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厚膜光刻胶清洗剂.pdf

  • 上传人：Y0****01
  • 文档编号：382892
  • 上传时间：2018-02-12
  • 格式：PDF
  • 页数：1
  • 大小：43.70KB
    • 摘要
    申请专利号：

    CN200880011333.7

    		 申请日：

    2008.04.03
    公开号：

    CN101652718A

    		 公开日：

    2010.02.17
    当前法律状态：

    驳回

    		 有效性：

    无权
    法律详情：

    发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):G03F 7/42申请公布日:20100217|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/42申请日:20080403|||公开
    IPC分类号：

    G03F7/42; H01L21/02; C23G1/06; C11D1/83

    		 主分类号：

    G03F7/42
    申请人：

    安集微电子（上海）有限公司
    发明人：

    史永涛; 彭洪修; 刘 兵
    地址：

    中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
    优先权：

    2007.4.13 CN 200710039482.1
    专利代理机构：

    上海翰鸿律师事务所

    		 代理人：

    李佳铭
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    内容摘要

    一种厚膜光刻胶清洗剂，其含有：二甲基亚砜、氢氧化钾、苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和烷基醇胺。该清洗剂可以除去金属、金属合金和电介质基材上的100μm以上厚度的厚膜光刻胶(光阻)。

    权利要求书

    1： PCT国内申请，权利要求书已公开。

    说明书


    ��内申请，说明书已公开。

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    光刻 洗剂
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