K等元素的氧化物可使Si/O比值变小,一些氧原子由于没有两个硅原子与之连接(非桥氧),致使硅氧四面体网络发生断裂。碱金属Na+、K+处于硅氧四面体网络的空隙中,平衡非桥氧的过剩电荷,以维持网络结构局部的电中性。由于粒子会借化学势自动从浓度高处向浓度低处扩散,因此陶瓷釉层内部的Na+、K+会逐渐向釉层表面扩散,而吸附在釉层表面水分子层中的H+也会逐渐向釉层深处扩散。这样,H+与Na+、K+在相向扩散过程中会发生离子交换而互相置换其位置。由于H+远小于碱金属Na+、K+,所以当H+取代了硅氧四面体网络空隙中Na+、K+的位置后,致使硅凝胶保护层结构变得疏松,而到达釉层表面的碱金属Na+、K+进而与H2O反应生成强碱NaOH和KOH,直接侵蚀釉层表面的硅凝胶层。因此,在古陶瓷的2-CaO-Na2O系釉层中,釉面上常会形成随机分布的雾状白色小斑点(主要由NaHCO3·2H2O即二水碳酸氢钠组成的天然碱),在水泡或清洗后,白斑点会消失,但却留下了被破坏的风化痕迹和侵蚀斑。而在釉表层之下,则是失去了碱金属Na+、K+的富SiO2层,含有H2O,因折射率发生了变化,故在光照下会出现“彩虹现象”,即文物界所谓的“宝光”,又称“蛤蜊光”。
    古陶瓷自生产出来后,就面临地上、地下和水三种环境。地下环境 有古窑遗址埋藏、窖藏、墓藏等。水环境有地下水、江河水和海水浸埋等。其中,地下古陶瓷会受到地下泥土、各种微量矿物质、微量有害气体、地下水位、地表温度与湿度等因素的影响。当地下古陶瓷周围的温度变大时,釉面的孔隙、裂隙及胎体显气孔就会吸收水分;当地下古陶瓷周围的温度变小时,釉面的孔隙、裂隙及胎体显气孔又会释放水分。这样,釉面通过孔隙、裂隙及胎体显气孔保持着内部与外界水分的动态平衡。含有可溶性盐类及其他物质的地下水在釉面孔隙、裂隙及胎体显气孔内不断地渗进和排出,渗入胎釉内的盐类物质,在高温高湿的环境下易蒸发溶解,破坏胎釉颗粒间的连接,造成裂隙和气孔扩张;当温度湿度降低时,盐类又会结晶,因结晶产生的挤压力,又会使胎釉组织结构受到破坏。浸入胎釉中的盐类物质随温度湿度的不断变化,重复着溶解、结晶、再溶解、再结晶的过程,使陶瓷器的胎釉组织不断受到蚀刻破坏。一些气泡中心的圆孔在漫长的岁月中,微生物沉积物、细微土壤尘粒和酸碱性液体会进入圆孔。一旦进入圆孔,除水分挥发逸走外,固态物质将在圆孔(烂气泡)中沉积下来。微生物的遗骸会分解成各种有机酸,逐渐渗透到泡壁中并与之反应,使古陶瓷釉面上破气孔壁的颜色与四周的釉色明显不同。凡被自然界中的微生物、酸碱土壤颗粒或气溶胶粒子等侵蚀的痕迹,都是自然蚀刻痕迹,又叫自然老化痕迹,包括源自釉层内部自然力如碱金属Na+、K+等蚀刻引起的风化痕迹和源自釉面外部自然力如各种环境因子蚀刻引起的侵蚀痕迹,形态呈现孤岛性或不连续性的树状沟壑裂纹或破气泡状侵蚀斑点,其特征表现为形态不规整、随机分布、发育时序层次自然。
    这种包括内源性风化和外源性侵蚀双重作用在内的自然老化过程, 通过经年累月的累积,便在古陶瓷釉面形成具有漫长时光烙印的自然蚀刻痕迹,也叫自然老化痕迹,是独一无二的天然痕迹,是古陶瓷真品的天然防伪标记,也是任何赝品制造者永远无法逾越的鸿沟。
    因此,依据古陶瓷釉面在成百上千年时空变化中所形成的自然老化痕迹特征,就可以对古陶瓷的新旧属性及真伪品质进行客观、科学的鉴识和判别,并成功规避了目前文物市场上“目鉴”或“眼学”观察的缺陷和短板。
    C-14是所有文物的原始代码,而C-14衰变量测定也是造假做伪者无法破解的最科学的断代方法,但问题是陶瓷的化学成分里几乎不含有机碳。另外,由于放射性C-14的半衰期很长(约5730年),C-14测年法适合于检测年代久远的含碳物质,而目前文物市场上活跃的古陶瓷存品大多不足千年,或最多一千年左右。因此,应用C-14技术对古陶瓷这类文物进行断代鉴定基本算是失效的。
    热释光法特别适合用于陶器鉴定,因为陶器用料较粗,烧结温度较低,其中的石英颗粒保存较好,也容易分离。但热释光法用于瓷器鉴定则比较困难,因为瓷器选土考究,研磨较细,加之烧结温度高,大量石英颗粒已熔融消失,即使未消失,其表面也包裹着一个融蚀层,从而使石英固有的热释光效应受到破坏,同时还使石英颗粒难以分离出来。而且,热释光法与C-14测年法一样,需要从被检器物上取样,会伤害到器物,这对特别珍贵的古陶瓷类文物是很难实施的。此外,对古陶瓷进行造假作伪的人又发明了用医用X光机等辐射光源对仿品或赝品进行定量辐照,使其热释光信号增加到与真品相近的程度,从而干扰了真伪的鉴别。因此,目前国际上流行的热释光法用于文物断代的客观性和有效性 也已经失效。
    化学分析、光谱分析、中子活化分析和质子束激发X-荧光(PIXE)分析等方法可以确定陶瓷胎釉中主、微量元素化学成分,以获取一些有关陶瓷出产地的相关信息。然而,事实上每个窑场出品的陶瓷器物并非都一定是用该窑场附近的瓷土和原料来制作的。譬如,景德镇的高岭土曾经广销各地,有记载曾远销到英国;繁昌的磁石,至今还运销到江、浙各地。仅以宋代古瓷为例,宋代有汝窑、官窑、钧窑、定窑、耀州窑、磁州窑、龙泉窑、景德镇青白瓷等众多窑系,而宋代官窑在开封,但开封并不出产瓷石,其制瓷原料都是从各地进贡来的。因此,这类分析方法的可靠性也已被质疑。
    在科技文明高度发达的今天,传统“目鉴”或“眼学”观察鉴定方法已显得力不从心,文物甄别和鉴定市场也正热切期盼有更加客观、科学、权威、规范的科技鉴定方法出现。
    发明内容
    为了解决古陶瓷存品在文物鉴定中存在的鉴别不客观、有效性差的问题,本发明提供了一种针对古陶瓷器的新旧属性及真伪品质鉴别的客观、科学的鉴定方法。
    具体而言,本发明的目的是这样实现的:
    先用三维扫描仪对待鉴定陶瓷器的外观形态进行三维实物扫描,然后在200X-500X倍率显微仪器下观察陶瓷器的釉面,靶定陶瓷器釉面蚀刻痕迹,再通过步进电机或伺服电机数控驱动的1000X-5000X倍率显微仪器对靶定的陶瓷器釉面蚀刻痕迹进行大景深多焦平面观测,最后以显 微仪器观测到的釉面蚀刻痕迹的特征和性质为依据,对该陶瓷器进行判断:
    (1)若陶瓷器釉面无蚀刻痕迹,为近百年出现的新防品;
    (2)若陶瓷器釉面有蚀刻痕迹,再按以下标准进行判断:
    A.若蚀刻痕迹具备以下三个指标中的任意一个或一个以上,这样的蚀刻痕迹即为自然蚀刻痕迹:蚀刻痕迹形态特征不规整、蚀刻痕迹的分布呈现随机性、蚀刻痕迹发育的时序层次自然有序;自然蚀刻痕迹也叫自然老化痕迹;只观测到自然蚀刻痕迹的釉面陶瓷器,可以判定为积年在100年以上的古陶瓷器真品;
    B.若蚀刻痕迹具备以下三个指标中的任意一个或一个以上,即为人为蚀刻痕迹:蚀刻痕迹的形态特征比较规整、蚀刻痕迹发育的时序层次不自然、蚀刻痕迹的分布呈等高线样的非随机性;人为蚀刻痕迹又称人为做旧痕迹;只观测到人为蚀刻痕迹的釉面陶瓷器,可以判定为近现代(100年以内)经过人工做旧处理的新仿做旧品;
    C.若陶瓷器釉面既出现了自然蚀刻痕迹,又出现了人为蚀刻痕迹,即两种蚀刻痕迹在同一件陶瓷器的釉面中都同时被观察到了,可以判定该陶瓷器为积年在100年以上的古陶瓷器仿品,即后仿做旧品。
    进一步地,本发明的方法还采用电脑三维图形合成软件将数控驱动的1000X-5000X倍率显微仪器所观察到的靶定目标的陶瓷器釉面蚀刻痕迹图形合成为清晰的三维立体图像,并结合三维立体图像所显示出的釉面蚀刻痕迹的特征和性质为依据,对该陶瓷器进行判断。
    对上述A中判定积年在100年以上的古陶瓷器真品,还可以进一步从以下三个方面来做区分和鉴别:
    a.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物少,则具有空气因素的蚀刻特征,该古陶瓷器真品属于传世品;
    b.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物多,并以微细小沙粒为主,则具有墓穴或窑埋土壤因素的蚀刻特征,该古陶瓷器真品属于土古品;
    c.釉面蚀刻痕迹的蚀纹或蚀斑中沉积物多,并以微生物残骸为主,则具有江河地下水或海水浸泡的蚀刻特征,该古陶瓷器真品属于水古品。
    本发明中所述的釉面蚀刻痕迹主要包括蚀纹和蚀斑,可分为自然蚀刻痕迹和人为蚀刻痕迹。对自然蚀刻痕迹而言,在时间长河的自然作用下,古陶瓷釉面的蚀纹可逐步发育成树状分枝的裂纹或裂隙,古陶瓷釉面的蚀斑可逐步发育成不同层级的破气泡。
    本发明中所述的数控驱动的高分辨率显微仪器包括光学显微镜(200X-5000X)、光纤显微镜、原子力显微镜、可在常压下工作的环境电子显微镜等。
    本发明中所述的釉面自然蚀刻痕迹,包括釉面自然风化痕迹(源自釉层内部自然力如碱金属Na+、K+等的蚀刻)和釉面自然侵蚀痕迹(源自釉面外部自然力如空气、土壤、水等环境因子、微生物沉积物和化学沉积物的蚀刻)。釉面自然蚀刻痕迹的形态具体表现为树枝状风化裂纹和破气泡状侵蚀斑点,特征为形态不规整、发育时序自然、随机性分布。而与自然蚀刻痕迹相对应的则是人为蚀刻痕迹,其特征表现为形态较规整,呈等高线样分布,且发育时序层次不自然。釉面自然蚀刻痕迹发育时序自然有序指的是釉面的自然蚀刻痕迹首先出现在釉面的薄弱处,然 后逐渐发育成裂纹或破气泡;人为蚀刻痕迹出现的部位则不一定,在釉面的坚固加厚处也会有人为蚀刻痕迹出现,因此人为蚀刻痕迹的发育时序层次是不自然的。
    本发明认为,古陶瓷器自烧造完成出窑后,都会经历一个“以原子扩散为主要形式的物理稳化过程”和“以缓慢的化学及电化学反应为主要形式的化学稳化过程”。在这一稳化过程中,其组织结构和表观性能的改变都是以陶瓷坯体成分、气泡分布等因素确定的物化稳定性和热稳定性与环境条件相互作用的结果。
    通常,凡被自然界中的微生物、酸碱土壤颗粒或气溶胶粒子等侵蚀的痕迹,都是自然蚀刻痕迹,包括源自釉层内部自然力如碱金属Na+、K+等蚀刻引起的风化痕迹和源自釉面外部自然力如各种环境因子蚀刻引起的侵蚀痕迹,自然老化痕迹是一切古旧陶瓷器自身具有的最基本最可靠的鉴别特征。不同器物自然老化痕迹的多少及显像清晰度(即蚀刻程度)与古旧陶瓷器的内在质量、经历年代、存放环境密切相关。因真品胎釉各处显气孔的大小、多少均不一样,釉面不同部位的质量又存在差异,孔隙、裂隙的大小、多少也不同,以及外界环境条件的多样性,造成真品在自然老化过程中,器物自身不同部位的蚀刻程度往往是蚀刻轻重不一、痕迹多少不均。很多器物上的自然老化痕迹多是独立孤处的,即使整体蚀刻程度较重的古旧陶瓷器物,痕迹与痕迹之间也往往有洁净的釉面,这是任何人为造假者所无法作伪的,也是任何赝品仿制者永远无法复制的。而贋品的痕迹特征则不然,由于贋品做旧者多是用氢氟酸等酸碱化学物质对器物进行整体涂刷或浸泡,这种方法是单纯的酸碱外浸,与真品受腐蚀的原理不同,加上仿品胎釉各部位出现的酸碱腐蚀痕 迹的形态、清晰度、分布都比较一致,没有真品痕迹那种轻重自然变化的孤处感,也没有真品痕迹之间那种洁净感。因此,人为造假总免不了单调和有规律可循,在数控驱动的高分辨力显微镜下,任何人为做旧痕迹都是不难辨别的。因此,自然蚀刻痕迹的分布呈现随机性,而由于陶瓷器釉面在自然老化过程中,有蚀刻痕迹的位置可能会出现分相与析晶现象,因此蚀纹的形态会呈现孤岛性或不连续性的树枝状沟壑裂纹,即不规则的树枝状,而蚀斑则呈现不规则的破气泡状。
    观察发现,新烧制的陶瓷器釉面光亮、洁净,其透光度、折光率很高,露胎处也非常洁净,釉面无任何自然老化痕迹。但民国时期(距今100年左右)的陶瓷器已出现自然老化痕迹,据此可以粗略推断,陶瓷器釉面开始形成自然老化痕迹的基本时间单位为100年左右,这也是本发明对所观测陶瓷器进行新旧判断的一个基本参考依据。
    因此,依据古陶瓷器釉面在成百上千年时空变化中所形成的自然老化痕迹特征,就可以对古陶瓷的新旧属性和真伪品质进行客观、科学的鉴识和判别,并成功规避了目前文物市场上“目鉴”或“眼学”观察的缺陷和短板。
    本发明以古陶瓷在时空长河中自然发育形成的釉面自然老化痕迹特征为主要鉴别依据,其鉴定方法不受人为主观意识等的干扰,除了自动化程度高以外,还具有客观科学、简便易行、准确可靠、不受人为因素干扰等优点,适宜大力推广应用。
    利用本发明的方法鉴定古陶瓷器的显著效果是:由于古陶瓷釉面自然蚀刻痕迹(包括自然风化痕迹和自然侵蚀痕迹)仅与时空有关。时空条件影响陶瓷釉面自然蚀刻痕迹的特征性质;时空跨度影响陶瓷釉面自 然蚀刻痕迹的蚀刻程度。所以利用古陶瓷釉面在时空长河中自然发育形成的自然蚀刻痕迹特征,通过高分辨率显微观测仪器和三维数控显微图形合成的立体成像技术来鉴别古陶瓷器的新旧属性及真假品质,可以准确无误地做出鉴识和判别,其准确性、客观性以及不受人为主观因素影响等,是传统“目鉴”或“眼学”观察的鉴定效果所无法比拟的。
    附图说明
    图1是“花口盘”釉面200倍显微图;
    图2是“花口盘”釉面蚀纹1000倍显微图;
    图3是“花口盘”釉面蚀斑2000倍显微图;
    图4是“花口盘”釉面蚀纹2000倍三维合成立体图;
    图5是“花口盘”釉面蚀斑2000倍三维合成立体图;
    图6是环境电子显微镜观测瓷器A釉面上的自然老化裂纹;
    图7是环境电子显微镜观测瓷器B釉面上的人工做旧裂纹;
    图8是瓷器A(右)与瓷器B(左)的釉面蚀刻痕迹扫描对比图。
    具体实施方式
    下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。实施例中所使用的显微仪器如无特别说明,均为基恩士多功能一体化超景深三维立体显微镜VHX-2000。
    实施例一
    一件北宋汝窑天青釉隐圈足花口盘瓷器(以下简称“花口盘”)的真伪鉴定实例。具体观测内容及鉴定结果如下:
    先用三维扫描仪对“花口盘”进行三维实物扫描。该器型釉面呈天 青色,盘口直径约16.5厘米,隐圈足直径约6.5厘米,盘高约3.5厘米。
    然后在200X倍率显微仪器下观察“花口盘”的釉面显微特征,如图1所示,其釉面有明显的自然分形特征,并有细小树状分枝裂纹和不同层级大小的浅黄色斑点散布其间。
    在此基础上,靶定一些典型的蚀刻痕迹,如较明显的蚀纹和较大的蚀斑,作为观测目标,然后在1000X-2000X倍率下做进一步的观测。图2显示的是“花口盘”釉面开片裂纹在1000倍率下观察到的发育情形,裂纹呈浅黄色(自然老化颜色),裂纹边缘及裂纹走向顺畅自然,没有人为做旧痕迹那样的呆板和生硬感。
    图3显示的是“花口盘”釉面蚀斑在2000倍率下的发育情形,该蚀刻斑点呈不规则的破气泡状,破气泡形态及破口边缘发育自然,且与周边不同层级的各色小泡有明显的层次感。
    进一步,在步进电机或伺服电机数控驱动下,对靶定的观测目标(前述蚀纹和蚀斑)在2000X倍率下进行大景深多焦平面观测,并对每一个观测目标的所有图像通过电脑软件进行合成,从而形成该目标的三维立体图像。图4显示的是“花口盘”开片蚀纹在2000X倍率下的三维立体合成图像,清晰地呈现出开片裂纹与釉面晶相之间的相互关系及发育程度(即裂纹深度和宽度),该裂纹是“花口盘”多个裂纹中最深和最宽的一个,并出现在“花口盘”多个裂纹出现的最薄处;图5显示的是“花口盘”破气泡在2000X倍率下的三维立体合成图像,也清晰地呈现出破气泡与釉面晶相之间的相互关系及发育程度(即破气泡的直径和高度),该破气泡是“花口盘”多个破气泡中最大和最深的一个,并出现在“花口盘”多个破气泡出现的最薄处。因此,这两处蚀刻痕迹的发育时序层 次自然有序。
    基于以上不同倍率下的显微观测结果,该“花口盘”瓷器的釉面确实出现了明显的自然蚀刻痕迹特征,痕迹特征主要表现为蚀刻斑点呈不规则的破气泡状、不同蚀刻斑点和裂纹发育的时序层次自然有序,且整个釉面没有观测到形态比较规整、呈等高线样分布、发育时序层次不自然的人工蚀刻痕迹。因此,可以判断该“花口盘”瓷器是积年在100年以上的真品。
    实施例二
    清凉寺汝窑瓷器真品与新仿汝窑瓷器的显微观测鉴定。
    用三维扫描仪对待鉴定的瓷器A和B的外观形态进行三维实物扫描,然后在200X-500X倍率显微仪器下观察两个瓷器的釉面,两个瓷器釉面均出现蚀纹。
    再通过步进电机或伺服电机数控驱动的1000X-5000X倍率环境电子显微镜对靶定的瓷器釉面蚀刻痕迹进行大景深多焦平面观测,图6是瓷器A釉面蚀纹2000倍显微镜图、图7是瓷器B釉面蚀纹2000倍显微镜图,从两个图的比较可以清晰分辨:瓷器A的蚀刻裂纹边缘不清晰、蚀刻裂纹呈不规则树枝状,因此形态特征不规整;而瓷器B的蚀刻裂纹的线条均匀光滑,蚀刻裂纹呈规则的树枝状,因此形态特征规整。
    图8中的右面两张图是瓷器A的釉面蚀刻痕迹扫描图,左面两张图是瓷器B的釉面蚀刻痕迹扫描图,右下图为3000X扫描图,其余三个图为450X扫描图,从图上清晰可见:瓷器A的蚀刻痕迹(蚀斑)分布都有明显的随机性;而瓷器B在左下图中的蚀纹呈规整的等高线样分布,而在左上图的蚀纹则呈规整的放射状分布。
    据此判断为:瓷器A为真品,瓷器B为仿品。经过与瓷器保存者及资料的印证,瓷器A为清凉寺汝窑瓷器真品,瓷器B为经化学处理“做旧”后的新仿做旧品。

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    一种 陶瓷 真伪 三维 数控 显微 观测 鉴定 方法
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