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1、(10)申请公布号 CN 104178816 A (43)申请公布日 2014.12.03 C N 1 0 4 1 7 8 8 1 6 A (21)申请号 201410387687.9 (22)申请日 2014.08.08 C30B 33/10(2006.01) (71)申请人蓝思科技股份有限公司 地址 410329 湖南省长沙市长沙国家生物产 业基地蓝思路 (72)发明人周群飞 饶桥兵 阳畯 (74)专利代理机构长沙市融智专利事务所 43114 代理人颜勇 (54) 发明名称 一种蓝宝石晶片褪镀工艺 (57) 摘要 本发明公开了一种蓝宝石晶片褪镀工艺，用 于蓝宝石加工过程中的褪镀返工，包括如。
2、下步骤： 第一步、高温脱墨；第二步、降温；第三步、使用碱 性光学玻璃清洗剂进行清洗脱膜；第四步、使用 去离子水漂洗；第五步、使用碱性水基环保清洗 剂清洗；第六步、使用柠檬酸溶液浸泡去残留；第 七步、使用去离子水二次漂洗。本发明避免采用强 酸溶剂通过氧化还原进行褪镀，通过新型的清洗 剂结合加热处理，实现蓝宝石镜片表面镀层的物 理剥离，褪镀效果好，有效解决了现有技术中蓝宝 石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题，具有环 保、安全的优点。 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书3页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书3页 (10)申请公布号 CN。
3、 104178816 A CN 104178816 A 1/1页 2 1.一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于包括如下步骤： 第一步、高温脱墨，将蓝宝石晶片加热至450480； 第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80100； 第三步、脱膜，使用质量比100的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗； 第四步、漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗； 第五步、清洗，使用质量比为1015的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清 洗； 第六步、去残留，使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡； 第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗。 2.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所。
4、述第一步中的高 温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热，并保温120140min。 3.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第二步中的降 温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。 4.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第三步中，将碱 性光学玻璃清洗剂加热至110120对蓝宝石晶片进行清洗。 5.根据权利要求4所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第三步在超声 波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗90100min。 6.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第五步中，将碱 性水基环保清洗剂加热至80对蓝宝石晶片进行。
5、清洗。 7.根据权利要求7所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第五步在超声 波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗3040min。 8.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第六步中采用 质量比为1的柠檬酸溶液浸泡1015min。 9.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于：所述第三步和第七 步中的漂洗均采用常温去离子水进行，漂洗6090s。 权 利 要 求 书CN 104178816 A 1/3页 3 一种蓝宝石晶片褪镀工艺 技术领域 0001 本发明属于蓝宝石加工技术领域，具体涉及一种蓝宝石晶片褪镀工艺。 背景技术 0002 在蓝宝石。
6、晶片生产中，由于镀膜、丝印等工艺不合格，需要对蓝宝石晶片表面的油 墨及镀层进行褪镀处理，然后进行重新镀膜、丝印。 0003 现有的蓝宝石褪镀技术，通常采用无机酸腐蚀、强氧化还原反应、和有机溶剂浸泡 等方法的来祛除蓝宝石表面的油墨及镀层，由于蓝宝石油墨附着力强，往往出现褪镀不干 净的现象，影响重新镀膜、丝印的效果。同时，由于褪镀使用的溶剂具有高强度的腐蚀性，因 此对褪镀处理的设备要求较高，要求耐强酸强碱，另因使用到的都是强酸和具体刺激性气 味的化学品，对员工的操作和废液处理带来了极大的安全隐患和环境影响，同时也导致褪 镀的成本较高，甚至褪镀的成本超过了褪镀处理的蓝宝石晶片本身的价值。 发明内容 。
7、0004 本发明解决的技术问题是：提供一种高品质，安全环保的蓝宝石镜片褪镀工艺，用 以解决传统强腐蚀性酸碱溶剂对蓝宝石晶片褪镀存在的成本高、安全隐患高和环境影响大 的技术缺陷。 0005 本发明采用如下技术方案实现：一种蓝宝石晶片褪镀工艺，包括如下步骤： 0006 第一步、高温脱墨，将蓝宝石晶片加热至450480，利用高温将油墨炭化，从而 达到物理分离的效果； 0007 第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80100，为了方便后续运转物料，防 止高温烫伤； 0008 第三步、脱膜，使用质量比100的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗， 有效袪除产品表面镀层； 0009 第四步、漂洗，使用去。
8、离子水对蓝宝石晶片进行漂洗，去除产品表面具有腐蚀的清 洗液残留； 0010 第五步、清洗，使用质量比为1015的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行 清洗，有效去除产品表面脏污； 0011 第六步、去残留，使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡，有效中和碱性清洗剂； 0012 第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗，去除表面清洗液残留。 0013 进一步的，所述第一步中的高温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热，并保温 120140min。 0014 进一步的，所述第二步中的降温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。 0015 进一步的，所述第三步中，将碱性光学玻璃清洗剂加热至110120对蓝宝。
9、石晶 片进行清洗。 0016 进一步的，所述第三步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗 说 明 书CN 104178816 A 2/3页 4 90100min。 0017 进一步的，所述第五步中，将碱性水基环保清洗剂加热至80对蓝宝石晶片进行 清洗。 0018 进一步的，所述第五步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗 3040min。 0019 进一步的，所述第六步中采用质量比为1的柠檬酸溶液浸泡1015min。 0020 进一步的，所述第三步和第七步中的漂洗均采用常温去离子水进行，漂洗60 90s。 0021 本发明采用上述技术方案避免采用强酸溶剂对蓝宝石晶片。
10、进行褪镀，不通过强氧 化还原反应，采用新型的清洗剂结合加热处理，实现蓝宝石镜片表面镀层的剥离，褪镀效果 好，有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题，具有环保、安全 的优点，具有广泛的市场经济价值。 0022 以下结合具体实施方式对本发明做进一步说明。 具体实施方式 0023 实施例 0024 本实施例对5.50mm*0.3mm蓝宝石晶片丝印后进行褪镀返工，褪镀过程中采用 的去离子水电阻为18M.cm，超声波清洗机的电流控制在：2.50.5A；按以下步骤进行褪 镀。 0025 1)高温脱墨：使用加压炉将蓝宝石晶片加热至450480，保温时间120 140min。 0026 。
11、2)降温：使用保温罩将蓝宝石晶片的温度降至80100即可。 0027 3)脱膜：将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽，采用质量比为100的碱性 光学玻璃清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-19C光学玻璃清洗剂，其主 要成分包括氢氧化钠、助剂、表面活性剂)加热至110120，在40KHZ的超声波环境下对 蓝宝石晶片清洗清洗90100min。将清洗剂加热是为了防止降温后的蓝宝石晶片遇冷将 清洗剂蒸发，并且加热的清洗剂更有利于油墨的脱膜效果。 0028 4)漂洗：将脱膜后的蓝宝石晶片使用常温去离子水漂洗60s90s。 0029 5)清洗：再次将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽，这次采。
12、用质量比为10 的弱碱性水基环保清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-152B光学玻璃清 洗剂)加热至80，在40KHZ的超声波环境下对蓝宝石晶片清洗清洗3040min。 0030 6)清洗去残留：将清洗后的蓝宝石晶片使用质量比为1的常温柠檬酸溶液浸泡 1015min。 0031 7)二次漂洗：最后将蓝宝石晶片使用常温去离子水再次进行漂洗6090s即完 成蓝宝石的褪镀工艺，检验后即可可进行再次镀膜、丝印。 0032 褪镀后的蓝宝石晶片检视在以下条件下进行：在检验灯光照度为8001200Lux， 产品距眼睛30cm，产品距光源40cm，检验时间为15s，检验角度为：眼睛视线与玻璃表面垂 直，上下左右旋转30-75o，要求在检验背景为黑色背景的情况下，采用上述工艺褪镀的蓝宝 石晶片均能达到晶片表面无油墨残留，无脏污，水滴角测试在18-22之间，透光率测试波 说 明 书CN 104178816 A 3/3页 5 长范围410nm-750nm的测试平均值85T，即可以满足蓝宝石晶片再次丝印、镀膜工艺要 求。 说 明 书CN 104178816 A 。