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一步法制备高纯三甲基镓的方法.pdf

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  • 文档编号:4216174
  • 上传时间:2018-09-07
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  • 摘要
    申请专利号:

    CN201110390184.3

    申请日:

    2011.11.30

    公开号:

    CN102503969A

    公开日:

    2012.06.20

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情:

    授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C07F 5/00申请日:20111130|||公开

    IPC分类号:

    C07F5/00

    主分类号:

    C07F5/00

    申请人:

    苏州普耀光电材料有限公司

    发明人:

    茅嘉原; 王士峰; 李敏; 洪海燕

    地址:

    215124 江苏省苏州市吴中区尹中南路228号

    优先权:

    专利代理机构:

    苏州创元专利商标事务所有限公司 32103

    代理人:

    陶海锋

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    内容摘要

    本发明属于含周期表第Ⅲ族元素的化合物的制备领域,涉及一步法制备高纯三甲基镓的方法,包括以下步骤:在惰性气体保护下,以聚乙二醇二甲醚为溶剂,以镓镁合金、金属镁为原料,边搅拌边将卤代甲烷加入反应体系,通过控制滴加速度控制反应速度;反应完成后,蒸馏去除低沸点物质,然后解配聚乙二醇类二甲醚溶剂和三甲基镓的配合物,得到三甲基镓。本发明工艺操作简单,反应状况稳定,方便控制,更安全。与传统工业化方法相比,原材料更便宜,反应产率高,安全性更强。且未反应的原材料可回收利用,大大降低的生产成本。原材料没有自然物质,反应过程安全系数高,特别适合工业化生产。

    权利要求书

    1: 一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 包括以下步骤 : 在惰性气体保护下, 以聚乙二醇二甲醚为溶剂, 以镓镁合金、 金属镁为原料, 边搅拌边将卤代甲烷加入反应体 系, 通过控制滴加速度控制反应速度, 制备聚乙二醇二甲醚溶剂和三甲基镓的配合物 ; 反应 完成后, 蒸馏去除低沸点物质, 然后解配聚乙二醇二甲醚溶剂和三甲基镓的配合物, 得到三 甲基镓。
    2: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 镓镁合金的 化学式为 GaxMgy, 金属镁的化学式为 Mgz, 其中 x=0.2 ~ 0.8, y=0.5 ~ 0.1, z=0.1 ~ 0.4, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。
    3: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 所述聚乙二醇 二甲醚为 : 四乙二醇二甲醚、 三乙二醇二甲醚、 二乙二醇二甲醚、 乙二醇二甲醚。
    4: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 所述卤代甲烷 为溴甲烷或碘甲烷。
    5: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 所述卤代甲烷 和原料镓镁合金、 金属镁中的镓的摩尔比为 3.5 ~ 9:1。
    6: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 蒸馏低沸点温 度为 60 ~ 100℃。
    7: 根据权利要求 1 所述一步法制备高纯三甲基镓的方法, 其特征在于, 解配温度为 120 ~ 220℃。

    说明书


    一步法制备高纯三甲基镓的方法

        【技术领域】
         本发明属于含周期表第Ⅲ族元素的化合物的制备领域, 涉及一种制备三甲基镓的方法。 背景技术 高纯三甲基镓等金属有机化合物广泛应用于生长铟镓磷 (InGaP) 、 铟镓砷氮 (InGaAsN) 、 铟镓砷 (InGaAs)等化合物半导体薄膜材料。是金属有机化学气相沉积技术 (MOCVD) 、 化学束外延 (CBE) 过程中生长光电子材料的最重要、 也是目前用量最大的原料。
         现有技术中, 三甲基镓的制备方法较多, 但能运用到工业化的方法很少, 常见的方 法即采用工业三甲基铝与三氯化镓进行烷基交换反应, 公开号为 CN 1763049A 的中国发明专利申请公开说明书公开了一种制造具有小于 0.1 ppm 总有机硅化合物含量的三甲基镓的方法包括 : 水解作为原料的三甲基铝 (小于 0.5 ppm 甲基三乙基硅烷含量的三甲基铝作为原材料) ; 以一溶剂萃取水解产物中所含有的有机硅 化合物 ; 籍由气相色谱 - 质谱法对甲基三乙基硅烷进行定量 ; 蒸馏提纯三甲基铝, 将提纯后 的三甲基铝与氯化镓反应已获得反应物 ; 蒸馏获得三甲基镓。
         原料三甲基铝 (TMA) 中的杂质中, 通常含有几 ppm 到几十 ppm 的有机硅化合物, 包 括: 四甲基硅烷 (TMS) 、 乙基三甲基硅烷 (ETMS) 、 甲基三乙基硅烷 (MTES) 、 四乙基硅烷 (TES) 等等。 如果原材料 TMA 中含有的 MTES 的含量不是小于 0.5 ppm, 则不可能获得具有小于 0.1 ppm 总有机硅化合物含量的三甲基镓。因为 MTES 的沸点几乎与 TMA 的沸点相同 (127℃) 而 且 MTES 在 TMG 生成的过程中会转化成 ETMS, 而 ETMS 沸点 (62℃) 的沸点接近 TMG 的沸点 (56℃) , 所以采用蒸馏提纯 TMG 时, 由 MTES 转化成的 ETMS 几乎不能被去除。
         因此, 上述技术中, 需要测定原料 TMA 中的 MTES 含量, 选择具有小于 0.5 ppm MTES、 或小于 0.3 ppm 甚至小于 0.1 ppm MTES 的 TMA, 使得反应之前和反应之后的蒸馏提纯 容易进行 ; 但是这样的选择一方面限制了原材料粗 TMA 的来源, 另一方面原材料成本高, 作 为工业化制备路线, 三甲基铝价格较高, 而三氯化镓则价格更显昂贵, 因此生产成本极高 ; 并且原料易燃, 存在安全隐患, 三甲基铝对空气、 水汽非常敏感, 遇空气自然, 遇水爆炸, 使 用时灌装、 转移反应等过程存在安全隐患。
         公开号为 CN 102020669 的中国发明专利申请公开说明书公开了一种工业化制备 三甲基镓的方法, 在充满惰性气体的反应釜中, 投入镓镁合金原料, 在醚类溶剂 (乙醚、 四氢 呋喃或甲基四氢呋喃) 存在下, 在搅拌条件下逐步加入卤代烷 (溴甲烷或碘甲烷) , 通过控制 卤代烷的滴加速度控制溶剂回流速度, 反应完成后, 将溶剂蒸出, 再在减压条件下得到三甲 基镓与醚的配合物, 最后解配得到三甲基镓 ; 其中, 所述镓镁合金为 GaxMgy, 其中, x=0.3 ~ 0.7, y=0.7 ~ 0.3, x+y=1, x、 y 为摩尔比。所述卤代烷与镓镁合金中镓含量的摩尔比为 3 ~ 6: 1。所述减压的压力为 1 ~ 100mmgH。所述解配的温度为 70 ~ 140℃。
         上述技术方案与三甲基铝置换法相比, 材料便宜, 反应产率高, 由于采用反应釜与 蒸发釜的分离, 未反应的合金仍在反应釜中继续反应, 总产率接近 95%, 副产物可以回收利
         用, 几乎没有废料 ; 且由于反应过程中采用的原料没有自燃物质, 反应过程安全, 特别适合 大规模工业化生产。同时, 由于采用双蒸发釜, 生产线连续运转, 生产效率大大提高。
         但是由于上述技术方案中采用的是低分子量的醚, 由于低分子量的醚和产物沸点 较接近, 所以在解配过程中会和目标产物一起蒸出, 从而影响其物质纯度。 发明内容 本发明的发明目的是提供一种一步法制备高纯三甲基镓的方法。
         为达到上述发明目的, 本发明采用的技术方案是 : 一步法制备高纯三甲基镓的方 法, 包括以下步骤 : 在惰性气体保护下, 以聚乙二醇二甲醚为溶剂, 以镓镁合金、 金属镁为原 料, 边搅拌边将卤代甲烷加入反应体系, 通过控制滴加速度控制反应速度, 制备聚乙二醇二 甲醚溶剂和三甲基镓的配合物 ; 反应完成后, 蒸馏去除低沸点物质, 然后解配聚乙二醇二甲 醚溶剂和三甲基镓的配合物, 得到三甲基镓。
         上 述 技 术 方 案 中, 镓 镁 合 金 的 化 学 式 为 GaxMgy, 金 属 镁 的 化 学 式 为 Mgz, 其中 x=0.2 ~ 0.8, y=0.5 ~ 0.1, z=0.1 ~ 0.4, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。
         上述技术方案中, 所述聚乙二醇二甲醚为 : 四乙二醇二甲醚、 三乙二醇二甲醚、 二 乙二醇二甲醚等。
         上述技术方案中, 所述卤代甲烷选自溴甲烷或碘甲烷 ; 所述卤代甲烷和原料金属 中的镓的摩尔比为 3.5 ~ 9:1。
         上述技术方案中, 所述蒸馏低沸点温度为 60 ~ 100℃。
         上述技术方案中, 所述解配温度为 120 ~ 220℃。
         由于上述技术方案运用, 本发明与现有技术相比具有下列优点 : 1.由于本发明中在原料中加入了镁单质, 金属镁单质在反应中可以加快反应的引发, 使原料反应的更加充分。节约成本, 提高利用率。
         2. 由于本发明中采用了高分子量的聚乙二醇二甲醚作为溶剂, 不仅可以提供一 个良好的反应环境, 同时也使得配位得到的三甲基镓和醚的配合物的沸点提高, 从而在 蒸馏去除杂质时, 可以很方便的与低沸点的杂质区分开, 从而方便了提纯 ; 最终可以获得 99.9999% 高纯度的三甲基镓。
         3. 本发明工艺操作简单, 反应状况稳定, 方便控制, 更安全。 与传统工业化方法相 比, 原材料更便宜, 反应产率高, 安全性更强。 且未反应的原材料可回收利用, 大大降低的生 产成本。原材料没有自然物质, 反应过程安全系数高, 特别适合工业化生产。
         附图说明
         图 1 是实施例所得三甲基镓的核磁谱图。具体实施方式
         下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述 : 实施例一 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.2, y=0.4, z=0.4, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 239g, 收率为 69%(按金属镓质量计算) 。
         收率计算如下 :其中 : mTMGa 为得到高纯三甲基镓的质量, MTMGa 为三甲基镓的分子量, MGa 为镓的分子量, mGa 为加入原料镓的质量。 实施例二 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 324g, 收率为 80%(按金属镓质量计算) 。
         实施例三 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.3, y=0.4, z=0.3, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 333g, 收率为 73%(按金属镓质量计算) 。
         实施例四 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.4, y=0.4, z=0.2, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 412g, 收率为 76%(按金属镓质量计算) 。
         实施例五 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.5, y=0.3, z=0.2, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 342g, 收率为 56%(按金属镓质量计算) 。
         实施例六 :
         将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.6, y=0.2, z=0.2, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 287g, 收率为 43%(按金属镓质量计算) 。
         实施例七 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.7, y=0.2, z=0.1, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 287g, 收率为 40%(按金属镓质量计算) 。
         实施例八 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.8, y=0.1, z=0.1, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 272g, 收率为 36%(按金属镓质量计算) 。
         实施例九 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1000g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 304g, 收率为 75%(按金属镓质量计算) 。
         实施例十 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1550g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 276g, 收率为 68%(按金属镓质量计算) 。
         实施例十一 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入四乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1305g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 247g, 收率为 61%(按金属镓质量计算) 。
         实施例十二 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入三乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 284g, 收率为 70%(按金属镓质量计算) 。
         实施例十三 : 将 500g 镓镁合金 GaxMgy 和金属镁 Mgz 投入反应釜中, 用惰性气体保护。其中 x=0.25, y=0.5, z=0.25, x+y+z=1, 其中 x、 y、 z 为摩尔比。加入二乙二醇二甲醚 1200g, 并在常温搅拌 条件下逐步滴加入 1950g 碘甲烷, 反应完成后, 在温度 60-100℃继续保持回流 6h, 蒸出低 沸点物质, 然后继续升高温度解配温度控制在 160-220℃, 得到高纯三甲基镓 227g, 收率为 56%(按金属镓质量计算) 。
         实施例十四 : 对实施例一所得三甲基镓进行核磁分析, 所得谱图参见图 1, 从图 1 中可知除了氘代苯 在 δ=7.12 处, 以及产品三甲基镓在 δ=-0.19 处峰外, 没有其他杂峰。从而可知得到的物 质为高纯的三甲基镓 ; 其他实施例所得三甲基镓的谱图与图 1 相似, 故略去。
         对实施例一所得三甲基镓进行纯度分析, 采用的方法为电感耦合等离子体 (ICP) 法, 由安姆特检测技术有限公司负责测试, 所得结果参见下表 :由上表可知 : 产品中其他元素的含量总和小于 1ppm, 产品的纯度达到了 99.9999% ; 其 他实施例所得三甲基镓的纯度分析结果也表明所得产品的纯度达到了 99.9999%。
         综上所述, 本发明反应平稳易于控制, 工艺简单, 非常易于工业化生产 ; 相比三 甲基铝置换反应, 反应效率高, 材料便宜, 由于直接采用高沸点配位剂代替溶剂参与反应, 操作流程相对更简单, 反应过程安全, 反应解配产物纯度较高, 特别适合大规模工业化生 产。
         本领域技术人员应当理解 : 以上所述仅是本发明的优选实施方式而已, 并非对本 发明做任何形式上限制, 对于本技术领域的普通技术人员来说, 在不脱离本发明原理的前 提下, 还可以做出若干改进和修饰, 这些改进与修饰也应视为本发明的保护范围。

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