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层体系以及用于制造层体系的涂覆方法.pdf

  • 上传人:小**
  • 文档编号:1253095
  • 上传时间:2018-04-10
  • 格式:PDF
  • 页数:11
  • 大小:627.34KB
  • 摘要
    申请专利号:

    CN200980157517.9

    申请日:

    2009.07.02

    公开号:

    CN102333907A

    公开日:

    2012.01.25

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情:

    实质审查的生效IPC(主分类):C23C 28/00申请日:20090702|||公开

    IPC分类号:

    C23C28/00; C23C28/04; C23C14/06; C23C14/22; C22C27/02

    主分类号:

    C23C28/00

    申请人:

    苏舍梅塔普拉斯有限责任公司

    发明人:

    J. 韦特; G. 埃肯斯

    地址:

    德国贝吉施-格拉德巴赫

    优先权:

    2009.02.27 EP 09153956.9

    专利代理机构:

    中国专利代理(香港)有限公司 72001

    代理人:

    周铁;林森

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    内容摘要

    本发明涉及一种用于在基材(100)表面,特别是工具表面、尤其是成形工具表面上形成表面层的层体系,其中所述层体系包括至少一个组成为(VaMebMcXd)α(NuCvOw)β的第一表面层,其中对于层中存在的N、C、O原子,(a+b+c+d)=α,α=100%,层中所有原子的总和(α+β)=100at%,其中适用40≤α ≤ 80at%,且其中Meb为选自由化学元素周期表中的Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、W、Ni、Cu、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm组成的化学元素组的至少一种元素,Mc为选自由Ti、Cr组成的化学元素组的至少一种元素,Xd为选自由元素周期表中的S、Se、Si、B组成的化学元素组的至少一种元素,且0≤u≤100,0≤v≤100和0≤w≤80。根据本发明,50 ≤ a ≤ 99,1 ≤ b ≤ 50,0 ≤ c ≤ 50且0 ≤ d ≤ 20。

    权利要求书

    1: 用 于 在 基 材 (100) 表 面、 特 别 是 在 成 形 工 具 表 面 上 形 成 表 面 层 的 层 体 系, 其 中 所 述 层 体 系 包 括 至 少 一 个 组 成 为 (VaMebMcXd)α(NuCvOw)β 的 第 一 表 面 层, 其中对于层 中 存 在 的 原 子 V a、 Meb、 Mc、 Xd, (a+b+c+d)=α, α=100%, 对 于 层 中 存 在 的 原 子 N、 C、 O, (u+v+w)=β,β=100%, 层中所有原子的总和 (α+β)=100 at%, 其中适用 40 ≤ α ≤ 80 at%, 且其中 Meb 为选自由化学元素周期表中的 Zr、Hf、Nb、Ta、 Mo、 W、 Ni、 Cu、 Sc、 Y、 La、 Ce、 Pr、 Nd、 Pm、 Sm 组成的化学元素组的至少一种元素 ; Mc 为选自由 Ti、 Cr 组成的化学元素 组的至少一种元素 ; Xd 为选自由元素周期表中的 S、 Se、 Si、 B 组成的化学元素组的至少一种 元素, 其中 0 ≤ u ≤ 100, 0 ≤ v ≤ 100 和 0 ≤ w ≤ 80, 其特征在于 50 ≤ a ≤ 99, 1 ≤ b ≤ 50, 0 ≤ c ≤ 50 且 0 ≤ d ≤ 20。
    2: 据权利要求 1 所述的层体系, 其中 40 ≤ α ≤ 80, 特别是 45 ≤ α ≤ 55。
    3: 据权利要求 1 或 2 所述的层体系, 其中 80 ≤ a。
    4: 据前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中 c=0 且 d=0 且 v=0 且 w=0。
    5: 据前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中 Meb 为元素 Zr。
    6: 据权利要求 4 或 5 所述的层体系, 其中 a=80。
    7: 据权利要求 4 或 5 所述的层体系, 其中 a=84。
    8: 据权利要求 4 或 5 所述的层体系, 其中 a=88。
    9: 据权利要求 4 或 5 所述的层体系, 其中 a=97。
    10: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V95Me5)α(NuCvOw)β 的 组成, 其中 u=30, v=65, w=5, 且其中 Me 优选地为 Ni。
    11: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V96Me4)α(NuCvOw)β 的 组成, 其中 u=65, v=25, w=10, 且其中 Me 优选地为 Ce。
    12: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V75Me15X10)αNβ 的组 成, 其中 Me 优选地为 Mo, 和 / 或 X 优选地为 S。
    13: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V75Me15X10)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=25, v=70, w=5, 其中 Me 优选地为 Mo, 和 / 或 X 优选地为等份的 Si 和 B。
    14: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V75Me15M10)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=25, v=70, w=5, Me 优选地为 Mo, 和 / 或 M 优选地为 C, 且 α 为 52 at%。
    15: 权利要求 1-3 中任一项所述的层体系, 其中所述表面层具有 (V96Zr4)α(NuCvOw)β 的 组成, 其中 u=0, v=100, w=0, 且 α=40 at%。
    16: 前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中 40 ≤ α ≤ 60, 特别是 45 ≤ α ≤ 55, 优选地 α ≈ 50。
    17: 前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中在所述表面层与基材之间还提供了另 一个部分层, 该部分层特别是直接施加在所述基材表面上的粘合层。
    18: 权利要求 17 所述的层体系, 其中所述部分层为组成为 V97Zr3 的粘合层。
    19: 权利要求 17 或 18 所述的层体系, 其中所述部分层为组成为 V80Zr20 的粘合层。
    20: 权利要求 17-19 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层的组成为 (Al55Ti45)γNδ, 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 优选地 γ ≈ 50, 且所述部分层特别是为粘 合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    21: 权利要求 17-20 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层组成为 (Al69Cr29Mg1Si1) 2 102333907 A CN 102333922 γ δ 权 利 要 求 书 2/2 页 N , 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特 别是为粘合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    22: 权利要求 17-21 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层组成为 (Al60Cr30Mg5Si5) 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特 γNδ, 别是为粘合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    23: 权利要求 17-22 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层组成为 (Cr91Ni3Al3Si3) 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特 γNδ, 别是为粘合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    24: 权利要求 17-23 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层为 TiN 部分层, 特别是粘 合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    25: 权利要求 17-24 中任一项所述的层体系, 其中所述部分层为 Cr 部分层, 特别是粘合 层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
    26: 前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中所述层体系和 / 或部分层和 / 或表面层 的 HK 0.025 硬度为 1500-3500, 特别是 1900-3100, 尤其是 2100-2900。
    27: 前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中所述层体系和 / 或部分层和 / 或表面 层的厚度在 0.01μm-100μm 之间, 特别是在 0.1μm-8μm 之间, 并优选地在 0.2μm-7.5μm 之间。
    28: 前 面 权 利 要 求 中 任 一 项 所 述 的 层 体 系, 其 中 所 述 层 体 系 表 面 粗 糙 度 Rz 在 0.2μm-10μm 之间, 尤其是在 0.5μm-5μm 之间, 优选地在 0.5μm-1.5μm 之间。
    29: 前面权利要求中任一项所述的层体系, 其中所述层体系和 / 或部分层和 / 或表面层 的粘附强度在 HF 1 到 HF 3 的范围内, 特别是为 HF 2, 优选地为 HF 1。
    30: 制造根据前面权利要求中任一项所述的层体系 (1) 的涂覆方法, 其中所述涂覆方 法为 PVD 方法, 优选地为电弧涂覆方法如电弧法、 溅射法或电弧涂覆法与溅射法的组合方 法。

    说明书


    层体系以及用于制造层体系的涂覆方法

        本发明涉及一种用于在基材上, 特别是在工具表面上、 具体地说在用于成形的工 具表面上形成表面的层体系, 以及根据相应类型的独立权利要求的前序部分所述的用于制 造层体系的方法。
         高效工具和零件的制造一般是通过涂覆其表面来实现的。 一类重要的所述涂覆基 材是工具, 其中特别是用于成形的工具, 还有切削工具和零件, 在所有可能的实施方案中尤 其是机器的磨损件。被涂覆的典型基材材料特别是工具钢和硬质合金, 以及所有可能的其 它基材材料。
         在这方面 , 这些材料的涂覆中已知的问题是两种材料在约 500℃左右的空气中氧 化速度高, 而且在较低温度 ( 对于 HSS 为约 550°, 对于硬质合金为约 650℃ ) 下就已经软 化。而且, 除磨耗之外在成形时还存在玷污待处理材料的讨厌现象。因此, 向工具表面提供 了可显著减少所述磨损过程和所述玷污的适合的保护层。
         在这点上, 现有技术已知的硬质材料层往往基于传统的化合物如 TiN、 TiNC、 CrN, 借助于 PVD 工艺或 CVD 工艺沉积。这类层只能有条件地用于承受高载荷的工具。这些已知 的硬涂层由此由于其特定的物理特性而在其应用领域方面, 特别是在其温度载荷能力方面 存在限制。 一方面, 在升高的温度下硬度显著下降 ; 另一方面, 在较低温度下就已开始氧化, 这会导致在工作温度下增加的层磨损。
         为解决此问题, 主要开发了两类层, 它们具有在直至 1000℃范围内的抗氧化性且 在硬度方面具有提高的性能。
         其中一类层涉及含铝的基层如 AlTiN 和 AlCrN, 其中根据要求还可作为合金加入 其它元素。此范围内的典型化合物为 AlTiXNCO 型的化合物, 其中 X 为例如 Cr 或另一金属。 这类层在切削以及成形时都对于磨损显示出性能的提高。 这可以由在工作温度下硬度的提 高以及抗氧化性的提高这些积极变化推知。
         现有技术中为提高涂层工具 ( 主要是切削工具 ) 的性能而采取的另一种路线是将 传统的硬质材料层作为载体层与作为功能层的面层相结合。在这里, 作为面层尤其要提及 MeSiXNCO 层形式的含硅层 ( 约 1-20 at% ; 在本申请的范围内 at% 表示 " 原子百分比 ") 如 TiSiN, 其能使温度负荷进一步显著提高。这些层通常用于硬化钢的干切。对于这些层当然 也期待在冲压时有性能潜力。
         在下文中提到的硬涂层体系是指施加于特别是切削工具的体系。
         已知的还有例如在镶入式截坯刀上借助于 CVD 工艺切开氧化陶瓷层如 Al2O3, 以能 够对抗在升高的接触温度下特别是在旋转中的磨损过程。
         此外还有处于研究阶段的硼基层如 B4C 或立方 BN 层。然而, 立方 BN 的致命缺陷 在于其制造极其复杂。这主要是由于层生长本身的困难, 还由于层内的高内应力。
         尽管有乞今为止的所有尝试, 但也只在一定程度上成功提供了能满足越来越高的 对机械性能如硬度、 内压应力和耐用性, 摩擦学性能如在更高温度下的粘附趋势和摩擦力, 抗氧化性、 相稳定性及其它特性 (特别是在成形中出现的高表面压力情况下) 的要求的 PVD 或 CVD 涂层。
         一种成功处理选定的高载荷成形工具的已知解决方案是 TD 工艺 ( 丰田扩散工 艺 )。该盐浴工艺在这点上在约 870℃直至约 1030℃的温度范围内进行, 以产生基于 VC 的 扩散层。由此该工艺在高于工具钢的典型回火温度 ( 通常在 500-550℃之间 ) 的处理温度 下进行。该盐浴工艺的已知缺陷, 如在处理之后需要清洗过程, 已无需再赘述。
         已知还可借助于 PVD 工艺沉积 VCN 层。专利申请 JP20005046975A 记述了一种用 于工具的层, 其由直接施加在切削工具上的由 VNC 构成的底层构成。接着沉积另一个耐磨 层。
         在 Surface Science 601 (2007) 1153-1159, A. Glaser 等人 , Oxidation of vanadium nitride and titanium nitride coatings 中对 VN 和 TiN 的氧化特性进行了研 究, 其中发现 VN 在较低的温度下就已形成封闭的均质氧化层。
         根据摩擦学经验, 所述氧化层能够抑制或至少减少工件材料 ( 例如薄钢板 ) 与涂 层工具之间的粘着过程 ( 玷污 )。
         因此本发明的目的在于提供一种用于基材, 特别是工具、 尤其是成形工具、 或磨损 零件的改进的涂层, 其能够克服现有技术已知的问题并特别是具有摩擦学上有积极效果的 氧化行为和相稳定性, 特别是但并非只是对于硬度和内压应力而言的提高的机械性能, 且 其可在不超过所用钢的回火温度的温度下沉积。
         本发明的另一个目的在于提供一种制造所述改进的涂层的方法。
         解决这些目的的本发明的主题特征在于相应独立权利要求的特征。
         从属权利要求涉及本发明的特别有利的实施方案。
         本发明由此涉及一种用于在基材表面, 特别是工具表面、 尤其是成形工具表面上 形成表面层的层体系。其中所述层体系包括至少一个组成为 (VaMebMcXd)α(NuCvOw)β 的第一 表面层, 其中对于层中存在的原子 Va、 Meb、 Mc、 Xd, (a+b+c+d)=α, α=100%, 对于层中存在的 原子 N、 C、 O, (u+v+w)=β,β=100%, 层中所有原子的总和 (α+β)=100 at%, 其中适用 40 ≤ α ≤ 80 at%, 且其中 Meb 为选自由化学元素周期表中的 Zr、 Hf、 Nb、 Ta、 Mo、 W、 Ni、 Cu、 Sc、 Y、 La、 Ce、 Pr、 Nd、 Pm、 Sm 组成的化学元素组的至少一种元素, Mc 为选自由 Ti、 Cr 组成的 化学元素组的至少一种元素, Xd 为选自由元素周期表中的 S、 Se、 Si、 B 组成的化学元素组的 至少一种元素, 其中 0 ≤ u ≤ 100, 0 ≤ v ≤ 100 和 0 ≤ w ≤ 80。根据本发明, 50 ≤ a ≤ 99, 1 ≤ b ≤ 50, 0 ≤ c ≤ 50 且 0 ≤ d ≤ 20。
         在根据本发明的层体系的一种优选实施例中, 40 ≤ α ≤ 80、 特别是 45 ≤ α ≤ 55 适用于层中存在的原子 Va、 Meb、 Mc、 Xd 的下标 α。
         在本发明的进一步的具体实施例中, 可适用 80 ≤ a 和 / 或 c=0 且 d=0 且 v=0 且 w=0, 其中 Meb 优选但并非必须是元素 Zr。
         在另一实施例中, 钒的份数可以由 a=80 或 a=84 或 a=88 或例如 a=97 给出。
         表面层可以特别是具有 (V95Me5)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=30, v=65, w=5, 且其中 Me 优选地为 Ni, 且其中优选地 α=55 at%。
         在另一实施例中, 表面层可以具有 (V96Me4)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=65, v=25, w=10, 且其中 Me 优选地为 Ce, 且其中优选地 α=50 at%。
         在第三实施例中, 表面层具有例如 (V75Me15X10)αNβ 的组成, 其中 Me 优选地为 Mo, 和 / 或 X 优选地为 S, 且优选地 α=52 at%。在第四实施例中, 表面层可以具有 (V75Me15X10)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=25, v=70, w=5, 其中 M 优选地为 Mo, 和 / 或 X 优选地为等份的 Si 和 B。
         本发明的另一个实施例涉及一种其中表面层具有 (V75Me15M10)α(NuCvOw)β 的组成 的层体系, 其中 u=25, v=70, w=5, Me 优选地为 Mo, 和 / 或 M 优选地为 Cr, 且 α 优选地为 52 at%。
         根据本发明, 表面层还可以具有 (V96Zr4)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=0, v=100, w=0, 其中 α 优选地为 40 at%。
         根据本发明, 表面层还可以具有 (V98Zr2)α(NuCvOw)β 的组成, 其中 u=100, v=0, w=0, 其中 α 优选地为 50 at%。
         40 ≤ α ≤ 60, 特别是 45 ≤ α ≤ 55、 优选地 α ≈ 50 特别有利地适用于参 数 α。
         在这点上, 本发明还涉及其中在表面层与基材之间还提供了另一个部分层的层体 系, 该部分层特别是直接施加在基材表面上的粘合层。
         在一个具体实施例中, 所述部分层为组成为 V97Zr3 的粘合层, 和 / 或组成为 V80Zr20 的粘合层。 在本发明的另一实施例中, 所述部分层具有 (Al55Ti45)γNδ 的组成, 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 其中优选地 γ ≈ 50, 且所述部分层特别是为粘合层, 尤其是 直接施加在基材上的粘合层。
         另一实施例涉及组成为 (Al69Cr29Mg1Si1)γNδ 的部分层, 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特别是为粘合层, 尤其是直接施加在 基材上的粘合层。
         所述部分层还可有利地具有 (Al60Cr30Mg5Si5)γNδ 的组成, 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特别是为粘合层, 尤其是直接施加 在基材上的粘合层。
         在另一种情形下, 所述部分层具有 (Cr91Ni3Al3Si3)γNδ 的组成, 其中 γ + δ = 100 at% 且 40 ≤ γ ≤ 60, 且优选地 γ ≈ 50, 其中所述部分层特别是为粘合层, 尤其是直接 施加在基材上的粘合层。
         在此, 本发明还包括具有其它化学组成的进一步的部分层。由此所述部分层也可 以为 TiN 和 / 或 Cr 部分层, 特别是粘合层, 尤其是直接施加在基材上的粘合层。
         为优化整个层的性能, 所述部分层可以由本领域技术人员已知的梯度层例如从基 材表面开始 Cr 含量递增的 TiCrN 构成, 或由多层涂层构成, 例如 Cr/CrN 作为所述部分层中 的层序列。
         本 发 明 的 层 体 系 和 / 或 部 分 层 和 / 或 表 面 层 的 例 如 HK 0.025 硬 度 可 以 为 1500-3500, 特别是 1900-3100, 尤其是 2100-2900。
         所述层体系和 / 或部分层和 / 或表面层的厚度可有利地在 0.01μm-100μm 之间, 特别是在 0.1μm-8μm 之间, 并优选地在 0.2μm-7.5μm 之间, 其中所述层体系的表面粗糙 度 Rz 在 0.2μm-10μm 之间, 尤其是在 0.5μm-5μm 之间, 优选地在 0.5μm-1.5μm 之间, 和 / 或所述层体系和 / 或部分层和 / 或表面层的粘附强度在 HF 1 到 HF 3 的范围内, 特别 是为 HF 2, 优选地为 HF 1。
         本发明还涉及用于制造本发明的层体系的涂覆方法, 其中所述涂覆方法为 PVD 方 法, 优选地电弧涂覆方法如电弧法、 溅射法或电弧涂覆法与溅射法的组合方法。
         为了更好地理解本发明, 表 1 示出了借助于电弧蒸发沉积的对比例 VN( 实施例 A)、 VNC( 实施例 B) 和根据本发明的实施例。本发明的目的在于提高基于 VN、 VNC 的纯 PVD 层 的硬度并由此提高耐磨性而不降低对待涂覆零件的粘附。 V 原子被 Zr 或其它金属的部分取 代将硬度提高了约 10%, 在此对于在氮化物层情形下的 Zr 取代着重考察了实施例 1 和实施 例 2 相对于对比例 A。
         下表显示了根据本发明的表面层的一些选出的实施例。表1: 根据本发明的层体系的选择, 其重要层参数为 : 硬度量度 : 努氏硬度 HK0.025, 粘 附强度测试 : 在硬度为 66 HRC 的 HSS 上 HRC 150kp(VDI 3824)。
         本发明的层体系的应用领域特别是成形工具 ( 尤其是用于半成形和热成形的成 形工具 )、 模制工具 ( 尤其是用于铝模铸的模制工具 )、 切削工具 ( 尤其是用于不锈钢的 ), 以及用于塑料加工的工具, 以及发动机部件 ( 尤其是活塞环 )、 或涡轮部件和泵部件 ( 尤其 是活动件 )。
         制造用于成形工具的根据本发明的层体系的一种特别优选的方法如下 : 实施例 : 工具测试和成形工具 工具钢 : DIN 1.2379 1. 工具经等离子体氮化, 氮化硬度深度约 100μm 2. 将所述工具抛光 3. 加热 / 离子清洗 加热到 400℃用 Ar, 200V 进行 10 分钟的 AEGD 离子清洗 用 VZr,1000V 进行 3 分钟的金属离子轰击 4. 以 200V 涂覆 -200nm 的 VZr 层 -7.1μm 的 VZrN 层, 活性气体 : 氮气 5Pa 5. 结果 HF 等级 1 6. 将所述层抛光至 Rz=0.9μm。
         应用实施例 待成形的材料 : 高强度钢 (JIS:SAPH400) 材料厚度 :2-3mm 冲压能力 :3000t。
         耐久性试验结果 : PVD 涂层 (CrN) : 1000 次 CVD 涂层 (TiC) : 4000 次 根据实施例 1 的 VZrN 涂层 : 7200 次 ( 测试状况 - 无耐久终止 )。 附图中给出了本发明的进一步的优选实施例。其中 : 图 1a-1c : 在根据本发明的涂层体系的表面上通过帽罩进行的抛光 ; 图 2-4 : 双层体系的实施例 ; 图5: 多于两层的实施例。
         图 1 包括图 1a-1c, 其中可看到涂覆基材 100 表面的图象, 该基材已被通过帽罩以 本身已知的方式抛光。图 1a 以 50 倍的放大倍数显示了所述抛光面 ; 图 1b 和 1c 以 500 倍 的放大倍数显示各自的表面区域。
         图 1a 中的中心环形区域 2 是基材 100 的自由抛光表面区域, 其不再具有任何涂 层。圆环 3 为根据本发明的表面涂层 1 的抛光区域 1, 10。外区 1, 11 为未抛光的表面区域。 图中给出了所述表面区域的主要物理参数。所述层的粘附强度为 HF 1。
         图 2-5 显示了具有两个或更多个部分层 4 的实施例, 其中所述部分层可以是化学 计量的和非化学计量的。给出了所述层体系或部分层的各自化学组成。
         图 4 显示了具有给定的阴极组成 V97at%Zr3at% 的根据本发明的测试实施例。
         图 5 显示了一种具有不同的可能底层的通常可用于成形工具的层体系, 图 5 中给 出了所述底层的可能组成。其中, 不同的可能底层 4 的组成是示意性绘制的。其中, 由边线 表征的 Al 层特别是由于较差的导热性而显示出良好的绝热性能。
        

    关 键  词:
    体系 以及 用于 制造 方法
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