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有机真空镀膜掩膜板的制作方法.pdf

  • 上传人:Y94****206
  • 文档编号:1533150
  • 上传时间:2018-06-22
  • 格式:PDF
  • 页数:7
  • 大小:251.57KB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN00131360.6

    申请日:

    2000.11.01

    公开号:

    CN1291660A

    公开日:

    2001.04.18

    当前法律状态:

    终止

    有效性:

    无权

    法律详情:

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)授权公告日:2003.12.31|||授权|||公开|||实质审查的生效申请日:2000.11.1

    IPC分类号:

    C23C14/04

    主分类号:

    C23C14/04

    申请人:

    吉林大学;

    发明人:

    高文宝; 李传南; 杨开霞; 刘式墉

    地址:

    130012吉林省长春市朝阳区前卫路10号

    优先权:

    专利代理机构:

    吉林大学专利事务所

    代理人:

    崔丽娟

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    内容摘要

    本发明公开了一种在有机电致发光器件制作过程中,用于真空镀膜的掩膜板及其制作加工技术,它是在线切割及光刻腐蚀的基础上,利用齿(8)、槽(9)对镍铬合金丝(12)进行限位,从而形成精细的掩膜板,分辨率为3条线/mm,可实现平板显示屏的矩阵选址。

    权利要求书

    1: 一种用于有机真空镀膜的条状掩膜板,其特征在于掩膜板上的掩 膜条线是由通过齿(8)和刻槽(9)固定的合金丝(12)而形成,并且其 两端焊在掩膜板背部(16)附有焊锡(11)的铁条(10)上。
    2: 一种制作权利要求1所述的掩膜板的方法,其特征是先在钢板(7) 上用线切割方法割出等间距的齿(8),再用光刻腐蚀的方法刻蚀出槽 (9),此后把柔韧的合金丝(12)定位在齿(8)和刻槽(9)里。
    3: 实现权利要求2所述的掩膜板的方法,其特征在于把合金丝(12) 的一端先焊在一侧铁条(10)上,另一端在拉伸过程中焊接在另一例的 铁条(10)上,等焊锡(11)冷却以后再停止拉伸。

    说明书


    有机真空镀膜掩膜板的制作方法

        本发明涉及一种在有机发光领域,用于真空蒸镀掩膜的掩膜板的制作方法,通过该掩膜板可蒸出条状的有机物膜或金属条线。

        在有机发光领域,为制作高信息含量的显示屏就要实现矩阵选址,就是要形成如图1所示的垂直相交的正负电极条线。

        目前国外公司如日本柯达公司均采用光刻技术在刻出铟锡氧化物条线(1)的玻璃衬底(6)上形成与铟锡氧化物条线(1)相垂直的梯形光刻胶条或氧化物介质条线(2),以便在大面积蒸镀金属电极(3)时把金属电极(3)隔开,形成条状,如图3,实现矩阵选址。这种方法,需要特殊的光刻胶(4),国内目前还没有。另外铟锡氧化物条线(1)在去胶显影过程中也易被污染,增加了蒸镀有机物膜层(5)之前的清洁处理难度。

        目前通用的另一种方法是利用掩模板蒸镀的方法,可以很方便地形成彼此分开的金属电极条线(3),而这就需要制作条状掩膜板。对于1-2条线/mm的掩模板可用线切割直接在钢板上割出条线的方法制备,但在3条线/mm或更多时,线切割实现不了。因为线条很细较长时,机械加工易使其条线弯曲变形,边缘会出现毛刺,同时也易断。而且因为这种掩膜板要在真空系统中用机械手来操作,要求有一定强度,厚度应该在1mm左右,而这个厚度光刻腐蚀也很难制作。另外利用2条线/mm或以上的掩膜板做蒸镀时,如果线条间距与掩膜板的厚度相比很小时,则会形成如图4所示的侧壁吸附现象,因此又要求掩膜板的掩膜部分尽量薄。

        本发明的目的是提供一种简单实用的方法,可充分利用线切割、光刻腐蚀这些技术,实现3条线/mm地掩膜板如图11的制作。

        为达上述目的,本发明是在钢板(7)上用线切割方法割出等间距的齿(8),再用光刻腐蚀的方法腐蚀出与齿(8)相对应的直线槽(9),在掩膜板的背面(16)固定两个截面为矩形的细长铁条(10),上面附有焊锡(11),此后把镍铬合金丝(12)限位在齿(8)和刻槽(9)里,并将其两端焊在铁条(10)上。

        本发明的好处在于可根据实际情况的需要相应调整板的尺寸、齿(8)间距{槽(9)间距}、齿(8)宽{槽(9)宽},以及合金丝(12)的长度、直径,可得到比较精密实用的掩膜板,并且可以反复利用。利用此项技术做成的掩膜板,在器件制备过程中得到了良好的应用效果。

        下面结合附图对本发明作详细说明。

        图1为实现矩阵选址的垂直相交的正负电极条线示意图。

        图2为光刻铟锡氧化物条线与梯形光刻胶条或氧化物介质条线相垂直的示意图。

        图3为实现矩阵选址的显示屏结构的侧示图。

        图4为蒸镀掩膜时形成侧壁吸附现象的示意图。其中13、14、15分别为样品表面、掩膜板、蒸发源。

        图5至图10为制作掩膜板工艺过程示意图。

        图11为3条线/mm的有机真空镀膜掩膜板示意图。

        在图5所示的厚度为1mm的钢板(7)上用线切割方法,开三个长方形孔A、B、C,其中C的长度视蒸镀面积而定。再在A、B上割出如图6所示的长为0.3mm,间距为0.16mm,齿宽为0.173mm的齿(8)。

        在A、C方孔之间,B、C方孔之间的长条上用光刻腐蚀方法腐蚀出如图7所示的和齿(8)相对应的直线槽(9),槽宽为0.16mm,间距为0.173mm,深为0.2mm。

        在掩膜板的背面(16)如图8所示的位置上固定两个截面为矩形的细长铁条(10),上面附有焊锡(11),侧视图如图9所示。

        用柔韧性较好的镍铬合金丝(Φ0.15mm)(12),按图10所示一端先焊在一侧铁条(10)上,通过A孔卡在齿(8)里,穿到正面(17),将之限位于相应的槽(9)中,拉紧后同时限位在对面相应的槽(9)中,卡在齿(8)里,穿到背面(16),拉伸过程中将之焊在另一铁条(10)上,冷却后再停止拉伸。依此操作可得到间距平均、线条笔直的掩膜板。

        本发明不局限于上述的长方形掩膜板,圆形或其它形状的掩膜板,只要在其上用齿和刻槽进行限位,利用合金丝形成条状掩膜以及在掩膜板的背部用焊接的方法固定合金丝的方法,均属于本专利的保护范围。

    关 键  词:
    有机 真空镀膜 掩膜板 制作方法
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