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1、(10)申请公布号 CN 102928893 A(43)申请公布日 2013.02.13CN102928893A*CN102928893A*(21)申请号 201110181189.5(22)申请日 2011.06.29G02B 1/10(2006.01)B24B 37/04(2012.01)B24B 29/02(2006.01)(71)申请人蒋菊生地址 215552 江苏省常熟市辛庄镇旺倪桥村(18)罗家浜75号(72)发明人方亚琴 蒋菊生(54) 发明名称一种光学平面基片的制作方法(57) 摘要本发明属于光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法；其特征在于它包含有依次进。
2、行的以下步骤：选取原材料、预成型、仿形、研磨、抛光、清洗、检验。本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。(51)Int.Cl.权利要求书1页 说明书3页 附图1页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 1 页1/1页21.一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：第一步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板。
3、；第二步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；第三步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；第四步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；第五步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光完成形成抛光片；第六步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；第七步：检验：对清洗片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，。
4、挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。2.一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：第一步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板；第二步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；第三步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；第四步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；第五步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光。
5、完成形成抛光片；第六步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；第七步：贴膜：在清洗片表面贴上透光薄膜形成了贴膜基片；第八步：检验：对贴膜基片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。3.根据权利要求1或2所述的任意一种光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液具有以下成份：二氧化硅1540(重量)；氧化钠0.3(重量)；重金属及杂质40ppb；纯净水：二氧化硅、氧化钠、重金属及杂质三者重量之和的120倍；所述抛光液的密度为1.1g/ml1.2g/ml。4.根据权利要求3所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述。
6、抛光液中的重金属为铜。5.根据权利要求1至3所述的任意一种光学平面基片的制作方法，其特征在于所述研磨油中按重量计包含有以下成份：硼酸盐1030、多元醇520、阴离子表面活性剂515、润滑剂510、防锈剂510、去离子水或纯净水1560、氧化钠510。6.根据权利要求5所述的任意一种光学平面基片的制作方法，其特征在于所述多元醇为乙二醇或甘油或山梨醇；所述阴离子表面活性剂为羧酸盐或硫酸酯盐或磺酸盐或磷酸酯盐；所述润滑剂为如硅油或硅酸酯或磷酸酯或氟油；所述防锈剂为市售的YG-901型防锈剂。权 利 要 求 书CN 102928893 A1/3页3一种光学平面基片的制作方法技术领域0001 本发明属于。
7、光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法。背景技术0002 随着科学技术的进步，光学仪器使用日益增多，而光学仪器中通常会使用到平面基片，平面基片在我们的四周处处可以看到，如：CD、HD、LD、VCD、DVD、CD-ROM和CVD等光盘基片；手机面板、MP3面板、摄像头玻片、精密仪表面板等等，都属于平面基片；现有技术中，平面基片的制作采用手工的较多，因此，制作时间长、产品间的差异大、效率低下，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度相对较差；然而，社会对于这类产品的需求增长是相当惊人的，因此，现有技术已不能满足要求。发明内容0003 为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种光学。
8、平面基片的制作方法，它可大大提高生产效率，它是采用以下技术方案来实现的：0004 一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：0005 第1步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板；0006 第2步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；0007 第3步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；0008 第4步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；0009 第5步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进。
9、行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光完成形成抛光片；0010 第6步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；0011 第7步：检验：对清洗片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。0012 一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：0013 第1步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板；0014 第2步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；0015 第3步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮。
10、廓的芯取片；0016 第4步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；0017 第5步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光完说 明 书CN 102928893 A2/3页4成形成抛光片；0018 第6步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；0019 第7步：贴膜：在清洗片表面贴上透光薄膜形成了贴膜基片；0020 第8步：检验：对贴膜基片进行粗糙度、平行度、。
11、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。0021 上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液具有以下成份：二氧化硅1540(重量)；氧化钠0.3(重量)；重金属及杂质40ppb；纯净水：二氧化硅、氧化钠、重金属及杂质三者重量之和的120倍；所述抛光液的密度为1.1g/ml1.2g/ml。0022 上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液中的重金属为铜。0023 上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述研磨油中按重量计包含有以下成份：硼酸盐1030、多元醇520、阴离子表面活性剂515、润滑剂510、防锈剂510、去离子水或纯净。
12、水1560、氧化钠510。0024 上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述多元醇为乙二醇或甘油或山梨醇；所述阴离子表面活性剂为羧酸盐或硫酸酯盐或磺酸盐或磷酸酯盐；所述润滑剂为如硅油或硅酸酯或磷酸酯或氟油；所述防锈剂为市售的YG-901型防锈剂。0025 本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。附图说明0026 图1是本发明实施实例1的原理框图；0027 图2是本发明实施实例2的原理框图。具体实。
13、施方式0028 下面结合附图对本发明作进一步详细的描述。0029 实施实例10030 请见图1，一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：0031 第10步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板；0032 第20步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；0033 第30步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；0034 第40步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；0035 第50步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行。
14、抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光完成形成抛光片；说 明 书CN 102928893 A3/3页50036 第60步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；0037 第70步：检验：对清洗片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。0038 实施实例20039 请见图2，一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：0040 第10步：选取原材料：选取厚度为0.1mm1.0mm的基片母板；0041 第20步：预成型：。
15、采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；0042 第30步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；0043 第40步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为2028；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；0044 第50步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为3240，抛光压力150250g/cm2；抛光完成形成抛光片；0045 第60步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；0046 第70步：贴膜：在清洗片表面贴上透光薄。
16、膜形成了贴膜基片；0047 第80步：检验：对贴膜基片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。0048 当然，上述所述的任一种光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液具有以下成份：二氧化硅1540(重量)；氧化钠0.3(重量)；重金属及杂质40ppb；纯净水：二氧化硅、氧化钠、重金属及杂质三者重量之和的120倍；所述抛光液的密度为1.1g/ml1.2g/ml。0049 进一步地，上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液中的重金属为铜。0050 当然，上述所述的任一种光学平面基片的制作方法，其特征在于所述研磨油中按重量计包含。
17、有以下成份：硼酸盐1030、多元醇520、阴离子表面活性剂515、润滑剂510、防锈剂510、去离子水或纯净水1560、氧化钠510。0051 进一步地，上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述多元醇为乙二醇或甘油或山梨醇；所述阴离子表面活性剂为羧酸盐或硫酸酯盐或磺酸盐或磷酸酯盐；所述润滑剂为如硅油或硅酸酯或磷酸酯或氟油；所述防锈剂为市售的YG-901型防锈剂。0052 本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。0053 本发明不局限于上述最佳实施方式，应当理解，本发明的构思可以按其他种种形式实施运用，它们同样落在本发明的保护范围内。说 明 书CN 102928893 A1/1页6图1图2说 明 书 附 图CN 102928893 A。