彩色滤光片及其形成方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102830456 A (43)申请公布日 2012.12.19 C N 1 0 2 8 3 0 4 5 6 A *CN102830456A* (21)申请号 201110161650.0 (22)申请日 2011.06.15 G02B 5/20(2006.01) G02F 1/1335(2006.01) G03F 7/00(2006.01) (71)申请人上海天马微电子有限公司 地址 201201 上海市浦东新区汇庆路889号 (72)发明人温福正 刘倩 (74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人骆苏华 (54) 发明名称 彩色滤光片及其。

2、形成方法 (57) 摘要 本发明例提供一种彩色滤光片，包括：基板； 位于所述基板表面、呈网状结构的黑色矩阵，所述 黑色矩阵存在间隙并露出所述基板表面，相邻的 间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截 面为边缘低中间高的“凸”字型；色阻层，位于所 述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵 的边缘重叠。本发明还提供了彩色滤光片的形成 方法，利用半灰调掩模板形成黑色矩阵，可以减小 甚至消除“牛角”，防止显示装置像素边缘漏光，并 且形成工艺简单，显示装置的对比度高。 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书。

3、 2 页 说明书 7 页 附图 4 页 1/2页 2 1.一种彩色滤光片，其特征在于，包括： 基板； 黑色矩阵，位于所述基板表面并呈网状结构，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述基板 表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字 型； 色阻层，位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠。 2.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的 边缘的厚度和中间的厚度的差值为0.10.7m。 3.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所 述基板垂直方向的截面为靠近所述间隙处厚度低于靠近基板边缘处厚。

4、度的阶梯状。 4.一种彩色滤光片，其特征在于，包括： 基板，位于所述基板表面的网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述 基板表面； 色阻层，位于所述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘，所述位于相邻间隙之 间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。 5.如权利要求4所述的彩色滤光片，其特征在于，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所 述基板垂直方向的截面为靠近所述间隙处厚度低于靠近基板边缘处厚度的阶梯状。 6.如权利要求1或4所述的彩色滤光片，其特征在于，所述位于相邻间隙之间的黑色矩 阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表面的色阻层的厚度的差值为0.10.7m。 7.。

5、一种彩色滤光片的形成方法，其特征在于，包括： 提供基板； 形成位于所述基板表面并呈网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出所 述基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的 “凸”字型； 形成位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠的色阻层。 8.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵采用半灰 调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述相邻间隙之间的黑色矩阵的中间相对应的透 光部、与所述相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘相对应的半透光部和与所述间隙对应的遮光 部。 9.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，。

6、所述相邻的间隙之间的 黑色矩阵的边缘的厚度和中间的厚度的差值为0.10.7m。 10.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵的形成步 骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显影、硬烤的制作工艺。 11.一种彩色滤光片的形成方法，包括： 提供基板，所述基板表面形成有网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出 所述基板表面； 形成位于所述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层，且位于相邻间隙 之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。 12.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述色阻层采用半灰 权 利 要 求。

7、 书CN 102830456 A 2/2页 3 调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述间隙相对应的透光部、与相邻间隙之间的黑 色矩阵的边缘相对应的半透光部和与相邻间隙间的黑色矩阵的中间相对应的遮光部。 13.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述位于相邻间隙 之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表面的色阻层的厚度的差值为0.1 0.7m。 14.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵的形成 步骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显影、硬烤的制作工艺。 权 利 要 求 书CN 102830456 A 1/7页 4 彩色滤光片及其形成。

8、方法 技术领域 0001 本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩色滤光片及其形成方法。 背景技术 0002 液晶显示器(Liquid crystal display，LCD)具有低电压操作、无辐射线散射、重 量轻以及体积小等传统阴极射线管显示器无法达到的优点。因此，液晶显示器已成为今年 来显示器研究的主要课题，且朝向彩色化发展。 0003 目前彩色化的液晶显示器大多使用背光(Black Light，BL)与彩色滤光片(color filter)的组合来达到彩色化的功效。而彩色滤光片的结构通常如图1所示。 0004 图1是现有技术的彩色滤光片的剖面结构示意图。请参照图1，在玻璃基板101表 面配。

9、置有黑色矩阵103，在玻璃基板101和黑色矩阵103表面形成红色(R)、绿色(G)、蓝色 (B)色阻，即色阻层105。然而，在实际制作时，色阻层105会产生如图所显示的“牛角”107， 即色阻层105与黑色矩阵103边缘重叠的区域会产生“牛角” 107。由于牛角107的存在， 会影响液晶的有序排列，因此在显示装置中较容易出现像素边缘漏光的现象。 发明内容 0005 本发明的实施例解决的问题是提供一种减小色阻层与黑色矩阵重叠区域“牛角” 的彩色滤光片及其形成方法。 0006 为解决上述问题，本发明提供了一种彩色滤光片，包括： 0007 基板； 0008 黑色矩阵，位于所述基板表面并呈网状结构，所。

10、述黑色矩阵存在间隙并露出所述 基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的 “凸”字型； 0009 色阻层，位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠。 0010 可选地，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的边缘的厚度和中间的厚度的差值为 0.10.7m。 0011 可选地，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为靠近所述间 隙处厚度低于靠近基板边缘处厚度的阶梯状。 0012 本发明的实施例提供了一种彩色滤光片，包括： 0013 基板，位于所述基板表面的网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出 所述基板表面； 0014 色阻层，位于所。

11、述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘，所述位于相邻间 隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。 0015 可选地，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为靠近所述间 隙处厚度低于靠近基板边缘处厚度的阶梯状。 0016 可选地，所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表 说 明 书CN 102830456 A 2/7页 5 面的色阻层的厚度的差值为0.10.7m。 0017 本发明的实施例提供了一种彩色滤光片的形成方法，包括： 0018 提供基板； 0019 形成位于所述基板表面并呈网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出。

12、 所述基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高 的“凸”字型； 0020 形成位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠的色阻 层。 0021 可选地，所述黑色矩阵采用半灰调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述相 邻间隙之间的黑色矩阵的中间相对应的透光部、与所述相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘相 对应的半透光部和与所述间隙对应的遮光部。 0022 可选地，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的边缘的厚度和中间的厚度的差值为 0.10.7m。 0023 可选地，所述黑色矩阵的形成步骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显 影、硬烤的制作工艺。 0024。

13、 本发明的实施例提供了一种彩色滤光片的形成方法，包括： 0025 提供基板，所述基板表面形成有网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并 露出所述基板表面； 0026 形成位于所述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层，且位于相邻 间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。 0027 可选地，所述色阻层采用半灰调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述间隙 相对应的透光部、与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘相对应的半透光部和与相邻间隙间的 黑色矩阵的中间相对应的遮光部。 0028 可选地，所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表 面的色阻。

14、层的厚度的差值为0.10.7m。 0029 可选地，所述黑色矩阵的形成步骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显 影、硬烤的制作工艺。 0030 与现有技术相比，本发明的实施例具有以下优点： 0031 本发明的实施例中形成位于所述基板表面、呈网状结构的黑色矩阵，由于采用具 有透光部、半透光部和遮光部的半灰调掩模板形成黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙，相邻 的间隙之间的黑色矩阵与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字型，再在所述 间隙的基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘形成的色阻层厚，由于容易形成“牛角” 的相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘处的色阻层的厚度低于所述间隙的基板表面的色阻层。

15、 的厚度，因此可以减小甚至消除“牛角”，防止显示装置的像素边缘漏光。 0032 本发明的实施例中利用半灰调掩模板在基底表面和网状结构的黑色矩阵表面形 成色阻层，通过调整半灰调掩模板中透光部、半透光部和遮光部的位置，可以使得容易形成 “牛角”处的相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度低于位于所述基板表面的色 阻层的厚度，有效减小甚至消除“牛角”，防止显示装置像素边缘漏光。 0033 进一步的，本发明的实施例采用半灰调掩膜板形成的黑色矩阵或色阻层，形成工 说 明 书CN 102830456 A 3/7页 6 艺简单，半灰调掩膜板比较容易对准，且形成的色阻层的厚度均匀。 附图说明 0034 图1。

16、是现有技术的彩色滤光片的剖面结构示意图； 0035 图2是本发明的第一实施例的彩色滤光片的形成方法的流程示意图； 0036 图3图7是本发明的第一实施例的彩色滤光片的形成方法的剖面结构或俯视结 构示意图； 0037 图8是本发明的第二实施例的彩色滤光片的形成方法的流程示意图； 0038 图9图10是本发明的第二实施例的彩色滤光片的形成方法的剖面结构示意图。 具体实施方式 0039 下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采 用其他不同于在此描述的其它方式来实施，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限 制。 0040 第一实施例 0041 请参考图2，本发明实施例的发。

17、明人提供了一种彩色滤光片的形成方法，包括： 0042 步骤S201，提供基板； 0043 步骤S202，形成黑色矩阵，所述黑色矩阵位于所述基板表面并呈网状结构，所述黑 色矩阵存在间隙并露出所述基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向 的截面为边缘低中间高的“凸”字型； 0044 步骤S203，形成色阻层，所述色阻层位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间 的黑色矩阵的边缘重叠。 0045 在本实施例中，具体可参考图3图6所述的彩色滤光片的形成方法的剖面结构 示意图。 0046 执行步骤S201，请参考图3，提供基板301。 0047 所述基板301为透明的基板，例如玻璃基板。 00。

18、48 执行步骤S202，请结合参考图4图6，形成黑色矩阵310，所述黑色矩阵310位 于所述基板301表面并呈网状结构，所述黑色矩阵310存在间隙并露出所述基板301表面， 相邻的间隙之间的黑色矩阵310在与所述基板301垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸” 字型。 0049 所述黑色矩阵310的形成方法包括在基板301表面形成黑色层303，以及曝光、显 影、硬烤的形成工艺。 0050 请参考图4，在基板301表面形成黑色层303。所述黑色层303的材料为黑色感光 树脂材料，所述黑色感光树脂材料的光密度值较大，形成的显示装置对比度高。所述黑色层 303的形成步骤为：先将黑色感光树脂材料涂布在基。

19、板301表面，再进行预烘步骤。 0051 请结合参考图5和图6，利用半灰调掩模板309对黑色层303，即黑色感光树脂材 料进行曝光、显影、硬烤等黄光微影的形成工艺形成黑色矩阵310。 0052 所述黑色矩阵310呈网状结构，所述黑色矩阵310存在间隙(未标示)并露出所 述基板301表面(详情请见5，图5为本发明实施例的彩色滤光片的形成方法的俯视结构示 说 明 书CN 102830456 A 4/7页 7 意图)。 0053 请参考图6，图6为图5的剖面结构的局部放大图。所述相邻的间隙之间的黑色矩 阵310在与所述基板301垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字型。 0054 在本发明的实施例中。

20、，图6所示的黑色矩阵310采用半灰调掩模板309制作而成。 所述半灰调掩模板309包括与所述相邻间隙之间的黑色矩阵310的中间相对应的透光部 305、与所述相邻间隙之间的黑色矩阵310的边缘相对应的半透光部306和与所述间隙对应 的遮光部307。 0055 所述半透光部306和遮光部307表面形成有遮光材料，在本发明的实施例中，所述 半透光部306表面的遮光材料的厚度小于所述遮光部307表面的遮光材料的厚度。在本发 明的另一实施例中，所述半透光部306和遮光部307表面的遮光材料的厚度相同，所不同的 是，所述半透光部306表面还形成有刻缝。 0056 由于光线在半灰调掩模板309的透光部305。

21、、半透光部306和遮光部的透光率不 同，对黑色层不同区域的曝光效果也不一样，最终形成的黑色矩阵310各个部分的厚度不 一样。在本发明的实施例中，由于光线在透光部305的透过率高，曝光效果好，所述相邻间 隙之间的黑色矩阵310的中间的厚度大，而光线在半透光部306的透过率较透光部305处 的小，曝光效果略差，与所述半透光部305相对应的所述相邻间隙之间的黑色矩阵310的边 缘的厚度小，即所述相邻的间隙之间的黑色矩阵310在与所述基板301垂直方向的截面为 边缘低中间高的“凸”字型。在本发明的实施例中，形成的所述相邻的间隙之间的黑色矩阵 的边缘的厚度和中间的厚度的差值为0.10.7m。 0057 。

22、需要说明的是，所述基板301边缘处的黑色矩阵310在与所述基板301垂直方向 的截面为靠近所述间隙处厚度低于靠近基板310边缘处厚度的阶梯状(未标示)。 0058 需要说明的是，在其他实施例中，任何相邻间隙之间的黑色矩阵310边缘部分的 厚度小于中间部分的厚度的彩色滤光片的形成方法，都可以达到减小“牛角”，防止显示装 置的像素边缘漏光的目的，且如果工艺控制的恰当，甚至可以完全消除“牛角”。 0059 执行步骤S203，请参考图7，形成色阻层315，所述色阻层315位于所述间隙的基板 301表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵310的边缘重叠。 0060 所述色阻层315包括：红色(R)、绿色(G)、。

23、蓝色(B)色阻。其中，所述红色(R)色 阻的材料为红色感光材料，所述绿色(G)色阻的材料为绿色感光材料，所述蓝色(B)色阻的 材料为蓝色感光材料；所述色阻层315的厚度与显示装置的厚度，工艺时间等因素有关，为 了节省工艺时间和感光材料，所述色阻层的厚度通常为13m。 0061 所述色阻层315的形成方法具体为：先在基板301表面和黑色矩阵310表面覆盖 一感光材料层(未图示)，该感光材料层可为红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)感光材料中个 一种；然后利用掩模板313将该层感光材料进行曝光、显影、硬烤等黄光微影工艺。 0062 其中，所述掩模板313包括透光部311和遮光部312。所述掩膜板31。

24、3的遮光部具 有一层遮光材料，用于阻止光线的透光，所述透光部312光线可以完全透过。 0063 接着按照上述方法分别形成红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)色阻中的其他两种颜色 的色阻。 0064 上述步骤完成之后，本发明实施例的彩色滤光片制作完成，上述形成方法所形成 的彩色滤光片，请参考图7，包括： 说 明 书CN 102830456 A 5/7页 8 0065 基板301； 0066 位于所述基板301表面、呈网状结构的黑色矩阵310，所述黑色矩阵310存在间隙 并露出所述基板301表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵310在与所述基板301垂直方向的 截面为边缘低中间高的“凸”字型； 0067 。

25、色阻层315，位于所述间隙的基板301表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵310的边 缘重叠。 0068 本发明实施例形成的彩色滤光片，由于利用具有透光部、半透光部和遮光部的半 灰调掩膜板形成网状结构的黑色矩阵，所述相邻间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方 向的截面为边缘低中间高的“凸”字型，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的边缘的厚度和中 间的厚度的差值为0.10.7m，在后续形成色阻层时，色阻层与黑色矩阵边缘重叠的部 分的“牛角”会减小甚至消除。 0069 第二实施例 0070 请参考图8，本发明实施例的发明人还提供了一种彩色滤光片的形成方法，包括： 0071 步骤S401，提供基板，所述基板表面形。

26、成有网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存 在间隙并露出所述基板表面； 0072 步骤S402，形成色阻层，所述色阻层位于所述基板表面、相邻间隙之间的黑色矩阵 的边缘，且位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度低于位于所述基板表面的 色阻层的厚度。 0073 在本实施例中，具体可参考图9图10所述的彩色滤光片的形成方法的剖面结构 示意图。 0074 执行步骤S401，请结合参考图5和图9，提供基板501，所述基板501表面形成有网 状结构的黑色矩阵510，所述黑色矩阵510存在间隙并露出所述基板501表面。 0075 所述基板501为透明基板，例如玻璃基板。 0076 所述黑色矩阵510的材。

27、料为黑色感光树脂材料。所述黑色矩阵510的形成方法包 括在基板表面形成黑色层(未图示)，以及曝光、显影、硬烤的形成工艺。 0077 在本实施例中，所述黑色矩阵510呈网状结构(详情请参考图5中的黑色矩阵 310)，利用掩膜板513形成，所述掩膜板513具有透光部511和遮光部512。所述相邻间隙 之间的黑色矩阵510沿与基板501垂直的截面的厚度相等(详情见图9)。 0078 执行步骤S402，请参考图10，形成色阻层515，所述色阻层515位于所述基板501 表面和相邻间隙之间的黑色矩阵510的边缘，且位于相邻间隙之间的黑色矩阵510的边缘 的色阻层515的厚度小于位于所述基板501表面的色。

28、阻层515的厚度。 0079 所述色阻层515采用半灰调掩模板518形成，所述色阻层515的形成步骤包括：在 基板501和黑色矩阵510表面涂布一层感光层(未图示)，该感光层的材料包括红色、绿色 和蓝色感光材料中的一种，然后利用半灰调掩模板517进行曝光、显影、硬烤等黄光微影工 艺。接着按照上述方法分别形成红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)色阻中的其他两种颜色的色 阻。 0080 所述半灰调掩模板518包括透光部514、半透光部517和遮光部516。由于光线在 所述透光部514、半透光部517和遮光部516的透过率不同，曝光程度不同，导致与所述透光 部514、半透光部517和遮光部516相对应。

29、的各个部位的色阻层515的厚度也不同。 说 明 书CN 102830456 A 6/7页 9 0081 在本发明的实施例中，所述半灰调掩模板518包括与所述间隙相对应的透光部 514、与相邻间隙之间的黑色矩阵510的边缘相对应的半透光部517和与相邻间隙间的黑色 矩阵510的中间相对应的遮光部516。由于半灰调掩模板518的透光部514的光线透过率 大于半透光部517。因此，与所述透光部514相对应处形成的色阻层515的厚度大于与所述 半透光部517相对应处形成的色阻层515的厚度，即位于相邻间隙之间的黑色矩阵510的 边缘的色阻层515的厚度小于位于所述基板501表面的色阻层515的厚度。从。

30、而使得“牛 角”减小，并且在合适的工艺下，甚至可以消除“牛角”，防止显示装置像素边缘的漏光。在 本发明的实施例中，形成的位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基 板表面的色阻层的厚度的差值为0.10.7m。 0082 在本发明的其他实施例中，还可以通过调整半灰调掩模板518的透光部514、半透 光部517、遮光部516的位置和透过率，使得形成的色阻层515不同位置的厚度不一样。 0083 本发明的发明人经过研究后发现通过调整半灰调掩模板518的半透光部的透光 率、曝光时间等工艺参数来控制色阻层515的厚度，达到减小“牛角”的目的。在本发明的 实施例中，所述色阻层515的厚度影响了。

31、显示装置的厚度，工艺时间，为了节省工艺时间和 感光材料，所述色阻层515的厚度通常为13m。 0084 上述步骤完成之后，本实施例的彩色滤光片如图10所示，包括： 0085 基板501，位于所述基板501表面的网状结构的黑色矩阵510，所述黑色矩阵510 存在间隙并露出所述基板501表面； 0086 位于所述基板501表面和相邻间隙之间的黑色矩阵510的边缘的色阻层515，所述 位于相邻间隙之间的黑色矩阵510的边缘的色阻层515的厚度小于位于所述基板501表面 的色阻层515的厚度。 0087 本实施例中形成的彩色滤光片，由于利用具有透光部、半透光部和遮光部的半灰 调掩膜板形成色阻层，形成的。

32、色阻层与黑色矩阵重叠部分的厚度小于非重叠部分的厚度， 所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表面的色阻层的厚 度的差值为0.10.7m，减小甚至消除了“牛角”。 0088 需要说明的是，在其他实施例中，所述黑色矩阵和色阻层均可以采用半灰调掩模 板来形成，其形成方法可以综合参考第一实施例和第二实施例，在此不再赘述。 0089 综上，本发明形成的位于所述基板表面、呈网状结构的黑色矩阵，由于采用具有透 光部、半透光部和遮光部的半灰调掩模板形成黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙，相邻的间 隙之间的黑色矩阵与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字型，然后形成色 阻层，所述色阻层。

33、位于所述间隙的基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘形成色阻层 厚，由于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘处的色阻层的厚度低于所述间隙的基板表面的色 阻层的厚度，因此可以减小甚至消除“牛角”，防止显示装置的像素边缘漏光。 0090 本发明的实施例中利用半灰调掩模板在基底表面和网状结构的黑色矩阵表面形 成色阻层，通过调整半灰调掩模板中透光部、半透光部和遮光部的位置，可以使得位于相邻 间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度，有效 减小甚至消除“牛角”，防止显示装置像素边缘漏光。 0091 进一步的，本发明的实施例采用半灰调掩膜板形成的黑色矩阵或色阻层，形成工 艺简单，半。

34、灰调掩膜板比较容易对准，且形成的色阻层的厚度均匀。 说 明 书CN 102830456 A 7/7页 10 0092 本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域 技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发 明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明 的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案 的保护范围。 说 明 书CN 102830456 A 10 1/4页 11 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 102830456 A 11 2/4页 12 图4 图5 图6 说 明 书 附 图CN 102830456 A 12 3/4页 13 图7 图8 图9 说 明 书 附 图CN 102830456 A 13 4/4页 14 图10 说 明 书 附 图CN 102830456 A 14 。