通过等离子体蒸发的电镀方法和设备 技术领域 本发明涉及用于钢基体的等离子体电镀的方法和设备， 这些钢基体处于薄片、 工 字钢、 板及型材的形式， 具有各种类型的横截面， 也能是零件， 这些零件布置在例如钩或吊 篮之类的支撑件上， 借助于任何类型的普通装置， 如辊子床、 或单轨运输系统， 运输到处理 区中。
背景技术 在这种方法中， 要处理的基体， 在之前已经由碱脱脂和酸洗的已知技术去污、 接着 通过冲洗和干燥、 或由机械磨蚀 - 例如借助于喷丸机去污之后， 被引入到等离子体电镀设 备中， 该等离子体电镀设备是本发明的目的， 并且在大气压以下的气压下运行。一般地， 系 统在氩气下在 0.0005 和 0.05mbar(0.05-5Pa) 之间的压强下运行。
设备优选地包括用来引入和也可能取出待被处理基体的真空闸， 后面有真空处理 槽， 及在用来取出电镀基体的真空闸处终止， 或者当基体通过用来引入待被处理的零件的 真空闸进入和离开时， 包括存储槽。 在后一种情况下， 基体在设备中首先在一个方向上并且 然后在相反方向上运动， 以便返回上一个真空闸。
用来引入和取出基体的一个或两个真空闸的使用， 使得有可能维持其中处理总是 免于有空气地进行的区域， 这是这种方法正确运行的基本点， 具体地说， 为了避免在钢与锌 之间的任何氧化界面的存在， 并因而保证锌涂层对于钢的最佳粘附。
根据本发明的设备包括一个或多个通过离子轰击侵蚀用于钢表面活化的部分。 可 想到用来进行这种处理的各种装置。例如， 在文件 WO 02/12591 中描述的用于钢的磁控蚀 刻的装置， 该装置使用磁性反射镜来约束在待被处理的基体周围的放电 ； 或使用感应等离 子体源， 通过相对于面对它的阳极使基体负偏压与由直流发生器产生的离子的加速相匹 配， 或使用离子枪。 在所有情况下， 必须能够根据每单位时间通过这种装置的钢基体的面积 来管理蚀刻装置的功率， 具体地说， 当钢基体不在处理区域中时， 切断到用于钢基体的等离 子体活化源的供电。 这是因为在这种情况下， 除能量的不必要使用之外， 有通过加热设备的 壁损坏设备的危险。 相反， 当基体进入这个处理区域时， 必须能够起动和逐渐增大等离子体 活化源的功率。
设备也包括一个或多个锌等离子体蒸发电镀部分。 这种方法， 在文件 WO 02/16664 中已经知道和描述， 使用保持容器， 借助于在锌蒸汽中产生的等离子体， 通过相对于构成阳 极的反电极平均来说使液体锌负偏压， 用来将一定量的锌维持在液体状态下和蒸发它。保 持容器经进料管供有液体锌， 该进料管浸入在位于真空腔室中的真空炉中保持的备用锌 中， 与到电镀真空容器的任何气体通道相隔离， 并且在该电镀真空容器中， 通过调节气体压 力， 有可能调节在保持容器中的液体锌的液位， 该保持容器位于其中电镀发生的真空罐中。 在锌蒸汽中产生的等离子体一般借助于磁控放电而得到。 在保持容器上方的锌蒸汽压取决 于在液体锌的表面上耗散的电功率， 并且固定有可能在钢基体上每单位时间沉积的锌的重 量。这种蒸汽压可以获得一般与按几 kg/min 蒸发的锌质量相对应的几 mbar。因此有必要
的是， 如在文件 WO 02/16664 中已经描述那样， 提供具有加热壁的约束腔室， 以防止锌蒸汽 通过凝结在除基体之外的所有冷表面上来污染整个设备， 这些冷表面一般在环境温度下。 进口和出口开口提供在这个约束腔室中， 以便使待被涂敷的基体能够穿过。因此通过锌蒸 汽直接在固体状态下在通过约束腔室的基体的冷表面上的凝结， 得到锌涂层。基体表面的 温度典型地小于 150℃。
因此便利的是， 根据在约束腔室中每单位时间通过的钢基体的面积， 能够调整输 送到等离子体的、 和在保持容器中的液体锌的表面上经由从等离子体发出的离子的轰击而 散发的电功率。 具体地说， 根据本发明， 当在约束腔室中不存在基体时， 切断这个电源， 并且 相反， 当基体进入约束腔室时， 起动和逐渐增大在液体锌的表面上散发的电功率。这样做， 从而不仅保证在基体表面上的锌的均匀厚度， 而且特别是当没有任何基体通过约束腔室 时， 限制约束腔室的进口和出口开口的锌的损失。 这是因为， 除锌和能量的经济方面浪费之 外， 如果锌污染不被控制， 则通过等离子体蒸发， 锌污染可能严重地损坏电镀设备。
因此， 设备的处理装置具有当基体正在通过处理装置之一时按相同工序运行的优 点， 该工序包括 ：
●当基体进入处理装置时， 对处理装置加电 ； ●与通过处理装置的基体的面积成比例地增大供给到处理装置的功率， 直到当基 体完全通过处理装置时， 达到方法的额定工作功率 ；
●恒定额定处理功率的维持取决于基体的速度， 当基体从端到端地通过处理装置 时；
●当基体从装置露出并且不再从端到端通过时， 与在装置中的基体的面积成比例 地减小供给到处理装置的功率 ；
●在不存在基体的情况下， 切断供电处理装置的电源。
根据本发明， 在等离子体蒸发电镀设备中这种工序在基体通过期间的启动、 在操 作工况下的维持、 及然后每个处理装置的停止， 使得防止污染并且节省能量。
为了设备运行的灵活性的原因， 如果至少一个存在探测器位于进口处并且至少一 个探测器位于每个处理装置的出口处， 则有可能将待被处理的基体用作用于各个处理单元 的触发器。 根据本发明的设备因此在每个处理装置的进口处和出口处， 就是说， 相对于与等 离子体蒸发电镀单元相对应的每个等离子体或蚀刻活化单元和每个约束腔室的基体通过 方向在上游和下游， 包括探测器。
待被处理的基体、 或构成这些基体的产品 - 通过应用的本质具有基本可变的长度 和横截面， 在进口闸一释放时， 就可以按或高或低的精度布置在设施的进口处。必要的是， 提供一种用来调节基体在设备中的前进的系统、 以及一种用来调节设备的各个处理装置对 于基体的前进而伺服运行的系统。这是为了避免以上已经提到的问题， 例如污染和能量损 失， 而且也为了在最佳操作条件下对具有不同几何形状的基体的处理给予最大灵活性的目 的。这种调节独立于待被处理的基体 - 例如在辊子上运输的或在钩之间悬挂的和由单轨输 送系统运输的长基体、 或在穿过各个处理装置的单轨上运输的在吊篮中布置的零件， 的运 输模式。
本发明因此涉及每个处理装置的独立运行， 该每个处理装置伺服由位于这些处理 装置每一个的上游和下游的探测器探测的被处理基体的前进。
各个处理装置 - 当基体通过时起动和停止， 的独立管理可便利地由设备的如下分 级管理实施 ：
●主程序使设备能够放置在工作条件下， 能够为了维持对于大气再次打开， 及在 操作中， 使真空闸和钢基体的运动为了其从设备的真空闸 ( 一个或多个 ) 的快速引入和排 出能够控制在运输速度下， 并且当基体在设备的各个处理装置中的处理期间能够控制在一 般较低的处理速度下。
●每个处理装置的从程序由关于基体存在的至少两个探测器致动， 一个探测器位 于处理装置的进口处， 并且另一个位于处理装置的出口处。当达到过程的运行所要求的物 理条件时， 从程序受由主程序传输的信号控制。 在实际中， 当设备的处理部分彻底达到额定 氩气压强 - 该压强典型地在 0.0005 与 0.05mbar 之间 - 时， 得到这个主信号。每个从程序 的特征在于与如以前已经提到的那样供给电功率的控制类似的工序 ； 启动、 功率增大斜坡 到工作工况、 当基体由进口和出口探测器探测时维持工作工况、 与装置相匹配 ( 耦合 ) 的功 率的减小斜坡、 及当没有任何基体被两个探测器探测到时切断功率。
等离子体蒸发电镀设备的控制的这种分级结构， 构成根据本发明的设备的实施的 一个具体方面。 电镀设备 - 对于它当探测到基体通过每个处理装置时这个处理装置由从程序独 立地起动和停止， 的这种分级控制的巨大优点是， 简单地通过增加进口和 / 或出口真空闸 的真空泵送容量、 以及从加载区域到闸、 或相反地从真空闸到排出区域的运输速度， 能够减 小基体通过设施的进口和出口真空闸 ( 一个或多个 ) 进入和离开设施期间的非生产性等待 时间， 而没有对于设备管理软件的修改。
当在处理过程中的基体的运输由主程序控制时， 因此必须使用用来将基体从加载 区域运动到真空闸、 或从真空闸运动到排出区域的基体运输速度， 该运输速度要尽可能高， 并因此至少大于当基体通过设备的各个处理装置时使用的处理速度。
附图说明 本发明的其它细节和特征将从下面作为根据本发明的设备的和方法的具体实施 例的非限制例子、 参照附图给出的描述显现。
图 1 是根据本发明的用于钢基体的等离子体蒸发电镀线的示意表示。
图 2 是根据本发明的设备的一部分的例子的示意表示， 这部分包括三个等离子体 处理装置。
图 3 表示包括具有真空罐和运输罐的装置的典型布置， 该真空罐具有离子源。
图 4 表示两个电镀装置， 这些装置的每一个之前是运输和泵送罐。
在各个图中， 相同附图标记涉及类似或相同元素。
具体实施方式
根据本发明的设备包括批量等离子体蒸发电镀线， 并且基本上如图 1 所示包括 ：
●用来引入基体的区域 1， 它可以如图 1 所示包括辊子床， 用来引入诸如工字钢之 类的长基体。基体运输系统是机动辊子床运输系统。当然可想到其它运输系统， 如用来悬 挂基体和将它们从区域 1 运输到设备的各个其它区域的单轨运输系统 ；●进口真空闸 2， 它使得有可能将相邻处理区域 3 连续地保持在真空下在要求的 氩气压强下， 并因而避免由于空气的引入而污染处理区域。要求的氩气压强典型地在 0.05 和 5Pa 之间。
●多个处理区域， 包括一个基体等离子体活化的区域 3 和两个等离子体电镀区域 4 和 5。区域 4 和 5 在操作模式中被连续地维持在部分氩气压强下， 优选地在 5×10-4 和 5×10-2mbar 之间 ；
●出口闸 6， 用来将基体从处理区域 3、 4 及 5 排出到出口和排出区域 7， 同时维持 这些区域免于有空气。
在根据本发明的设备的可选择实施例中， 当基体在已经完全进入处理区域 3、 4及 5 之后， 通过运输系统的运动方向的颠倒而返回到进口闸 2 时， 进口真空闸 2 也用作出口真 空闸。在这种情况下， 真空存储容器可提供在图 1 中的出口真空闸 6 处。
显然的是， 当基体的处理发生在从引入区域 1 向处理区域 3、 4 及 5 的一个方向上， 并且然后在从这些处理区域 3、 4 及 5 向引入区域 1 的另一个方向上时， 基体的排出和出口 区域 7 是不必要的， 这也使得有可能， 除了节省闸和这个基体运输区域之外， 实现具有较短 长度的设备。 图 2 表示在等离子体电镀设备中使用的典型处理元件的例子。处理区域包括如下 相继的元件 ：
●容器 8， 装有用于钢表面的等离子体活化装置 9。在图中未表示的基体悬空地通 过这个容器 8。
●容器 10， 用于基体的高真空泵送和运输。这个容器 10 使得有可能， 在相邻活化 容器 8 和镀锌容器 11 中维持氩气工作压强。这个容器 10 也使得有可能， 在机动辊子上支 撑通过该容器 10 的基体和向前运动基体。
●等离子体镀锌容器 11， 用来在钢基体在活化容器 8 中等离子体活化之后， 电镀 钢基体。
●第二高真空泵送容器 12， 用于基体的运输。
●第二等离子体镀锌容器 13， 用来电镀钢基体。
进口真空闸 2 由密封门 14 与活化容器 8 分离， 该密封门 14 将全部处理区域 3、 4 及 5 与这个真空闸 2 隔离， 如在图 3 中更详细表明的那样。基体在密封门 14 打开之后， 经 进口真空闸 2 从引入区域 1 被引入到包括等离子体活化装置 9 的活化容器 8 中。初始未供 电的装置 9， 在由探测器 15 一探测到基体， 就被致动， 该探测器 15 安装在到活化容器 8 的进 口处。在这个活化容器的出口处， 提供用于基体的第二探测器 16。
施加到等离子体活化装置 9 上的电功率， 与基体通过在两个探测器 15 和 16 之间 的空间的长度成比例地逐渐增大， 直到当两个探测器 15 和 16 由基体在活化容器 8 中的存 在致动时， 它到达正常工作功率。进口探测器 15 一不再致动， 供给到活化装置 9 的电功率 就与基体保留在两个探测器 15 和 16 之间的长度成比例地减小， 直到当基体由进口基体或 由出口探测器 16 探测不到时， 切断电功率。
在等离子体电镀设备的这种具体构造中， 基体在机动辊子床 17 上被运输， 机动辊 子床 17 位于进口真空闸 2 中， 并且位于运输容器 10 和高真空泵送容器 12 中。显然的是 ： 其它运输装置， 例如单轨 - 它正好端到端地穿过进口真空闸 2、 活化容器 8 及运输和泵送容
器 10， 使得有可能悬置要被处理的基体及使活化装置 9 按几何关系能够与要被处理的负载 的通过相适应， 使得有可能完成与具有机动辊子床 17 的工作台相同的功能 ； 并且这种运输 装置， 对于经基体进口探测器 15 和出口探测器 16 的基体等离子体活化装置 9 的调节没有 影响， 该进口探测器 15 和出口探测器 16 在真空容器 8 中用于等离子体活化装置 9 的上游 和下游。
在基体的表面在活化装置 9 中已经被活化之后， 基体在运输和泵送容器 10 中的辊 子床工作台 17 上被导向第一等离子体电镀容器 11， 在该处它被悬空， 并且然后在悬空地通 过第二等离子体电镀容器 13 之前， 再次由在运输和泵送容器 12 中的辊子床工作台 17 支撑 和运输。
借助于柔性管 18 提供为在运输容器 10 和 12 与等离子体电镀容器 11 和 13 之间的 高真空设计的密封连接， 该密封连接使要被电镀的基体能够从一个容器转到另一个容器。 优选地， 这些柔性连接 18 固定到运输和泵送容器 10 和 12 上， 并且由未表示的千斤顶抵靠 电镀容器 11 和 13 上机加工的法兰来夹持。这种具体构造的优点是允许包括工作台的电镀 容器 11 和 13 的使用， 在该工作台上布置钟罩形式的容器顶部部分， 该顶部部分在维修期间 可完全除去或升起， 因而提供对于在对应容器内布置的设备的最大可达性。
电镀容器 11 和 13 分别形成对应电镀装置 19 和 20 的一部分。电镀处理装置 19 和 20 分别包括 ：
●真空容器 21， 包含炉 22， 该炉 22 用来将备用的液体锌保持在熔化状态下并调节 温度， 以便供给位于对应电镀容器 11 或 13 中的坩埚 23。在真空容器 21 与对应电镀容器 11 或 13 之间的连接借助于供给管 24 专门地和分别地提供。这根管 24 是气密的， 并且应当 -4 使得有可能将在电镀容器 11 或 13 中的恒定氩气压强典型地保持在 5×10 和 5×10-2mbar 之间， 而在包含炉 22 的真空容器 21 中的氩气或氮气压强可以典型地在 0.1 与 2000mbar 之 间变化。这是必须的， 以便使得有可能分别通过降低或增大在包含炉 22 的真空容器 21 中 的气体压强， 将对应的电镀容器 11 或 13 中提供的坩埚 23 排空或向其供给液体锌。
●所述电镀真空容器 11 或 13 包含等离子体电镀设备， 该等离子体电镀设备包括 顶部由锌蒸汽约束腔室 25 覆盖的所述坩埚 23， 该锌蒸汽约束腔室 25 在通过它要被电镀的 基体的近处约束锌蒸汽。约束腔室 25 的壁一般由常规装置通过焦尔效应加热， 从而锌不能 以固体形式或液体形式凝结在其上。 一般地， 约束腔室 25 的壁的内部温度在 400°与 500℃ 之间。约束腔室 25 具有进口开口 26 和出口开口 27。在约束腔室 25 的每个开口 26 和 27 的附近， 并且分别在电镀容器 11 或 13 内， 提供基体存在探测器 28 和 29， 使得有可能当基体 按照以上已经公开的方案通过时， 调节与用于锌蒸发的等离子体相匹配的电功率。导电坩 埚 23- 它一般由高密度石墨制成， 借助于管 24 经在真空容器 21 中的气体压强的调节而被 供有液体锌。坩埚 23 相对于位于约束腔室 25 内的阳极 ( 未表示 ) 平均来说加负电偏压。 一般地提供磁路， 该磁路位于坩埚 23 下面， 并且使得有可能实现由在坩埚 23 中包含的液体 锌的表面上的等离子体能量散发产生的锌蒸汽的磁控放电。在基体的处理期间， 当只有基 体进口探测器 28 被致动时， 施加到等离子体上的电功率与基体通过在两个探测器 28 和 29 之间的空间的长度成比例地逐渐增大， 直到当两个探测器 28 和 29 由基体的存在致动时， 它 到达正常工作功率。基体进口探测器 28 一不再被致动， 但出口探测器 29 仍然被致动， 供给 到用于锌蒸发的等离子体的电功率， 就与基体保留在两个探测器 28 和 29 之间的长度成比例地减小， 直到当基体不再由位于约束腔室 25 的基体进口和出口开口附近的探测器中的 任一个探测到时， 切断电功率。对腔室 25 上游的进口探测器 28、 或腔室 25 下游的出口探 测器 29 的标定， 仅取决于探测器相对于基体行进方向的位置。作为结果， 尽管探测器 28 和 29 在按单方向运行的设备中具有绝对的进口或出口特征， 但关于仅具有一个闸并因此首先 在一个方向上和然后在另一个方向上运行的设备， 情况并不是这样。 在这种情况下， 在基体 行进的一个方向上的进口探测器成为在相反方向上的出口探测器， 并且反之亦然。
当基体由薄片制成时， 进口探测器 15 和 28 和出口探测器 16 和 29 也可测量薄片 的宽度， 以便例如确定在关心的处理区域中出现的薄片的面积。
本发明的操作条件和具体配置
a) 在处理期间对气体压强的管理
主程序控制密封门 14 的打开和关闭、 以及连接到各相应真空容器上的真空泵 30 的接通和断开， 以便当闸 2 和 6 不处于在处理区域 3、 4 及 5 中实行的氩气压强以下的压强 时， 通过借助于进口闸 2 和出口闸 6 的密封门 14 隔离这些区域， 保持在设施的处理区域 3、 4 及 5 中的恒定气体压强。一般地， 氩气在这些区域中为在 0.05 与 5Pa 之间， 优选地在 0.5Pa 左右的压强。 b) 在生产期间的行进系统
行进系统的特征在于有两种不同的速度范围 ： 运送速度， 它是用于真空闸 2 和 6 的 进口和出口的快速前进速度 ； 和用于电镀的处理速度， 它较慢。这是基本的， 以通过限制基 体从真空闸中的进入和退出时间来保证足够的生产率。运送速度比处理速度高， 以便限制 过渡效应。一般地， 处理速度在 30m/min 以下， 并且运送速度高于 20m/min。
基体的前进由在完全处理循环期间位于在由基体行进的路径上的基体存在探测 器控制， 并且由主程序控制。在使基体能够通过的每个真空密封门 14 的上游和下游有至少 一个基体存在探测器， 并且在处理区域 3、 4 及 5 中的每件处理设备的上游分别有至少一个 基体存在探测器 15、 28， 和在其下游分别有至少一个基体存在探测器 16、 29。由相对于密封 门 14 或一件处理设备的上游和下游探测器传输的信号的控制使得有可能确定基体通过的 开始和结束。
由主程序控制的基体前进取决于在进口闸 2 和出口闸 6 与处理区域 3、 4 及 5 之间 的密封隔离门 14 的打开， 这种打开本身取决于在设备的这些处理区域 3、 4 及 5 中实行的气 体压强的测量结果。
c) 处理设备的伺服控制
通过由分别位于等离子体处理装置上游的至少一个基体存在探测器 15 和 28、 和 分别位于其下游的至少一个基体存在探测器 16 和 29 对于基体的探测， 每件处理设备受基 体的前进的控制。
d) 处理设备的管理
每个处理装置 9、 19 及 20 由专用于这个处理装置的从程序控制， 该从程序控制其 起动， 控制与为了处理供给的等离子体相匹配的电功率的增大、 维持、 及减小， 及最后根据 由位于所述装置上游和下游的探测器传输的信号控制电功率的切断。 当只有进口探测器 15 或 28 被致动时， 与等离子体相匹配的功率与位于上游进口探测器与下游出口探测器之间 的基体的面积成比例地增大。 当两个探测器 15 和 16 或相应的 28 和 29 由基体致动时， 与等
离子体相匹配的功率是额定值。当只有相对于基体的行进在下游的出口探测器 16 或 29 被 致动时， 与等离子体相匹配的功率与位于两个探测器之间的基体的面积成比例地减小。基 体存在探测器可根据任何原理运行， 不管它是机械的、 磁的、 电学的还是光学的。
e) 用来管理等离子体电镀单元的从程序的特定功能
参照图 4 和考虑等离子体电镀装置 19 或 20， 用来管理等离子体电镀装置 19 或 20 的从程序包括如下功能。
●通过任何手段进行控制， 例如通过称重、 电接触或光学测量， 并且通过对在包含 炉 22 的真空容器 21- 它存储备用的液体锌 - 中的气体压强起作用， 经在坩埚 23 的底部显 露的供给管 24 维持在坩埚 23 中的液体锌的液位 ；
●将约束腔室 25 的内壁维持在最小恒定温度下 - 它典型地在 400°与 500℃之 间， 以便防止其中锌以液体或固体形式的任何凝结 ；
●经连接到坩埚 23 上的电源， 控制与在锌蒸汽中形成的等离子体相匹配的功率， 该控制由进口探测器 28 和出口探测器 29 按如下方式提供 ：
○当进口探测器 28 和出口探测器 29 不被致动时， 电源就不输送为了在约束腔室 25 中产生等离子体的任何功率， 或者更一般地输送最小功率 ； ○当进口探测器 28 由基体的存在而致动时， 与等离子体相匹配的并由电源提供 的功率， 与在约束腔室 25 中包含的基体的面积成比例地增大， 以便当进口探测器 28 和对应 的出口探测器 29 被致动时达到由电源输送的恒定额定功率 ；
○当进口探测器停止由基体致动时， 与等离子体相匹配的功率与在约束腔室 25 中包含的基体的面积成比例地逐渐减小 ；
○当进口探测器 28 和出口探测器 29 都不活动时， 电源不再供给任何功率， 或者更 一般地输送最小功率。
在其中基体从第二电镀装置 20 运动到第一电镀装置 19 的情况下， 过程相对于两 个探测器 28 和 29 颠倒， 因为在这种情况下， 相对于等离子体电镀装置， 进口探测器 28 成为 出口探测器， 并且出口探测器 29 成为进口探测器。
实际应用的例子
图 1 至 4 所示的设备使长的钢基体能够被等离子体镀锌。 这个设备包括 ： 基体加载 工作台 31， 在引入区域 1 中 ； 进口真空闸 2 ； 基体处理区域 3、 4 及 5， 始终维持在 0.005mbar 的氩气下 ； 出口真空闸 6 ； 及在出口区域 7 中基体排出工作台 32。
位于用于基体进、 出设备的两个进口和出口真空闸 2 和 6 之间的处理区域包括处 理区域 3， 用来通过离子轰击而活化钢基体的表面， 去除任何表面氧化物或污染以便提供锌 沉积的良好粘附。 这个处理区域 3 后面有设有扩散泵 30 的运输和高真空泵送容器 10、 第一 等离子体电镀容器 11、 第二运输和泵送容器 12、 及最后是第二等离子体电镀容器 13。该第 二等离子电镀容器 13 通过密封门 14 与出口真空闸 6 相连接。当在真空闸 2 或 6 中实行的 残余空气压强大于 10-4mbar 时， 处理区域具体地由密封门 14 与进口真空闸 2 和出口真空闸 6 相隔离。运输系统包括机动辊子床 17， 并且基体从引入区域 1 向出口区域 7 穿过设备地 运输。
设备设计成处理在加载工作台 1 上大批放置的长基体， 如最长 12m 的混凝土条和 工字钢。因而基体包括彼此并排延伸的多个产品。根据被处理基体的几何形状和希望的锌
层厚度， 每批可电镀的钢的重量典型地在 500kg 和 1300kg 之间。
处理工序包括如下步骤 ：
●将基体加载到载加工作台 31 上 ；
●通过关闭密封门 14 将处理区域 3、 4 及 5 与进口真空闸 2 相隔离 ；
●再次打开进口真空闸 2 于空气中 ；
●打开与进口区域 1 相邻的进口闸 2 的外部密封门 14 ；
●按 60m/min 的运输速度将基体引入直至进口真空闸 2 的底部， 通过借助于负载 存在探测器 33 探测在进口闸 2 的底部处的负载头部， 停止辊子床 17 ；
●关闭进口真空闸 2 的外部密封门 14 ；
●将进口真空闸 2 置在高真空下 ；
●打开在进口真空闸 2 与第一处理区域 3 之间的中间密封门 14 ；
●使要被处理的负载按其 9m/min 的处理速度前进 ；
●由进口探测器 15 和出口探测器 16 致动在第一处理区域 3 中的表面的等离子体 活化处理 ；
●由进口探测器 28 和出口探测器 29 致动在电镀装置 19 中的等离子体蒸发电镀 处理 ； ●由对应进口探测器 28 和出口探测器 29 致动在第二电镀装置 20 中的等离子体 蒸发电镀处理 ；
●当在出口真空闸 6 的底部处探测到基体时， 再次关闭在第二电镀装置 20 与这个 出口真空闸 6 之间的密封门 14 ；
●再次打开出口真空闸 6 于空气中 ；
●当在出口真空闸 6 中达到大气压强时， 这个闸 6 的外部密封门打开 ；
●按 60m/min 的运输速度将基体带出出口真空闸 6， 直到在排出区域 7 中探测到排 出工作台 32 的端部 ；
●从排出工作台 32 排出基体 ；
●关闭出口真空闸 6 的外部密封门 14 ；
●将出口真空闸 6 置于高真空下 ；
●打开在出口真空闸 6 与第二电镀装置 20 之间的内部密封门 14。
在 60m/min 的运输速度下， 将待被处理的基体引入到进口真空闸 2 中用的时间、 或 基体从出口真空闸 6 到排出工作台 32 的退出时间， 只有 12 秒左右， 而在 9m/s 的处理速度 下用于进口真空闸 2 的释放时间是 80 秒左右。在这种设备中， 与用于在出口真空闸 6 中的 新循环的 3.41 分钟相对照， 用于在进口真空闸 2 中的新循环的时间是 4 分钟。因此正是与 进口真空闸 2 的操作循环的时间相对应的较长时间， 将这个设备的生产率限制到大约 19 吨 每小时。
这个实际例子表示按最高可能运输速度工作的优点， 以便减少等待时间和增大设 备的生产率。
加载工作台 31 可一释放就被加载。当没有任何负载在进口真空闸 2 中被探测到 时， 后者被隔离， 并且再次置于大气压力。 相同的原理应用于出口真空闸 6、 并且在每个处理 单元上游和下游的进口和出口探测器经从程序能够实现对于过程必需的电功率的管理， 系
统可在其由用来释放进口真空闸 2 的时间确定的最大生产量与由工作台 31 的加载限制的 较低生产量之间运行， 而不要求设施的全部运动和过程的集中管理， 因为过程的管理取决 于在设备的各个处理装置的上游和下游的基体的探测。
一旦设备准备好生产， 当在处理区域 3、 4 及 5 中达到 0.005mbar 的额定氩气压力 并且两个等离子体电镀单元 19 和 20 的坩埚 23 被供有液体锌时， 主程序就管理待被处理的 基体从加载工作台 31 到排出工作台 32 的尽可能快的通过， 同时提供如下工序 ： 进口真空闸 2 和出口真空闸 6 放置在真空下和对于大气的再次打开 ； 以及分别在 60m/min 的运输速度 和 9m/min 的处理速度下， 基体从进口真空闸 2 到活化容器 8 和从电镀装置 20 到出口真空 闸 6、 及在处理区域 3、 4 及 5 之间的运输。
活化区域 3 包括基体的等离子体活化的装置， 该装置包括由射频 (RF) 发生器供给 的感应等离子体源、 和面对它的阳极， 该阳极借助于直流 (DC) 发生器， 向基体的表面加速 -3 由感应源产生的氩离子。当在活化容器 8 中达到氩气的 5×10 mbar 的压强时， 随着基体通 过进口探测器 15 和出口探测器 16， 经如下逻辑程序管理等离子体活化装置 ：
IF(“探测器 15” ＝通 (ON)， 并且 “探测器 16” ＝断 (OFF))THEN
RF 功率通
直流功率斜坡上升
ELSEIF(“探测器 15” ＝通， 并且 “探测器 16” ＝通 )THEN
RF 功率通
直流功率到额定值
ELSEIF(“探测器 15” ＝断， 并且 “探测器 16” ＝通 )THEN
RF 功率通
直流功率斜坡下降
ELSEIF(“探测器 15” ＝断， 并且 “探测器 16” ＝断 )THEN
直流功率断
RF 功率断
当在电镀区域 4 的电镀容器 11 中达到 5×10-3mbar 的氩气压强， 约束腔室 25 的内 壁处于 500℃， 及另外坩埚 23 被供有液体锌时， 随着基体通过进口探测器 28 和出口探测器 29， 经如下逻辑程序管理等离子体锌涂敷装置 19 ：
IF(“探测器 28” ＝通， 并且 “探测器 29” ＝断 )THEN
“坩埚 23” Zn 液位控制
等离子体功率斜坡上升
ELSEIF(“探测器 28” ＝通， 并且 “探测器 29” ＝通 )THEN
“坩埚 23” Zn 液位控制
等离子体功率到额定值
ELSEIF(“探测器 28” ＝断， 并且 “探测器 29” ＝通 )THEN
“坩埚 23” Zn 液位控制
等离子体功率斜坡下降
ELSEIF(“探测器 28” ＝断， 并且 “探测器 29” ＝断 )THEN
等离子体功率至最小值应该注意， “最小值” 在一定情况下可以指电源的纯粹和简单切断。一切都取决于 维持在坩埚 23 中包含的液体锌的温度必需的功率， 以便防止其固化。一般地， 由约束腔室 25 的炽热壁辐射的功率足够， 并且在这种情况下可切断电源 ( 等离子体功率断 )。