可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102886928 A(43)申请公布日 2013.01.23CN102886928A*CN102886928A*(21)申请号 201210429282.8(22)申请日 2012.11.01B32B 9/04(2006.01)B32B 15/04(2006.01)C03C 17/36(2006.01)C23C 14/35(2006.01)C23C 14/16(2006.01)C23C 14/08(2006.01)C23C 14/18(2006.01)(71)申请人上海耀皮玻璃集团股份有限公司地址 201204 上海市浦东新区莲溪路1210号1号楼申请人上海耀皮工程。

2、玻璃有限公司(72)发明人陈波吴斌孙大海葛剑君董华明(74)专利代理机构上海东亚专利商标代理有限公司 31208代理人罗习群刘莹(54) 发明名称可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺(57) 摘要本发明提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该玻自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/电介质层（1）+复合吸收层（1）+银层（1）+保护层（1）+电介质层（1）+保护层（2）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃优良的光学性能相结合，使得离线低辐射玻璃能够单片使用。(51)Int.Cl.权利要求书1页说明书3页(19)中华人民共。

3、和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书 1 页说明书 3 页1/1页21.一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：该镀膜玻璃的膜层结构，自玻璃基板向外依次为：电介质层（1）、复合吸收层（1）、银层（1）、保护层（1）、电介质层（1）、保护层（2）；其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为35nm70nm;复合吸收层（1）为：金属镀层、金属化合物层、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物镀层二层结构；或金属化合物镀层、金属镀层二层结构；其中金属材料为Ti，或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V；金属化合物为，ZnOx，或AZO，或SiNx。

4、，或SiO2，或SnO2，或TiOx，或ZrO2，或TiNx，或NbOx，或NbNx；该复合吸收层总厚度为5nm30nm;银层（1）为Ag，膜层厚度为5nm15nm;保护层（1）为NiCr或Ti，膜层厚度为2nm15nm;保护层（2）为金属化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx较致密的材料，膜层厚度为10nm25nm。2.按权利要求1所述可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃的镀制工艺，其中一种优选的各膜层的镀制工艺是：电介质层（1），通过交流阴极的硅铝靶在氩氮氛围中溅射；复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合。

5、金层上镀制由交流阴极的陶瓷氧化锌靶溅射的ZnOx层，其氩氧比例保持在20：1.5，再在氧化锌层上通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；其总厚度为5nm30nm；银层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；保护层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；电介质层（1），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射；保护层（2），通过直流平靶在氧气氛围中溅射氧化锆。权利要求书CN 102886928 A1/3页3可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺技术领域0001 本发明涉及一种新型的可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及生产工艺。

6、。背景技术0002 市场上目前使用的低辐射镀膜玻璃，因其膜层中的功能层银层非常容易被大气中的氧气和水所氧化，失去低辐射的功能，这种玻璃都必须生产成中空玻璃，将镀膜层放置在中空玻璃腔体内使用，才有低辐射功能。这样不仅增加了生产工序，也增加了玻璃幕墙的重量。发明内容0003 为解决前述低辐射玻璃存的问题，本发明提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺。该玻璃的膜层结构，自玻璃基板向外依次为：电介质层（1）、复合吸收层（1）、银层（1）、保护层（1）、电介质层（1）、保护层（2）；其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为35nm70nm;复合吸收层（1）为：金属镀层、金属化合物层、。

7、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物层二层结构；或金属化合物层、金属层二层结构；其中金属材料为Ti或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V；金属化合物为，ZnOx，或AZO，或SiNx，或SiO2，或SnO2，或TiOx，或ZrO2，或TiNx，或NbOx，或NbNx；该复合吸收层总厚度为5nm30nm;该复合吸收层总厚度为5nm30nm;银层（1）为Ag，膜层厚度为5nm15nm;保护层（1）为NiCr或Ti，膜层厚度为2nm15nm;保护层（2）为金属化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx较致密的材料，膜层厚度为10nm25nm。。

8、0004 本发明采用真空磁控溅射镀膜工艺, 其中一个优选组合的各膜层的镀制工艺是：电介质层（1），通过交流阴极的硅铝靶在氩氮氛围中溅射；复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合金层上镀制由交流阴极的陶瓷氧化锌靶溅射的ZnOx层，其氩氧比例保持在20：1.5，再在氧化锌层上通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；其总厚度为5nm30nm；银层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；保护层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；电介质层（1），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射。

9、；保护层（2），通过直流平靶在氧气氛围中溅射氧化锆。说明书CN 102886928 A2/3页40005 本发明优点是，在保证镀膜玻璃低辐射性能的同时，其膜层保护性能优异，耐磨损性能较好，可以像热反射镀膜玻璃一样进行单片使用。具体实施方式0006 本发明用平板玻璃双端连续式镀膜机进行生产，其中一种最优选的工艺方案，使用3个交流圆靶，4个直流单靶，共7个靶位进行生产，制出本发明的可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃。其工艺参数和靶位列表如下：说明书CN 102886928 A3/3页5本发明是将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃的优良的光学性能相结合，成为一种可以单片使用的低辐射镀膜玻璃。本产品主要有两方面的改进，在底层结构上增加复合结构的吸收层，更加充分的保护银层不被玻璃中的钠离子所侵袭，并且在顶层外增加了一层更加致密的保护层，可以更有效的阻止银层被大气中的氧气和水所氧化。说明书CN 102886928 A。

摘要
申请专利号：	CN201210429282.8	申请日：	2012.11.01
公开号：	CN102886928A	公开日：	2013.01.23
当前法律状态：	撤回	有效性：	无权
法律详情：	发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):B32B 9/04申请公布日:20130123\|\|\|实质审查的生效IPC(主分类):B32B 9/04申请日:20121101\|\|\|公开
IPC分类号：	B32B9/04; B32B15/04; C03C17/36; C23C14/35; C23C14/16; C23C14/08; C23C14/18	主分类号：	B32B9/04
申请人：	上海耀皮玻璃集团股份有限公司; 上海耀皮工程玻璃有限公司
发明人：	陈波; 吴斌; 孙大海; 葛剑君; 董华明
地址：	201204 上海市浦东新区莲溪路1210号1号楼
优先权：
专利代理机构：	上海东亚专利商标代理有限公司 31208	代理人：	罗习群;刘莹
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内容摘要

本发明提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该玻自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/电介质层（1）+复合吸收层（1）+银层（1）+保护层（1）+电介质层（1）+保护层（2）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃优良的光学性能相结合，使得离线低辐射玻璃能够单片使用。

权利要求书

权利要求书一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：该镀膜玻璃的膜层结构，自玻璃基板向外依次为：
电介质层（1）、复合吸收层（1）、银层（1）、保护层（1）、电介质层（1）、保护层（2）；
其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为35nm～70nm;
复合吸收层（1）为：金属镀层、金属化合物层、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物镀层二层结构；或金属化合物镀层、金属镀层二层结构；其中金属材料为Ti，或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V；金属化合物为，ZnOx，或AZO，或SiNx，或SiO2，或SnO2，或TiOx，或ZrO2，或TiNx，或NbOx，或NbNx；该复合吸收层总厚度为5nm~30nm;
银层（1）为Ag，膜层厚度为5nm~15nm;
保护层（1）为NiCr或Ti，膜层厚度为2nm~15nm;
保护层（2）为金属化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx较致密的材料，膜层厚度为10nm~25nm。
按权利要求1所述可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃的镀制工艺，其中一种优选的各膜层的镀制工艺是：
电介质层（1），通过交流阴极的硅铝靶在氩氮氛围中溅射；
复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合金层上镀制由交流阴极的陶瓷氧化锌靶溅射的ZnOx层，其氩氧比例保持在20：1.5，再在氧化锌层上通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；其总厚度为5nm~30nm；
银层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；
保护层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，
其中Ni:Cr=80:20；
电介质层（1），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射；
保护层（2），通过直流平靶在氧气氛围中溅射氧化锆。

说明书

说明书可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺
技术领域
本发明涉及一种新型的可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及生产工艺。
背景技术
市场上目前使用的低辐射镀膜玻璃，因其膜层中的功能层银层非常容易被大气中的氧气和水所氧化，失去低辐射的功能，这种玻璃都必须生产成中空玻璃，将镀膜层放置在中空玻璃腔体内使用，才有低辐射功能。这样不仅增加了生产工序，也增加了玻璃幕墙的重量。
发明内容
为解决前述低辐射玻璃存的问题，本发明提供一种可单片
使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺。该玻璃的膜层结构，自玻璃基板向外依次为：
电介质层（1）、复合吸收层（1）、银层（1）、保护层（1）、电介质层（1）、保护层（2）；
其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为35nm～70nm;
复合吸收层（1）为：金属镀层、金属化合物层、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物层二层结构；或金属化合物层、金属层二层结构；其中金属材料为Ti或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V；金属化合物为，ZnOx，或AZO，或SiNx，或SiO2，或SnO2，或TiOx，或ZrO2，或TiNx，或NbOx，或NbNx；该复合吸收层总厚度为5nm~30nm;
该复合吸收层总厚度为5nm~30nm;
银层（1）为Ag，膜层厚度为5nm~15nm;
保护层（1）为NiCr或Ti，膜层厚度为2nm~15nm;
保护层（2）为金属化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx较致密的材料，膜层厚度为10nm~25nm。
本发明采用真空磁控溅射镀膜工艺, 其中一个优选组合的各膜层的镀制工艺是：
电介质层（1），通过交流阴极的硅铝靶在氩氮氛围中溅射；
复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合金层上镀制由交流阴极的陶瓷氧化锌靶溅射的ZnOx层，其氩氧比例保持在20：1.5，再在氧化锌层上通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；其总厚度为5nm~30nm；
银层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；
保护层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，
其中Ni:Cr=80:20；
电介质层（1），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射；
保护层（2），通过直流平靶在氧气氛围中溅射氧化锆。
本发明优点是，在保证镀膜玻璃低辐射性能的同时，其膜层保护性能优异，耐磨损性能较好，可以像热反射镀膜玻璃一样进行单片使用。
具体实施方式
本发明用平板玻璃双端连续式镀膜机进行生产，其中一种最优选的工艺方案，使用3个交流圆靶，4个直流单靶，共7个靶位进行生产，制出本发明的可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃。其工艺参数和靶位列表如下：

本发明是将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃的优良的光学性能相结合，成为一种可以单片使用的低辐射镀膜玻璃。本产品主要有两方面的改进，在底层结构上增加复合结构的吸收层，更加充分的保护银层不被玻璃中的钠离子所侵袭，并且在顶层外增加了一层更加致密的保护层，可以更有效的阻止银层被大气中的氧气和水所氧化。