X射线成像设备.pdf

X射线成像设备，它包括一个球管(10)、一个准直器(20)、一个检查床(30)、一个成像探测器(40)、一个AEC电离室(50)和一个参考模板(60)。球管个可发射X射线。准直器用于控制X射线照射范围。检查床可承载X射线照射对象。成像探测器可记载X射线影像。AEC电离室设置于检查床和成像探测器之间，其上设有复数个工作区(52)。参考模板设置于球管和检查床之间，参考模块设有对应于工作区的复数个指示区(62)，工作区与指示区的形状相同，且沿X射线的照射方向上，工作区与指示区的投影重合。

1.  X射线成像设备，它包括：
一个可发射X射线的球管(10)；
一个用于控制X射线照射范围的准直器(20)；
一个可承载X射线照射对象的检查床(30)；
一个可记载X射线影像的成像探测器(40)；和
一个设置于所述检查床(30)和所述成像探测器(40)之间的AEC电离室(50)，其上设有复数个工作区(52)，
其特征在于：所述X射线成像设备还包括一个设置于所述球管(10)和所述检查床(30)之间的参考模板(60)，所述参考模块(60)设有对应于所述工作区(52)的复数个指示区(62)，所述工作区(52)与所述指示区(62)的形状相同，且沿所述X射线的照射方向上，所述工作区(52)与所述指示区(62)的投影重合。

2.  如权利要求1所述的X射线成像设备，其中所述参考模板(60)设置于所述准直器(20)。

3.  如权利要求1所述的X射线成像设备，其中所述X射线成像设备设有一个参考模板更换机构(70)，它包括：
一个驱动器(72)；和
一个参考模板安装架(74)，它设有复数个对应于不同所述AEC电离室(50)的所述参考模板(60)，当变换使用的所述AEC电离室(50)时，所述驱动器(72)可驱动所述安装架(74)运动，使得对应于变换后所述AEC电离室(50)的所述参考模板(60)进入X射线的传播路径。

4.  如权利要求1所述的X射线成像设备，其中所述驱动器(72)为电动机。

X射线成像设备
技术领域
本发明涉及一种用于X射线成像设备。
背景技术
现有的X射线成像设备中，自动曝光控制(Auto eXposure control，以下简称AEC)需要配合使用AEC电离室。图1显示了一种现有X射线成像设备的结构示意图。如图所示，AEC电离室80设置于成像探测器81和待成像者之间。当球管82射出的X射线经过准直器83后，照射于待成像者。穿过待成像者的X射线经过AEC电离室80后，由成像探测器81感光成像。
图2显示了AEC电离室的结构示意图。如图所示，AEC电离室80上设有5个工作区84，这些工作区可感知X射线的照射剂量，且依据X射线的照射剂量X射线成像设备可自动控制X射线的曝光时间。进行X射线成像时，沿X射线照射的路径上，待成像者的成像区域需要与这些工作区相互对应，使得经过待成像者的成像区域的X射线可经过这些工作区，即这些工作区可以准确获取成像区域的X射线的剂量，以此为X射线曝光自动控制提供准确的感测信号。
由于AEC电离室设置于待成像者和成像探测器之间，X射线成像设备的操作者无法判断待成像者的成像区域是否与工作区相互对应。
发明内容
本发明的目的是提供一种X射线成像设备，使得X射线成像设备的操作者可判断待成像者的成像区域是否与工作区相互对应。
本发明提供了一种X射线成像设备，它包括一个球管、一个准直器、一个检查床、一个成像探测器、一个AEC电离室和一个参考模板。球管个可发射X射线。准直器用于控制X射线照射范围。检查床可承载X射线照射对象。成像探测器可记载X射线影像。AEC电离室设置于检查床和成像探测器之间，其上设有复数个工作区。参考模板设置于球管和检查床之间，参考模块设有对应于工作区的复数个指示区，工作区与指示区的形状相同，且沿X射线的照射方向上，工作区与指示区的投影重合。
在X射线成像设备的再一种示意性的实施方式中，参考模板设置于所述准直器。
在X射线成像设备的另一种示意性的实施方式中，X射线成像设备设有一个参考模板更换机构，它包括一个驱动器和一个参考模板安装架。参考模板安装架设有复数个对应于 不同AEC电离室的参考模板，当变换使用的AEC电离室时，驱动器可驱动安装架运动，使得对应于变换后AEC电离室的参考模板进入X射线的传播路径。
在X射线成像设备的又一种示意性的实施方式中，驱动器为电动机。
附图说明
以下附图仅对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。
图1显示了一种现有X射线成像设备的结构示意图。
图2显示了AEC电离室的结构示意图。
图3显示了X射线成像设备一种示意性实施方式的结构示意图。
图4显示了图3中AEC电离室的结构示意图。
图5显示了图3中参考模板的结构示意图。
图6显示了X射线成像设备另一种示意性实施方式的结构示意图。
标号说明
10        球管
20        准直器
30        检查床
40        成像探测器
50        AEC电离室
52        工作区
60        参考模块
62        指示区
70        参考模块更换机构
72        驱动器
74        参考模板安装架。
具体实施方式
为了对发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式，在各图中相同的标号表示相同的部分。
在本文中，“示意性”表示“充当实例、例子或说明”，不应将在本文中被描述为“示意性”的任何图示、实施方式解释为一种更优选的或更具优点的技术方案。
为使图面简洁，各图中的只示意性地表示出了与本发明相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的 部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。
在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。
在本文中，“第一”、“第二”等仅用于彼此的区分，而非表示它们的重要程度及顺序等。
图3显示了X射线成像设备一种示意性实施方式的结构示意图。图4显示了图3中AEC电离室的结构示意图。图5显示了图3中参考模板的结构示意图。参见图3、图4和图5，X射线成像设备包括一个球管10、一个准直器20、一个检查床30、一个成像探测器40、一个AEC电离室50和一个参考模板60。
其中，球管10可发射用于成像的X射线。球管10可使用任何一种己知的结构，在此不再赘述。
球管10发射的X射线经过准直器20时，准直器20可控制通过其的X射线的照射区域。准直器20可使用任何一种己知的结构，在此不再赘述。
检查床30用于承载X射线的照射对象，在图中所示的实施方式中，X射线的照射对象为待成像者特定的成像区域。检查床30可使用任何一种己知的结构，在此不再赘述。
成像探测器40用于感测穿过照射对象的X射线，据此形成X射线成像图像。成像传感器40可使用任何一种己知的结构，在此不再赘述。
AEC电离室50设置于检查床30和成像探测器40之间。AEC电离室50设有复数个(例如五个)第一感测场52，这些第一感测场52对应于电离室的位置，通过对X射线的照射剂量的感测，实现X射线触发的自动曝光控制。为了保证X射线成像的清晰度，穿过成像区域的X射线需要通过AEC电离室的第一感测场，使得这些第一感测场可以准确的感测成像区域X射线的照射剂量。
参考模板60设置于球管10和检查床30之间。参考模板60设有与AEC电离室50的工作区52相对应的指示区62。工作区52与指示区62的形状相同，且沿X射线的传播方向上，工作区52和指示区62的投影的重合。
在X射线成像的准备阶段，当待成像者处于检查床时，X射线成像设备的操作者可以从球管的位置，观察待成像者与参考模板的相对位置关系，即沿X射线的传播方向上，X射线成像设备的操作者可以判定出待成像者的成像区域是否能够充分的遮挡参考模板的指示区。由于指示区与工作区的形状相同，且沿X射线的传播方向上，工作区和指示区的投影的重合，使得X射线成像设备的操作者准确地判定出待成像者的成像区域与工作区的相对位置关系，实现X射线成像设备的自动曝光控制功能能够准确地控制好X射线曝光剂 量，保证X射线成像的清晰度。
图6显示了X射线成像设备另一种示意性实施方式的结构示意图，图中与图3相同的结构在此不再赘述。如图6所示，参考模板60设置于准直器20中。X射线成像设备还设有一个参考模板更换机构，它包括一个驱动器72和一个参考模板安装架74。
其中，参考模板安装架74设有复数个参考模板60，这些参考模板60与不同的AEC电离室50相对应，当变换X射线成像使用的AEC电离室50时，可以相应地在参考模板安装架74上找到对应的参考模板60。另外，当变换X射线成像使用的AEC电离室50时，驱动器72可输出动力至参考模板安装架74，驱动参考模板安装架74切换进入X射线传播路径上的参考模板60，在X射线的传播路径上，使得变换后的AEC电离室50的工作区52与变换后的参考模板60的指示区62的形状相同，且沿X射线的照射方向上，变换后的AEC电离室50工作区52与变换后的参考模板60的指示区62的投影重合。
在X射线成像设备一种示意性实施方式中，驱动器为电动机。
通过设置参考模板更换机构，且将参考模板设置于准直器中，可以通过简单的操作来实现参考模板的更换，极大地方便了X射线成像装置的操作者。
本发明的实施例公开了一种X射线成像设备，它包括一个球管、一个准直器、一个检查床、一个成像探测器、一个AEC电离室和一个参考模板。球管个可发射X射线。准直器用于控制X射线照射范围。检查床可承载X射线照射对象。成像探测器可记载X射线影像。AEC电离室设置于检查床和成像探测器之间，其上设有复数个工作区。参考模板设置于球管和检查床之间，参考模块设有对应于工作区的复数个指示区，工作区与指示区的形状相同，且沿X射线的照射方向上，工作区与指示区的投影重合。
应当理解，虽然本说明书是按照各个实施例描述的，但并非每个实施例仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施例的具体说明，它们并非用以限制本发明的保护范围，凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方案或变更，如特征的组合、分割或重复，均应包含在本发明的保护范围之内。